「pattern on pattern」を含む例文一覧(29471)
＜前へ 1 2 .... 67 68 69 70 71 72 73 74 75 .... 589 590 次へ＞- A hanging part 7d is connected with an upper part 7a of the pattern 7 drawn on the side piece.
側片１ｃに描かれた絵柄７の上部分７ａに、吊り下げ部７ｄを連設する。 - 特許庁 - A resin layer 3 is disposed on at least one face of a glass substrate 2 having a mask pattern 1.
マスクパターン１を有するガラス基板２の少なくとも片面に樹脂層３を設ける。 - 特許庁 - Subsequently, ashing treatments are applied on the upper layer resist pattern and the lower resist layer 103.
次に、上層レジストパターン及び下層レジスト層１０３に対しアッシング処理を実行する。 - 特許庁 - Recesses 2 are formed in a predetermined pattern shape on the surface of an intaglio 1 for printing.
印刷用凹版１の表面に凹部２が所定パターン形状に形成されている。 - 特許庁 - The second terminal electrode 18 is connected to the ground pattern formed on the printed board 20.
第２の端子電極１８は、プリント基板２０上のグランドパターンに接続されている。 - 特許庁 - And then, the inclination of the recording head 6 is detected based on the detection signal of the detection pattern 100.
そして、検知パターン100の検知信号に基づいて、記録ヘッド6の傾きを検出する。 - 特許庁 - The presence/absence of the operation of the brake pedal 2 is detected based on the state of the moving pattern.
前記移動パターンの状態に基づきブレーキペダル２の操作の有無を検知する。 - 特許庁 - An exposure device 10 exposes a pattern of a predetermined mask 18a on a target work 23.
対象ワーク２３上に所定のマスク１８ａパターンを露光する露光装置１０である。 - 特許庁 - The decompression device 10 performs a predetermined etching processing on a wafer using a resist pattern as a mask.
減圧処理装置１０は、レジストパターンをマスクとしてウェハにエッチング処理を施す。 - 特許庁 - A wiring pattern electrode 13 is formed on an upper face of the mounting region 1B.
搭載領域１Ｂはその上面に配線パターン電極１３が形成されている。 - 特許庁 - Further, the diffraction gratings are arranged so as to express pattern information on margin cells 64.
さらに、余白セル６４に絵柄情報を表現するように回折格子を配置する。 - 特許庁 - In the imprint unit 3, a resist pattern is formed on a wafer W by using the template T.
インプリントユニット３では、テンプレートＴを用いてウェハＷ上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - In the imprint unit 4, a resist pattern is formed on a wafer W by using the template T.
インプリントユニット４では、テンプレートＴを用いてウェハＷ上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - An exposure condition generation part 427 controls imaging by a photographing part based on the opening/closing pattern.
露光条件生成部427は、開閉パターンに基づき撮影部による撮像を制御する。 - 特許庁 - The conductive pattern layer 6 is formed on at least the three-dimensional surface.
そして、導電パターン層６は、少なくともその立体形状面の上に形成されている。 - 特許庁 - IMAGE FORMING DEVICE, METHOD FOR EMBEDDING HIDDEN PATTERN AND RECORDING MEDIUM ON WHICH PROGRAM IS RECORDED
画像形成装置、隠しパターン埋め込み方法及びプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁 - A desired pattern is formed on the thin film 2 through photolithography and etching.
そして前記薄膜２にフォトリソグラフィ−およびエッチングを介して所望のパタ−ンを形成する。 - 特許庁 - Thus, pattern processing can be performed with uniformity on a base film, after the development.
よって、現像処理後に行う下地膜のパターン加工を均一性良く行うことができる。 - 特許庁 - The high foamed layer may be arranged on the entire surface or arranged to form a design pattern.
高発泡層は、全面に設けられていてもよいし、図柄状に設けられていてもよい。 - 特許庁 - A constitution wherein a light storing picture pattern layer 1 with light storing properties is formed on a base material B is provided.
基材Ｂに、蓄光性を有する蓄光絵柄層１が形成された構成とする。 - 特許庁 - A decorative pattern 22c is formed in the handle cover 22 itself on the back of the handle cover 22.
ハンドルカバー２２の後面にハンドルカバー２２自体で化粧模様２２ｃが形成されている。 - 特許庁 - The pattern is arranged on a mask, and the image is made by using a part of a projection system.
パターンはマスク上に配置してあり、その像を投影システムの一部を使って作る。 - 特許庁 - The recording medium is fed to a position where this pattern faces opposite to a nozzle on the downstream side.
このパターンが下流側のノズルと対向する位置まで記録媒体の搬送を行う。 - 特許庁 - To simply form a fine marble pattern having high sensuousness on the surface of a cosmetic.
化粧料の表面に審美性の高いきめ細かなマーブル模様を簡易に形成する。 - 特許庁 - To quickly recover deterioration in a radiation pattern on the occurrence of a fault in an antenna element.
アンテナ素子の故障時において、迅速に放射パターンの劣化を迅速に回復する。 - 特許庁 - To control more minutely a step shape of a resist pattern formed on a target transfer body.
被転写体上に形成するレジストパターンの段差形状をより精緻に制御する。 - 特許庁 - A conductive pattern 12a is formed on the surface of a deflector 12, namely the mounted material.
被取付物であるディフレクタ１２の表面に、導電性パターン１２ａが形成される。 - 特許庁 - A position-detecting pattern is formed on an image retaining body and is detected by a density sensor.
位置検出用パターンを像保持体上に形成して濃度センサにて検出する。 - 特許庁 - The second pattern of the mask 31 is provided on the second area of the semiconductor region 13.
マスク３１の第２のパターンは、半導体領域１３の第２のエリア上に設けられる。 - 特許庁 - A softened sheet is formed by softening a printed sheet on which the pattern of a shape to be worked is formed.
加工形状のパターンを形成した印刷シートを軟化し、軟化シートを形成する。 - 特許庁 - A communication station determines a seed and determines a frequency channel switching pattern on the basis of the seed.
通信局は、シードを決定しこれを基に周波数チャネル切替パターンを生成する。 - 特許庁 - To provide a technique for more accurately detecting the position of a pattern on a substrate.
基板上のパターンの位置をより精度良く検出する技術を提供することにある。 - 特許庁 - In a mesh sheet C, a horizontally oriented picture pattern 4 is depicted on the other end of the fabric 1.
メッシュシートＣは、生地１の反対側の端部に横長の絵柄４を形成する。 - 特許庁 - By generating negative pressure by means of that, the pattern film 4 is retained on the die 6.
それによって負圧を発生させることで、模様フィルム４が金型６に保持される。 - 特許庁 - The imager array includes several pixels(110) which are positioned on a substrate in a imaging array pattern.
イメージャアレイは、イメージングアレイパターンで基板上に配置される多数のピクセル（１１０）を含む。 - 特許庁 - The parts 5 are electrically connected to a ground pattern G on the circuit board 1 side.
その樹脂部品５と回路基板１側の接地パターンＧとを電気的に接続する。 - 特許庁 - On the examination card 12, an encoded pattern formed by encoding coordinates is printed.
検査票１２には、座標を符号化して表した符号化パターンが印刷されている。 - 特許庁 - The exposure apparatus exposes a substrate by transferring a pattern image on the substrate through the liquid.
露光装置は、パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する。 - 特許庁 - After a plating electrode film 3 has been formed on a substrate 1, a resist pattern 4 is formed thereon.
基板１にめっき電極膜３を形成した後、レジストパターン４を形成する。 - 特許庁 - To provide a disk device itself with a disk access scheduling function based on an access pattern.
アクセスパターンに基づいたディスクアクセスのスケジューリング機能をディスク装置自身に持たせる。 - 特許庁 - The conductive layer 10b of a predetermined wiring pattern is formed on an insulating layer 10a.
絶縁層１０ａ上に所定の配線パターンの導体層１０ｂを形成する。 - 特許庁 - An interlayer insulating film pattern for demarcating a hole region is formed on a semiconductor substrate.
半導体基板上にホール領域を画定する層間絶縁膜パターンを形成する。 - 特許庁 - To form a desired pattern on a film to be etched by in etching that uses, multilayer resist.
多層レジストを用いたエッチングにおいて、被エッチング膜に所望のパターンを形成する。 - 特許庁 - Then a second pattern is formed on the resist film by ashing and the metal layer is etched.
その後アッシングによりレジスト膜に第２のパターンを形成し、金属層をエッチングする。 - 特許庁 - An IC module 24 is mounted on IC module connection parts 18, 20 of the antenna pattern.
続いて、アンテナパターンのＩＣモジュール接続部１８，２０上にＩＣモジュール２４をマウントする。 - 特許庁 - To suppress variation of shape formed on a processed film to a photo mask pattern.
フォトマスクのパターンに対して、被加工膜に形成される形状が変動するのを抑制する。 - 特許庁 - A resist pattern 3 is formed on a TEOS (tetraethylorthosilicate) film 2 using the KrF lithography technique.
ＴＥＯＳ膜２上にＫｒＦリソグラフィ技術を用いてレジストパターン３を形成する。 - 特許庁 - An array pattern 7 is formed on the upstream side along a moving direction B of a rubbing roll 32.
ラビングローラ32の移動方向Ｂに沿った上流側にアレイパターン７が形成されている。 - 特許庁 - A first coil is formed of a wiring pattern 15 formed on the surface of an insulating layer 2-2.
絶縁層２−２の表面の配線パターン１５で第１のコイルが形成される。 - 特許庁 - To pattern a polymer film on a substrate without impairing the superior property of the polymer film.
ポリマー膜の優れた特性を損なうことなく基板上にポリマー膜をパターン形成する。 - 特許庁
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