「pattern processing」を含む例文一覧(4002)
＜前へ 1 2 .... 9 10 11 12 13 14 15 16 17 .... 80 81 次へ＞- A color correction processing section 51 selects the color correction table to be used for color correction processing for each pixel on the basis of a mask pattern stored in a mask pattern storage section 54 and uses the selected color correction table to perform color correction processing of each pixel.
色補正処理部５１は、マスクパターン記憶部５４に記憶させておいたマスクパターンに基づいて色補正処理に用いる色補正テーブルを画素毎に選択し、選択した色補正テーブルを用いて各画素の色補正処理を行う。 - 特許庁 - To achieve pattern matching processing having high speed processing by obtaining processing for simply performing registration of a template supposing that size is varied and position precision sufficient in measurement in pattern matching for specifying a measurement position.
測定位置を特定するためのパターンマッチングにおいて、大きさが変動することを想定したテンプレートの登録を簡便に行う処理及び、測定に十分な位置精度が得られ、なおかつ処理が高速なパターンマッチング処理を実現する。 - 特許庁 - This method for producing clothes comprises inputting user information such as sizes into a computer, making processing information and an electronic dress pattern from the user information in a server, printing a processing instruction sheet from the processing information, and storing the electronic dress pattern in the server.
寸法等のユーザ情報をコンピュータに入力し、サーバ内でユーザ情報から加工情報と電子型紙を作成し、加工情報により加工指示書を印刷すると共に、電子型紙情報はサーバに記憶しておく。 - 特許庁 - In addition, a detection part 6 which detects a pattern to be an object for signal processing from an image is provided.
また、画像から信号処理の対象となるパターンを検出する検出部６を設ける。 - 特許庁 - To provide a pattern recognition device capable of shortening a processing time and reducing a cost.
処理時間の短縮化および低コスト化を図ることができるパターン認識装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor processing system, which generates an uniform accumulated film by a uniform gas flow pattern.
均一なガスフローパターンにより均一な堆積フィルムを生じる半導体処理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and a mask manufacturing method which are capable of high precision pattern forming.
高精度なパターン形成が可能な基板処理方法及びマスク製造方法を提供する。 - 特許庁 - Also, this device is provided with a signal processing circuit for smoothing the changing pattern of the high/low of the received signal.
また、受信した信号のハイ／ローの変化パターンを平滑化する信号処理回路を有する。 - 特許庁 - To form a pattern on a substrate regularly and uniformly as much as possible in spacer lithographic processing.
スペーサリソグラフィ処理において基板に形成されるパターンをできるだけ規則的かつ均一にする。 - 特許庁 - To easily vary the operational pattern of a cash processing apparatus without collecting cash outside of the apparatus.
装置外に現金を回収することなく、現金処理装置の運用パターンを簡易に変更する。 - 特許庁 - To improve a throughput by efficiently preventing variation generated in a pattern dimension after processing.
加工後のパターン寸法にバラツキが生ずることを効率的に防止し、スループットを向上する。 - 特許庁 - To decide presence/absence of an abnormality of an image processing circuit itself without printing a test pattern on paper.
テストパターンを用紙にプリントすることなく、画像処理回路自体の異常の有無を判断する。 - 特許庁 - When any operation pattern does not exist, a modeling processing part 20 generates the operation data of the object.
動作パターンが存在しない場合に、モデリング処理部２０が、オブジェクトの動作データを生成する。 - 特許庁 - To reduce the effect of a particular pattern such as a black-dot isolated noise in drive distribution processing.
駆動分配処理における黒点の孤立ノイズなどの特異なパターンの影響を低減する。 - 特許庁 - To provide an object detection apparatus which detects a line pattern with high precision, while suppressing a processing load.
処理負荷を抑えながら、高精度に線模様を検出する物体検出装置を提供する。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, REPLICATION METHOD OF MOLD STRUCTURE AND MOLD STRUCTURE
パターン形成方法、並びに基板加工方法、モールド構造体の複製方法、及びモールド構造体 - 特許庁 - A binarization processing part 21 generates a pattern image by binarizing the reflected light image with a pixel unit.
２値化処理部２１は、反射光画像を画素単位で２値化してパターン画像を生成する。 - 特許庁 - The CPU for the put-out control carries out the processing of outputting the excitation pattern to the shooting motor.
また、払出制御用ＣＰＵは、発射モータに対する励磁パターンの出力処理を行う。 - 特許庁 - Further, the performance pattern specifying command is transmitted by the next game control processing based on the timer interruption.
さらに次のタイマ割込にもとづく遊技制御処理で演出図柄指定コマンドを送信する。 - 特許庁 - Recognition pattern data, based on image data of every character, is generated by processing in steps ST2 to ST4.
ＳＴ２〜ＳＴ４の処理によって、文字毎のイメージデータに基づいた認識パターンデータを作成する。 - 特許庁 - When an index processing mode is selected, the assigning section assigns pattern data to job data.
インデックス処理モードが選択されると、割当部によって図柄データがジョブデータに割り当てられる。 - 特許庁 - To prevent the lowering of the product yield by facilitating pattern processing with high resolution.
高い解像度でパターンを加工することが容易であって、製品歩留まりの低下を防止する。 - 特許庁 - DATA PROCESS UNIT, DATA PROCESS UNIT CONTROL PROGRAM, DATA PROCESSING METHOD, AND SPECIFIC PATTERN MODEL PROVIDING SYSTEM
データ処理装置、データ処理装置制御プログラム、データ処理方法及び特定パターンモデル提供システム - 特許庁 - PROCESSING APPARATUS AND METHOD, PATTERN FORMING APPARATUS, EXPOSURE DEVICE AND METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
処理装置及び方法、パターン形成装置、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁 - To make compact a neural circuit network for presenting/processing pattern information by pulse modulation.
パルス変調によりパターン情報の表現・処理を行う神経回路網のコンパクト化を図る。 - 特許庁 - A pattern matching processing part counts the total number SH of the pixels having pixel values larger than the threshold value TH.
パターンマッチング処理部は、閾値ＴＨ以上の画素値を有する画素の総数ＳＨをカウントする。 - 特許庁 - The image processing in this pattern inspection method can be performed by software using a personal computer.
本パターン検査方法に於ける画像処理はパソコンを用いてソフトウエアによって処理可能である。 - 特許庁 - METHOD OF ALIGNING BETWEEN PATTERN LAYERS, ALIGNMENT PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
パターンレイヤ間の位置合わせ方法、位置合わせ処理装置、および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS, IMAGE FORMATION PROCESSING PROGRAM, AND BINARIZING DITHER MATRIX PATTERN
画像形成方法、画像形成装置、及び画像形成処理プログラム、並びに２値化ディザマトリクスパターン - 特許庁 - The processing part displays the present situation, a substitute activity pattern data and an index data on a display part (S15).
処理部は、現状及び代替活動パターンデータ、指標データを、表示部に表示する（Ｓ１５）。 - 特許庁 - With processing a pattern image of each view area, a scaling value is calculated for each view area and stored.
各視野エリア内のパターン画像を処理して各視野エリアごとにスケーリング値を算出し、保存する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of preventing pattern fail caused by the contamination of the backside of a substrate.
基板の裏面の汚染に起因するパターン不良を防止できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus capable of efficiently encoding an MB_-type (macro block type) and a CBP (Coded Block Pattern).
ＭＢ＿ｔｙｐｅおよびＣＢＰを効率的に符号化できる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - To execute suitable and highly accurate scaling correction processing for the dimensional fluctuation of a body to be pattern formed.
被描画体の寸法変動に対して、適性かつ高精度なスケーリング補正処理を行う。 - 特許庁 - A display processing part 92 makes a display device execute performance display by the selected display pattern.
表示処理部９２は、選択された表示パターンで表示装置に演出表示を実行させる。 - 特許庁 - The signal processing section 18 converts the received electric signal into image data by one image pattern.
信号処理部１８は入力された電気信号を画面１枚分の画像データに変換する。 - 特許庁 - A translation pattern is prepared from an inputted text by repeating such a processing.
このような処理を繰り返すことにより入力されたテキストからの翻訳パターンを作成する。 - 特許庁 - The inspection wafer is subjected to a predetermined processing to form a monitor pattern in a workpiece film (S3 to S8).
検査用ウェハに所定の処理を行い、被処理膜にモニターパターンを形成する（Ｓ３〜Ｓ８）。 - 特許庁 - In order to detect a pattern of a specific color in a specific shape, processing is carried out in two stages.
特定の色と形状で構成されるパターンを検出するため、２段階で処理を行う。 - 特許庁 - To apply a test pattern in which physical arrangement of a cell is adopted to a memory after relieving processing.
救済処理後のメモリ対して、セルの物理的配置を考慮したテストパターン印加を行うこと。 - 特許庁 - A pattern 102a is formed by processing the surface of a crystalline substrate 101.
結晶性の基板１０１の表面を加工することによってパターン１０２ａを形成する。 - 特許庁 - To provide a technology for easily and surely performing gradation correction control for each image processing pattern.
画像処理パターンごとに、容易且つ確実に階調補正制御を行う技術を提供する。 - 特許庁 - A silicon nitride film N is anisotropically formed on the pattern R1 and the processing film F (Fig.7(b)).
パターンＲ１と被処理膜Ｆ上に、シリコン窒化膜Ｎを異方的に形成する（図７（ｂ））。 - 特許庁 - A protruded part is formed on the base 1 with a first layer resist pattern 2a by a lithographic processing.
リソグラフィー処理により、１層目のレジストパターン２ａで基板１上に凸部を形成する。 - 特許庁 - EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
露光システム、露光装置、基板処理装置、パターン形成方法、及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁 - Operation processing and format conversion are performed for the layout data 1, and the pattern data 2 are formed.
レイアウトデータ１に対して演算処理およびフォーマット変換を行って、パターンデータ２を作成する。 - 特許庁 - To provide a pattern transfer method capable of performing residual film removal processing without performing etching.
エッチングを行わずに残膜除去処理を行うことが可能なパターン転写方法を提供する。 - 特許庁 - Non-ordinariness scoring processing 215 evaluates the extracted difference from the daily life pattern.
非日常性スコアリング処理２１５が、抽出された日常の生活パターンとの差異を評価する。 - 特許庁 - Tone processing is effected by the use of a screen pattern having different screen angles for the respective toners.
各トナー毎に互いに異なるスクリーン角を有するスクリーンパターンを用いて階調処理する。 - 特許庁 - MASK PATTERN DATA GENERATION METHOD, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, PHOTOMASK FABRICATION SYSTEM, AND IMAGING DEVICE
マスクパターンデータの生成方法、情報処理装置及びフォトマスク作製システム並びに撮像素子 - 特許庁
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