「pattern projection」を含む例文一覧(1256)
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パターン投影装置 - 特許庁 - PATTERN PROJECTION MEASURING PROJECTION GRID
パターン投影計測用格子 - 特許庁 - OPTICAL SYSTEM FOR PATTERN PROJECTION
パターン投影光学系 - 特許庁 - PROJECTION PATTERN FORMING METHOD
突起パターンの形成方法 - 特許庁 - PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING DEVICE
パターン投影形状測定装置 - 特許庁 - VERTICAL FRINGE INTERFERENCE PATTERN PROJECTION LENS
縦縞干渉模様投影レンズ - 特許庁 - RECURSIVE PATTERN GENERATING PROJECTION DEVICE
再帰的模様発生投影装置 - 特許庁 - GRID PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING DEVICE
格子パターン投影形状測定装置 - 特許庁 - PATTERN PROJECTION APPARATUS, AND DEPTH MAP INPUTTING APPARATUS USING THE PATTERN PROJECTION APPARATUS
パターン投影装置及びパターン投影装置を用いた距離画像入力装置 - 特許庁 - PATTERN MATERIAL, PROJECTION SCREEN, AND SCREEN SYSTEM
パターン材、投影スクリーン及びスクリーンシステム - 特許庁 - PATTERN PROJECTION DEVICE AND LASER PROCESSING DEVICE
パターン投影装置およびレーザ加工装置 - 特許庁 - To achieve high-contrast pattern projection.
コントラストの高いパターン投影を実現する。 - 特許庁 - When a command for pattern projecting is issued from a projection-commanding part 21c, a projection pattern is determined by a luminance value change projection pattern generating part 21b.
投影指令部２１ｃがパターン投影指令を発すると、輝度値変化投影パターン生成部２１ｂにより投影パターンが決定される。 - 特許庁 - PROJECTION PATTERN CHANGEABLE ROTOR FOR BLASTING DEVICE
ブラスト装置用の投射パターン変更可能なローター - 特許庁 - METHOD OF PROJECTION-ALIGNING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT PATTERN
半導体集積回路パターンの投影露光方法 - 特許庁 - A columnar spacer 2 is formed on the projection pattern 25a.
突出パターン25aに柱状スペーサ２を形成する。 - 特許庁 - GRID-PATTERN PROJECTION TYPE SURFACE PROFILE MEASURING APPARATUS
格子パターン投影型表面形状計測装置 - 特許庁 - AUXILIARY LIGHT PATTERN PROJECTION DEVICE, CAMERA, AND CAMERA SYSTEM
補助光パターン投影装置、カメラ、およびカメラシステム - 特許庁 - PATTERN REFLECTION PROJECTION ARTICLE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
パターン反射投影物品及びその製造方法 - 特許庁 - The projection device 12 has a projection range variable mechanism for changing a projection range of the striped pattern light 11.
投射装置１２は、縞模様光１１の投射範囲を変化させる投射範囲可変機構を有する。 - 特許庁 - STEREOSCOPIC ADAPTER, PATTERN PROJECTION ADAPTER AND ADAPTER FOR LIGHT EMITTING MEMBER
ステレオアダプタ、パターン投影アダプタ、発光部材用アダプタ - 特許庁 - To provide a pattern projection apparatus that is compact, does not have any working sections, and can change projection pattern inexpensively, and to provide a depth map inputting apparatus using the pattern projection apparatus.
小型で稼動部が無く安価な投影パターンの変更可能なパターン投影装置及びパターン投影装置を用いた距離画像入力装置を提供することである。 - 特許庁 - The determined projection pattern is projected from a projection part 21a to an image pickup object.
決定された投影パターンは投影部２１ａから撮像対象に投影される。 - 特許庁 - OPTICAL MEASURING INSTRUMENT AND PATTERN FORMED ON PROJECTION PLATE
光学式測定装置および投影板に形成されたパターン - 特許庁 - To align a fine pattern by projection at high throughput.
微細なパターンを高いスループットのもとで投影露光すること。 - 特許庁 - PUPIL FILTER, PATTERN FORMATION METHOD AND PROJECTION ALIGNER
瞳フィルタ及びパターン形成方法並びに投影露光装置 - 特許庁 - PATTERN PRINTING SHEET AND MULTIFUNCTIONAL PROJECTION SCREEN USING THE SAME
パターン印刷シート及びそれを用いた多機能映写スクリーン - 特許庁 - A recess pattern 25b corresponding to the projection pattern 25a is formed to the adjacent colored film 4.
隣接する着色膜４には突出パターン25aに対応した窪みパターン25bを形成する。 - 特許庁 - PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD OF FORMING CIRCUIT PATTERN
投影光学系、露光装置、及び回路パターンの形成方法 - 特許庁 - A reference potential pattern 34 is formed on the projection part 33.
張り出し部３３上に基準電位パターン３４を形成する。 - 特許庁 - The pattern projection lens of a light emitting device is positioned such that a projection pattern is obtained depending on the focal distance (Step 103).
焦点距離に応じて投影パタ−ンが得られるように発光装置のパタ−ン投影レンズの位置を定める（ステップ１０３）。 - 特許庁 - A smoothing device 3 smoothes the projection pattern, to form a peak on the projection pattern smoothed to the object.
平滑化装置３は、対象物に対し平滑化した射影パターン上でピークを生成するよう射影パターンを平滑化する。 - 特許庁 - STENCIL RETICLE INCLUDING SCATTERING PATTERN FOR ELECTRON BEAM PROJECTION LITHOGRAPHY
電子ビーム投影リソグラフィ用の散乱パターンを含むステンシルレチクル - 特許庁 - Another pattern connecting land 6 is formed near the connecting projection unit 5.
接続突部５の近傍にパターン接続ランド６を形成する。 - 特許庁 - A projection device 1 projects a prescribed projection pattern (circular monochrome code group) onto a measured object 4.
投影装置１は、所定の投影パターン（円形白黒コード群）を計測対象４に投影する。 - 特許庁 - A projection waveform is obtained from the image, and the position of the line string pattern is obtained from the projection waveform.
当該画像から投影波形を求め、投影波形から線列パターンの位置を求める。 - 特許庁 - When a projection beam PB irradiates the reticle, the projection beam is patterned with a pattern on the reticle.
レチクルに投影ビームＰＢを照射すると、投影ビームはレチクル上のパターンにパターン形成される。 - 特許庁 - In addition, the solid projection seal 2 has a projection portion on the front of the figure pattern and this projection portion comprises a material having a perspective property.
また、立体隆起シール２は、図柄の表側に隆起部を有し、この隆起部を透視性を有する材料で構成する。 - 特許庁 - The pattern images of a mask are formed by projection aligning on a photosensitive substrate by using a projection optical system having plural projection optical modules.
複数の投影光学モジュールを有する投影光学系を用いてマスクのパターン像を感光性基板へ投影露光する。 - 特許庁 - An irradiation area is determined based on the resulting projection pattern irradiation image or the projection pattern irradiation image and a projection pattern non-irradiation image to be identified as measurable area and the coordinate operation between images and the generation of a distance image are executed for the measurable area.
この投光パターン照射画像、あるいは投光パターン照射画像と投光パターン非照射画像に基づいて照射領域を求め、これを可測領域として識別する。 - 特許庁 - The pattern 6b formed on the projection part 5 is more unclear than the pattern 6a formed on the recession part 4.
凸部５に形成した絵柄６ｂが凹部４に形成した絵柄６ａよりも不鮮明である。 - 特許庁 - A light projection part 111 projects light by a prescribed flashing pattern.
投光部１１１は、所定の点滅パターンで光を出射する。 - 特許庁 - A projector 1 projects projection pattern light 1a to a human body P.
投光器１は、投影パターン光１ａを人物Ｐに投影する。 - 特許庁 - A distance detector 6 is provided for detecting a projection distance from a test pattern imaged by an imaging part 22, the distance detector 6 comprising a test pattern projection part 21 for projecting the test pattern used to detect the projection distance between the projection lens 11 and the projection surface, and an imaging part 22 for imaging the test pattern projected onto the projection surface.
投射レンズ１１と投射面との間の投射距離を検出するためのテストパターンを照射するテストパターン照射部２１と、投射面上に照射されたテストパターンを撮像するための撮像部２２とを有しこの撮像部２２によって撮像されたテストパターンから投射距離を検出するための距離検出装置６を備える。 - 特許庁 - To easily acquire correspondence information between a measuring pattern on a projection object surface and a projector having performed projection.
被投写面上の測定用パターンと、投写したプロジェクターとの対応情報を簡便に取得する。 - 特許庁 - A junction electrode 11 is composed of the projection 10 and the wiring pattern 6a for covering the projection 10.
凸部１０とその凸部１０を覆う配線パターン６ａにより接合電極１１が構成される。 - 特許庁 - SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION ALIGNER, SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD
軟Ｘ線縮小投影露光装置、軟Ｘ線縮小投影露光方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - A projection forming part 10 forms a projection pattern to the image by applying this edge detecting processing.
射影生成部１０はこのエッジ検出処理を行なった画像に対し射影パターンを生成する。 - 特許庁 - A second metal projection section 36 projects from the rear of a wiring pattern.
配線パターンの裏面から第２の金属突起部３０が突起する。 - 特許庁 - PHASE ANALYSIS METHOD OF INTERFERENCE PATTERN OR PROJECTION GRID USING ALIASING
エイリアシングを利用した干渉縞又は投影格子の位相解析方法 - 特許庁
- 特許庁
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