「pattern on pattern」を含む例文一覧(29471)
＜前へ 1 2 .... 79 80 81 82 83 84 85 86 87 .... 589 590 次へ＞- A notice performance pattern selecting means 64 selects a pattern of the performance of the notice from the selected data table, and a notice performance means 65 gives the performance of the notice of possibility of winning a specific premium based on the pattern of the performance of the notice.
告知演出パターン選択手段６４は、選択したデータテーブルから告知演出のパターンを選択し、告知演出手段６５は、告知演出のパターンに基づいて、特定役の当選可能性の告知演出を行う。 - 特許庁 - The surface of the sample object 2 and/or the sample portion 4 has a decoration portion 8 formed for sterically producing a first pattern 10a and a second pattern 10b of a pattern layer 10 which is printed on the sample object 2 and/or sample portion 4.
また、見本体２及び/又は見本部４の表面には、該見本体２及び/又は見本部４に印刷された模様層１０の第１模様１０ａと第２模様１０ｂを立体的に現出する装飾部８が形成されている。 - 特許庁 - This method includes a step of forming a pattern of a column spacer 300 on a printing roll 100, a step of forming a pattern of an overcoat layer 350 on the printing roll 100 carrying the pattern of the column spacer 300, and a step of transferring the overcoat layer 350 and the pattern of the column spacer 300 on a substrate 200, by rolling the printing roll 100 on the substrate 200.
印刷ロール１００にカラムスペーサー３００のパターンを形成する工程と、カラムスペーサー３００のパターンが形成された印刷ロール１００にオーバーコート層３５０のパターンを形成する工程と、基板２００上で印刷ロール１００を回転させ、基板２００上にオーバーコート層３５０およびカラムスペーサー３００のパターンを同時に転写する工程とを含んでなることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method for exposing a resist layer on a substrate to an image of a pattern on a mask, and a lithographic projection apparatus.
基板上のレジスト層をマスクの模様の像に露光する方法、およびリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁 - The winning history is displayed on a liquid crystal display (5) based on history pattern display tables A, B.
入賞履歴は、履歴パターン表示テーブルＡ，Ｂに基づいて、液晶表示装置（５）において表示される。 - 特許庁 - A first dummy pattern 18 is provided on a green resin layer 16 having the highest hardness on the outer side of a color filter layer 14.
カラーフィルタ層14の外側に最も硬度が高い緑色樹脂層16にて第１ダミーパターン18を設ける。 - 特許庁 - The background object and the picture pattern object are set on a projection plane set on the basis of the viewpoint (T6).
視点に基づいて設定された投影平面に、背景オブジェクトおよび図柄オブジェクトを設定する（Ｔ６）。 - 特許庁 - A dielectric film 15 is formed on a first substrate 11 having an uneven pattern at least on its one surface.
少なくとも片側に凹凸パターンが形成された第一の基板１１上に、誘電体膜１５を形成する。 - 特許庁 - A pattern, based on a minute or fine metallic structural body 4, is formed on each substrate 2, 3.
各基板２、３上にはそれぞれ微小または微細な金属構造体４によるパターンが形成されている。 - 特許庁 - When the input data coincides with a pattern (xxxx110111) , a minimum run continuation limit processing part 52 outputs an expectation flag outputs "on".
最小ラン連続制限処理部52は、入力データがパターン（xxxx110111）と一致するとき、予想フラグonを出力する。 - 特許庁 - The dry film resist has a photosensitive resin layer having the cured resist pattern on a support film and a protective layer on the resin layer.
支持体フィルム上に硬化レジストパターンを有する感光性樹脂層次いで保護層を有するドライフィルムレジスト。 - 特許庁 - The patterning method of an organic EL element comprises radiating a laser beam on an organic EL element, and forming a light emitting pattern on the organic EL element.
有機ＥＬ素子上にレーザビームを照射して、発光パターンを有機ＥＬ素子上に形成する。 - 特許庁 - An insulator layer 13 is arranged on a land 12 and a first wiring pattern arranged on an insulating substrate 11.
絶縁基板１１上に設けた第１の配線パターンおよびランド１２上に絶縁体層１３を設ける。 - 特許庁 - The texture image of the subject is imaged on the right half face 28R, and the pattern image is imaged on the left half face 28L.
右半面２８Ｒで被写体のテクスチャ画像を撮像し、左半面２８Ｌでパターン画像を撮像する。 - 特許庁 - To provide an imprint device that is advantageous in detecting moire fringes formed on a mark formed on a pattern and a substrate.
型および基板に形成されたマークにより生じるモアレ縞の検出に有利なインプリント装置を提供する - 特許庁 - Consequently wiring pattern peeling and chipping that occur on the work surface, on the rear side of the blade, are prevented.
これにより、ブレードの後方側におけるワーク表面に発生するチッピング、配線パターン剥がれ等を防止する。 - 特許庁 - On a surface of the passivation film, grooves are formed as a location information pattern indicating a location on the wafer.
そして、このパッシベーション膜の表面に、ウエハ上の位置を示す位置情報パターンとして、溝を形成する。 - 特許庁 - The remaining film on the resist layer corresponding to the pattern is removed on the basis of the measured remaining film thickness.
そして、測定された残膜厚さに基づいてパターンに対応するレジスト層における残膜を除去する。 - 特許庁 - An insulating film is formed on a substrate, and a resistance film containing the TaN film is formed in a pattern on the insulating film.
基板上に絶縁膜を形成し、前記絶縁膜上に、ＴａＮ膜を含む抵抗膜をパターン形成する。 - 特許庁 - To accurately plot a pattern on a sample by correcting the irradiation position of electron beams which are irradiated on the sample.
試料に照射される電子線の照射位置を補正することにより、精度よく試料にパターンを描画する。 - 特許庁 - Then, hide glue is coated thick on the upper surface of the bamboo charcoal powder, and a pattern is formed on the upper surface by an inkjet printer.
次に、竹炭粉の上面に膠を厚めに塗装し、その上面にインクジェットプリンタで模様を形成する。 - 特許庁 - In a heating process, a first resist pattern is formed on the first resist layer, based on a first temperature curve.
加熱工程において、第１の温度曲線を基に第１のレジスト層上に第１のレジスト パターンを形成する。 - 特許庁 - A chip capacitor C of ceramic is mounted on the inner-layer copper pattern 28 formed on the substrate 20.
基板２０上に形成された内層銅パターン２８には、セラミックから成るチップコンデンサＣが実装されている。 - 特許庁 - To efficiently expose patterns on a plurality of pattern transfer regions arranged variously on a substrate subjected to the exposure.
露光対象の基板上の種々の配列の複数のパターン転写領域に効率的にパターンを露光する。 - 特許庁 - To provide an interposer that can prevent the disconnection of a wiring pattern on an IC chip mounted on a package substrate.
パッケージ基板に搭載したＩＣチップで配線パターンの断線を防ぐことができるインターポーザを提供する。 - 特許庁 - A gate insulating film is formed on the channel area, and a gate pattern is formed on the gate insulating film.
チャンネル領域上にゲート絶縁膜が形成されており、ゲート絶縁膜上にゲートパターンが形成されている。 - 特許庁 - To prevent a pattern on a coating film layer, which is formed on the rear surface of a transparent base material by hydraulic transfer, from being disturbed.
水圧転写により透明基材の裏面に形成される塗膜層の絵柄が乱れないようにする。 - 特許庁 - The transfer device transfers a pattern on a target object on a substrate 102 by contacting a mold 101 with the object.
転写装置は、型１０１を接触させることにより基板１０２上の被転写物にパターンを転写する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor wafer which does not cause a damage on a pattern on the main surface side when working with a backside.
裏面の加工時に、主面側のパターンにダメージを与えない半導体ウェハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a correction method when a recessed flaw exists on the opposite side to the surface on which a pattern of a photomask is formed.
フォトマスクのパターンが形成された面の反対側に凹状のキズがある場合の修正方法を提供する。 - 特許庁 - The flexible board 52 is equipped with a wiring pattern, formed on a film and provided with an LSI chip mount on its top surface.
フレキシブル基板５２は、フィルムの表面に配線パターンを有し、且つ上面にＬＳＩチップ搭載部を有する。 - 特許庁 - In an exposure process, a reticle 10 is placed on a reticle stage 11, and a circuit pattern on the reticle 10 is illuminated.
露光中はレチクルステージ１１上にレチクル１０が配置され、レチクル１０上の回路パターンを照明する。 - 特許庁 - To provide a method of extremely easily forming a semiconductor pattern on a semiconductor thin film on the surface of a substrate.
基板の表面上の半導体薄膜に極めて簡便に半導体パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - A photograph 2 or a pattern is pasted on the surface of the plate part 1 and a transparent coating layer 3 is provided on it.
プレート部１の面上に写真２又は絵柄を貼り付け、その上に透明なコーティング層３を設ける。 - 特許庁 - An input signal waveform pattern is drawn on the drive waveform input form based on the dot-arranged symbol.
ドット配置したシンボルに基づいて駆動波形入力フォーム上に入力信号波形のパターンを描画する。 - 特許庁 - An insulating layer 3 is formed on the rounded parts and corner parts of the wiring pattern 2 except on the rectilinear parts.
配線パターン２の直線部以外の領域、すなわちＲ部や角部には、絶縁層３が形成されている。 - 特許庁 - The determination means determines existence of a defect on the pattern based on the signal from the detection means.
前記判定手段は、前記検出手段からの信号に基づいて前記パターンの欠陥の有無を判定する。 - 特許庁 - A conductive pattern 12 is formed on the surface of a circuit substrate 10 having an insulating layer 11 provided on the surface.
表面に絶縁層１１が設けられた回路基板１０の表面に導電パターン１２を形成する。 - 特許庁 - A lens pattern is formed on a surface of a light transmitting cover 12 arranged on a front face of the light emitting diode 14.
発光ダイオード１４の前面に設けられた透光性カバー１２の表面にレンズパターンを形成する。 - 特許庁 - In this radiation electromagnetic wave inhibition printed circuit board, dielectric constant differs depending on a position on a flat pattern.
ベタパターン面上の位置によって誘電率が異なることを特徴とする放射電磁波抑制プリント基板。 - 特許庁 - The first resist pattern is formed on a light shielding film of a mask blank formed with the light shielding film on a substrate.
基板上に遮光膜が形成されたマスクブランクの該遮光膜上に第１のレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - Thereafter, a concave and convex shape 2 is obtained on the substrate by drawing a pattern with an electron beam on the resist layer 7, and developing it.
次に、電子線によりパターンをレジスト層７に描画し、現像を経て基板上に凹凸形状２を得る。 - 特許庁 - Next, a circuit pattern 11 formed on a substrate 10 is mounted on the exposed wiring 2 and the protection film 4.
次に露出した配線２と保護膜４上に、基板１０に形成された回路パターン１１を設置する。 - 特許庁 - An ITO film 6 is formed by application on a transparent insulation substrate 1 on which a light shielding film pattern 4 is formed.
遮光膜パターン４が形成された透明絶縁基板１上に、ＩＴＯ膜６を塗布により形成する。 - 特許庁 - A pen nib 69a of an electronic pen 60 points out the position on the medium 50 on which a code pattern image is formed.
電子ペン６０のペン先６９ａは、コードパターン画像が形成された媒体５０上の位置を指示する。 - 特許庁 - A pattern 2 of photoresist, having connection holes 2a, is formed on a wiring layer 1 on a wafer W.
ウェハＷ上に形成された配線層１にフォトレジストで接続孔２ａを有するパターン２を形成する。 - 特許庁 - After an inter-layer insulation film 17 is deposited on the surface thereof, a contact hole 18 is formed depending on the pattern.
そして、この上面に層間絶縁膜１７を堆積したのち、これにコンタクトホール１８をパターニング形成する。 - 特許庁 - The performance control microcomputer executes the variation of the ornamental symbols on a variable display device 9 based on the determined variation pattern.
決定した変動パターンにもとづいて可変表示装置９において飾り図柄の変動を実行する。 - 特許庁 - In the circuit pattern inspection system, when a semiconductor wafer having a plurality of chip areas (dies) having the same circuit pattern is inspected, a detection image for each chip area is displayed on a monitor, and a circuit pattern defect is inspected based on the detection image for each chip area.
回路パターン検査装置では、同一の回路パターンを有する複数のチップ領域（ダイ）を有する半導体ウエハを検査するとき、チップ領域毎の検出用画像をモニタに表示し、チップ領域毎の検出用画像から、回路パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁 - To make detectable defects in a fine pattern on a transparent layer insulating film and on the same layer with high sensitivity while detecting the defects of a lower layer pattern and the same pattern in the defocused state to detect only the defect of a process to be originally inspected.
透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。 - 特許庁
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