An imaging section 10 forms a test pattern image 9 on a printing medium 1, and a detecting section 2 detects its density. 印刷媒体1に、作像部10がテストパターン画像9を形成し、検出部2がその濃度を検出する。 - 特許庁
Repeated exposure on the periphery of the pattern may be performed using a part of the electron beam exposure mask. 前記パターンの周辺部に重ねてする露光は、前記電子ビーム露光用マスクの一部を用いて行っても良い。 - 特許庁
Notches on the boundary of the pattern and the background does not become conspicuous by blend processing according to the ratio data. 比率データに従ったブレンド処理によりパターンと背景との境界部分におけるギザギザが目立たなくなる。 - 特許庁
The imager includes several pixels 110 disposed on a base material 105 by forming an array pattern for imaging. イメージャは、撮像用アレイ・パターンを成して基材(105)上に配設されている幾つかのピクセル(110)を含んでいる。 - 特許庁
In the dimension measuring pattern 7, a plurality of same formation patterns are periodically arranged on a semiconductor substrate. 寸法測定パターン7は、複数個の同一形状パターンが周期的に半導体基板上に配列されている。 - 特許庁
On the basis of the luminance value, a luminance difference is calculated (S44), and the variation pattern of the luminance difference is determined (S45). その輝度値に基づいて、輝度差分を算出し(S44)、さらに、輝度差分の変化パターンを決定する(S45)。 - 特許庁
When the semiconductor switch 12 is turned on, the drain current of the semiconductor switch 12 is increased and reduced in a sinusoidal pattern. 半導体スイッチ12がオンの時、半導体スイッチ12のドレイン電流は正弦波状に増加し、減少する。 - 特許庁
A first electrode pattern layer 12a composed of a second paint is formed on the surface of the first green sheet 10a. 第1グリーンシート10aの表面に第2塗料から成る第1電極パターン層12aを形成する。 - 特許庁
A predetermined intensity distribution pattern 2a is given to a deformable member 2, on which a reflecting film (mirror face) 3 is formed. 反射膜(ミラー面)3が形成された可撓性部材2に対して所定の強度分布パターン2aを与える。 - 特許庁
A natural magnetic pattern 13 for indicating the absolute angle with a digital value is formed on the disc substrate 11. ディスク基板11上にはその絶対角度をデジタル値で示す固有の磁気パターン13が形成されている。 - 特許庁
First pattern layers 14a are formed above a worked layer 13 on a semiconductor substrate by patterning resist. 半導体基体上の被加工層13の上に、レジストをパターニングして第1のパターン層14aを形成する。 - 特許庁
A DOE element 3 is located on the upper part (light source side) of a reticle main body 1 formed with a pattern (pinhole) 2. パターン(ピンホール)2が形成されたレチクル本体1の上部(光源側)にDOE素子3が配置されている。 - 特許庁
A user operates a mouse and selects a desired point on the eye pattern display region by a crosshair mouse cursor 40. ユーザは、マウスを操作して十字マウスカーソル40で、アイパターン表示領域上の任意の点を選択する。 - 特許庁
To provide a method for decomposing a target pattern containing features to be printed on a wafer into multiple patterns. ウェーハ上に印刷されるフィーチャを含むターゲットパターンを複数パターンに分解するための方法を提供する。 - 特許庁
A first catalyst (12) is adhered by a repeating cell patternon the first side of a proton exchange membrane film (10). プロトン交換膜フィルム(10)の第1の側に繰り返しセルパターンにて第1の触媒(12)を付着させる。 - 特許庁
On a principal surface of a sapphire wafer 5, a mask 31 having a pattern selectively covering a cutting expectation line 7 is formed. サファイアウエハ5の一主面に、切断予定ライン7を選択的に被覆するパターンのマスク31が形成される。 - 特許庁
METHOD OF FORMING INORGANIC THIN-FILM PATTERNON METAL BASE PLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRODE FOR LITHIUM SECONDARY BATTERY 金属基板上に無機物薄膜パターンを形成する方法およびリチウム二次電池用電極の製造方法 - 特許庁
A lower electrode, a ferroelectric film pattern and a first upper electrode are successively laminated on a semiconductor substrate. 半導体基板上に下部電極、強誘電体膜パターン及び第1上部電極が順次に積層される。 - 特許庁
On the gallium nitride layer, a mask layer such as photoresist, a metal layer, or a dielectric layer is pattern-formed in a stripe. 窒化ガリウム層上で、フォトレジストなどのマスク層、金属層または誘電体層をストライプにパターン形成する。 - 特許庁
To provide a method of forming patterns on semiconductor element whereby a phenomenon of destroying photoresist pattern can be prevented. フォトレジストパターンが崩れる現象を防止することができる半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
As a result, a spraying film 3 is formed on the convexoconcave of the electrode pattern 2 and recesses become a helium gas passage 4. これによって、電極パターン2の凹凸に沿って溶射膜3が形成され、その凹部がヘリウムガス通路4となる。 - 特許庁
A thermal oxide film 11 is formed on an electrode substrate 1 and then a recessed pattern having specified gradient and depth is formed. 電極基板1に熱酸化膜11を形成して所定の勾配と深さを有する凹パターンを形成する。 - 特許庁
No dummy pattern is formed in the region within the predetermined distance on both sides of the second gate electrode. ダミーパターンは、第2のゲート電極の両側方における所定の距離以内の領域には形成されていない。 - 特許庁
The drawing of a patternon the obverse 11 by the poppy side 11a and the designed surface 11b helps improve the design. 表面11にけし面11aとデザイン面11bとで図柄を描出すると、意匠性が高まる。 - 特許庁
A terminal component 2 comprises the electrode pattern 12 integrally formed on a substrate 21 consisting of insulator. 端子部品2は、絶縁体からなる基体21上に一体的に形成された電極パターン12を備えている。 - 特許庁
An electrode pattern including a common electrode 2 and a plurality of grounding side lead conductors 4 are formed on a substrate. 共通電極2と複数の接地側リード導体4とを含む電極パターンを基板上に形成する。 - 特許庁
ALKALI DEVELOPING TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERNON GREEN SHEET BY USING THE RESIN COMPOSITION アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いたグリーンシート上へのパターン形成方法。 - 特許庁
A cup-supporting member 7 having a prescribed linear designed pattern is placed on the front surface of a cup part 1. カップ部1の前側表面にはライン状の所定のデザイン形状を施したカップ支持部材7が設けられる。 - 特許庁
A fluororesin tube (4) is attached on the outer circumference surface of the ceramic pipe (2) to cover the heat generating pattern. セラミックのパイプ(2)の外周面上に発熱体パターンを覆うようにフッ素樹脂チューブ(4)を装着する。 - 特許庁
Then the resist is exposed to light by forming the image of the formed aperture with pattern 12 on the wafer by means of the electron beam. そして、電子線によりパターン付成形開口12の像をウエハ上に結像させて、レジストを感光させる。 - 特許庁
The formed recess is filled with electrode paste, thereby the electrode pattern is formed on the ceramic green sheet 21. 形成した凹部に電極ペーストを充填することにより、セラミックグリーンシート21に電極パターンを形成する。 - 特許庁
A second arm part is formed on the first arm part by forming the pattern of the second photoresist layer. 第2の腕部が、第2のフォトレジスト層をパターン形成することによって第1の腕部上に形成される。 - 特許庁
As a result, the pattern having the prescribed cross section shape can be surely formed on the substrate 9. その結果、基板9上に所定の断面形状を有するパターンをより確実に形成することができる。 - 特許庁
Data with the specific data pattern are retrieved efficiently, even if the data on the bus are of large frame size. フレームのサイズが大きいバス上のデータでも、特定のデータパターンのデータを効率的に検索することができる。 - 特許庁
It is preferable that the layer 8 where silver ions are introduced is also included on the surface where the transparent electrode pattern 2 is provided. 銀イオンが導入された層8は、透明電極パターン2が設けられた面にもあることが好ましい。 - 特許庁
This scanning exposure apparatus projects the exposure pattern of a mask on a substrate 1 by a plurality of microlens arrays 2. スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ2により、マスクの露光パターンが基板1上に投影される。 - 特許庁
Other wiring layer of the same layer is arranged in a relatively dense patternon the periphery of upper layer wiring layer 13. 上層配線層13の周辺には同じ層の他の配線層が比較的密なパターンで配されている。 - 特許庁
An insulating film 7 covering a laminate of the lower electrode 3a and the resist pattern 5a is formed on the substrate. 下部電極3aおよびレジストパターン5aの積層体を覆う絶縁膜7を基板上に成膜する。 - 特許庁
A conductive film 5 made of titanium as main components is formed on a lower electrode 3a included in the circuit pattern 3. 回路パターン3に含まれる下部電極3aの上にチタンを主成分とする導電膜5を形成する。 - 特許庁
A trench isolation region 12 having a dummy pattern 12DMY of trench is formed on a semiconductor substrate 10. 半導体基板10上にトレンチのダミーパターン12DMYを有するトレンチ素子分離領域12を形成する。 - 特許庁
The positioning when a mask pattern is exposed on a substrate is performed using the alignment information obtained when the exposing operation is performed. 露光中に得られたアライメント情報を使用して、基板にマスクパターンを露光するときの位置決めを行なう。 - 特許庁
A dummy pattern is formed on the outside of device patterns formed in an exposure region in the surface of a photomask. フォトマスクの面内における露光領域内に形成されたデバイスパターンの外側にダミーパターンを形成する。 - 特許庁
A conductive film 7 containing titanium as its main component is formed on a lower electrode 3c included in the circuit pattern 3b. 回路パターン3bに含まれる下部電極3cの上にチタンを主成分とする導電膜7を形成する。 - 特許庁
To accurately duplicate a pattern in a nanometer scale on the surface of a large area. ナノメートルのスケールのパターンを複製する方法において、そのパターンを大面積の表面に正確に複製する。 - 特許庁
A wiring pattern 12 formed by a conductive layer is formed on one surface of the base material film 11 of the flexible circuit board. フレキシブル回路基板の基材フィルム11の一面には、導電層で形成する配線パターン12を設ける。 - 特許庁
Afterwards, a contrast improvement layer 16 of a given pattern is formed on the surface of the first dielectric layer 14a. その後、第1誘電体層14aの表面に所定パターンのコントラスト向上層16を形成する。 - 特許庁
A mask pattern 14 is formed on a semiconductor substrate 11, and oxygen ions 15 are implanted from the upper side of the substrate. 半導体基板11上にマスク・パターン14を形成し、基板上部から酸素イオン15を注入する。 - 特許庁
After carefully covering the entire pattern with the same resisting agent as used on the contours ('fusenori'), the cloth is dyed with the base color.
輪郭にも使った防染剤で丁寧に模様全体を覆った後に(「伏せ糊」)地の色の染料を染める。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Its feature is that the tune is changed into the Banshiki-cho (a scale similar to Dorian mode on B) following the Oroshi pattern (an element that mainly concerns the slowing of tempo in all the instruments and a lowering of the melodic line of the nokan, or Noh fue) in the first section.
初段のオロシ以降が盤渉調に転調するのが特色である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Still today the Chayatsuji is a popular pattern for summer homon-gi (a kimono worn when visiting someone's home or formal parties) and tomesode (a formal black kimono worn by married women) and is dyed mainly on silk product.
現在も主に夏の訪問着や留袖の模様として、主に絹製品に染められている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス