「pattern separation」を含む例文一覧(202)
1 2 3 4 5 次へ＞- PATTERN SEPARATION EXTRACTION PROGRAM, PATTERN SEPARATION EXTRACTION APPARATUS AND PATTERN SEPARATION EXTRACTION METHOD
パターン分離抽出プログラム、パターン分離抽出装置及びパターン分離抽出方法 - 特許庁 - OVERWRITTEN PATTERN SEPARATION DEVICE AND RECORDING MEDIUM
上書きパターン分離装置及び記録媒体 - 特許庁 - Separation of a usual pattern and the dummy pattern is made greater than the minimum separation of the usual pattern, so that wiring capacity is reduced.
また、通常パターンとダミーパターンのセパレーションを通常パターンの最小セパレーションより大きくし、配線容量を低減する。 - 特許庁 - To perform quick pattern classification by nonlinear separation.
非線形分離によるパターン分類を高速に行う。 - 特許庁 - To prevent any solder crack or pattern separation of an electric circuit board.
電気回路基板のハンダクラックやパターン剥離を防止する。 - 特許庁 - To provide a water-soluble pattern forming material not dissolving a base resist for achieving formation of a fine separation resist pattern allowing formation of a pattern beyond wavelength limit in micronization of a separation pattern and a hole pattern.
分離パターン、ホールパターンの微細化において、波長限界を超えるパターン形成を可能とする微細分離レジストパターン形成を実現する、下地レジストを溶解しない水溶性のパターン形成材料を提供する。 - 特許庁 - This test pattern is composed of a test pattern area 10 with the following constitution, and a separation area 20.
テストパターンを、以下の構成を有するテストパターン領域１０と、区切り領域２０で構成する。 - 特許庁 - To form a pattern without breaking it by facilitating the separation of an original plate from a pattern formation material.
原版とパターン形成材料との剥離を容易にすることによってパターンを崩さず形成する。 - 特許庁 - To provide a multi-pattern wiring substrate, where swelling and separation are less apt to occur between an insulating resin layer and a dummy pattern.
絶縁樹脂層とダミーパターンとの間に膨れや剥れが発生しにくい多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁 - When a specific place where a separation information hypothesis exists is paid attention to, a discription pattern candidate assuming that a separation information exists and a discription pattern candidate assuming that the separation information does not exit are respectively generated.
分離情報仮説が存在する特定の場所を着目した時に、分離情報が存在すると仮定した表記パターン候補、及び、分離情報が存在しないと仮定した表記パターン候補のそれぞれを生成する。 - 特許庁 - To increase the film thickness of an already formed resist pattern to improve etching resistance for the purpose of obtaining a fine separation pattern or a fine hole pattern.
分離パターン、ホールパターンの微細化において、耐エッチング性を向上するために、既に形成したレジストパターンの膜厚を増加させることを目的とする。 - 特許庁 - The dummy pattern 41 comprises: an inclination pattern 42, which intersects a tangent line and a normal line of the wafer 1; and a separation pattern 43 that is connected to the inclination pattern 42 and extends in a circumferential direction of the wafer 1.
ダミーパターン４１は、ウェハ１の接線及び法線に交差する斜パターン４２と、斜パターン４２に連結され、ウェハ１の周方向に延びる分離パターン４３とを有する。 - 特許庁 - This realizes a high-accuracy separation of character/line image regions from pattern image regions.
これにより、文字・線画領域と絵柄画像領域との高精度の分離も実現される。 - 特許庁 - To provide a separation wall structure capable of restricting deformation caused by the distortion of separation wall elements to the minimum on a baking process of a separation wall pattern at a plasma display panel manufacturing process, and to provide a manufacturing method of the separation wall.
プラズマディスプレイパネルの製造方法において、隔壁のパターン形成の焼成過程における、隔壁要素の歪による変形が最小限に抑えられる隔壁構造、および隔壁の作成方法を提供する。 - 特許庁 - To fully increase separation resistance between respective regions in forming a separation pattern for separating a zinc oxide thin-film layer into a plurality of regions.
酸化亜鉛薄膜層を、複数の領域に分離する分離パターン作製において、各領域間の分離抵抗を十分高くする。 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR ESTIMATING COLOR SEPARATION MISREGISTRATION UTILIZING FREQUENCY-SHIFTED HALFTONE PATTERN FORMING MOIRE PATTERN
モアレ・パターンを形成する周波数偏移されたハーフトーン・パターンを利用して、色分解の位置ずれを推定するためのシステム及び方法 - 特許庁 - To provide a dry etching method that does not generate conical-pattern defects in a separation groove, when the separation groove is formed on a silicon substrate.
シリコン基板に分離用溝を形成するときに、分離用溝に円錐状のパターン欠陥の生じないドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - The width of the first annular pattern 8 is set to a dimension (a) equal to the width of a separation portion 4.
第１環状パターン８の幅は、分離部４の幅と同じ大きさａに設定されている。 - 特許庁 - To provide a means for preventing the separation of a wiring pattern and improving reliability in a semiconductor device.
配線パターンの剥がれを防ぎ、半導体装置の信頼性が向上する手段を提供する。 - 特許庁 - A compressor 2 compresses the signaling message output from the fixed/variable pattern separation part 1.
圧縮器２は、固定／可変パターン分離部１から出力されたシグナリングメッセージを圧縮する。 - 特許庁 - A filter section 5 consists of a smoothing filter and applies smoothing filter processing to the data when a pattern separation discrimination signal indicates a pattern.
フィルタ部５は、平滑化フィルタ（図３）で構成され、絵柄分離判定信号が、絵柄である場合には、平滑化フィルタ処理を施す。 - 特許庁 - To make separable an overwritten pattern inscribed on a preprint without erroneously deleting it in an overwritten pattern separation device.
本発明は上書きパターン分離装置に関し、プレプリント上に記入された上書きパターンを誤削除することなく分離できるようにする。 - 特許庁 - To provide a plate allowing a pattern-like separation layer and a pattern layer to be simply formed without using etching, having a beautiful transfer shape and capable of responding to a minute pattern because the separation layer and the pattern layer has an identical shape; to provide a manufacturing method of the plate; and to provide a board and a manufacturing method of the board.
パターン状の剥離層およびパターン層をエッチングによらずに簡単に形成でき、しかも、剥離層とパターン層が同一形状であるので、転写形状が綺麗で微細パターンに対応できる版、版の製造方法、基板および基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The pattern P2 is formed on the same layer as a gate electrode G and the pattern P3 is formed on the same layer as an element separation area ST1.
さらに、パターンＰ２は、ゲート電極Ｇと同層で形成されており、パターンＰ３は素子分離領域ＳＴＩと同層で形成される。 - 特許庁 - To provide a sample separation and suction instrument, providing a sample suction pattern of high resolving power.
分解能の高いサンプル吸着パターンを得ることができるサンプル分離吸着器具を提供する。 - 特許庁 - To easily detect an irregular resist pattern generated during separation of die in the imprint lithography.
インプリントリソグラフィにおいて離型時に発生するレジストパターンの異常が、より容易に検出できるようにする。 - 特許庁 - To provide a paving sheet having water permeability without having any separation/deformation of a pattern by a simple execution.
施工が簡単で、図柄の剥離・変形が無く、透水性を有した舗道用シートを提供すること。 - 特許庁 - To perform pattern matching corresponding to various matrixes flexibly at high speed by a small scale circuit, to speed up image area separation, and to stabilize image area determination.
様々なマトリクスに対応したパターン照合を小規模回路で柔軟に高速に行う。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a multilayer circuit board capable of multiplying layers of a circuit pattern just by a lamination process and a separation process for circuit pattern formation.
積層工程と回路パターン形成のための分離工程によってのみで回路パターンの多層化が図れる多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image processor capable of separating an image wherein a character / line drawing and a pattern photographing image are intermingled into the character / line image part and the pattern part with high separation performance at high speed according to the local property of the image.
画像データを複数層のプレーンへと属性分離する装置において、処理負荷の増加を抑えつつ高度な分離を可能にする。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method for easily manufacturing a micro phase separation structure film with aligned orientation directions by a large area, and forming a pattern of nanometer scale using the micro phase separation structure film.
配向方向のそろったミクロ相分離構造膜を容易に、大面積で製造することができ、このミクロ相分離構造膜を用いてナノメートルスケールのパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the separation area 20, separation lines 22 for checking a position are repeatedly arranged at a ratio of one separation line to the plurality of printing elements along an outer edge, elongated in the array direction, of the test pattern area 10.
区切り領域２０は、テストパターン領域１０のうち配列方向に延びる外縁に沿って、複数個の印刷素子に対して１個の割合で位置確認用の区切り線２２を繰り返し配列してなる。 - 特許庁 - To solve such problems that cooling of the connected mold/disk to room temperature prior to separation results in difficulty of the separation and damages to the imprinted pattern produced in a resist film during the separation.
連結したモールド／ディスクを分離する前に、それらを室温まで冷却すると、分離が困難であること、ならびにレジスト膜に生じたインプリント・パターンを分離中に損傷することなどの問題が発生しうる。 - 特許庁 - Set times Ta1 and Ta2 consider jitter generated on the belt by contact and separation operation in contact and separation and secure transfer of the normal images and transfer braking of the test pattern.
設定時間Ｔa1、Ｔa2は、接離時に接離動作によりベルトに発生するジッタを考慮し、通常画像の転写とテストパターンの転写制動を確保する。 - 特許庁 - Based on a degree of separation in the case of binarization from each histogram, candidates of an area easy to visually confirm a pattern are selected.
各ヒストグラムから二値化する際の分離度に基づいて、パターンを視認しやすいエリアの候補を選択する。 - 特許庁 - By this constitution, the electrophoretic system 1 can rapidly detect the separation pattern of the sample after electrophoresis.
これによって、電気泳動装置１は、電気泳動後のサンプルの分離パターン検出を迅速に行うことができる。 - 特許庁 - Eventually, the adhesion strength between sealing resin filling the separation groove 11 and the conductive pattern 21 is improved.
結果的に、分離溝１１に充填される封止樹脂と導電パターン２１との密着強度が向上される。 - 特許庁 - The pattern image area and the character / line drawing area can be subjected to separate processing with high accuracy by using the separation mask.
該分離マスクを用いることで、絵柄画像領域と文字・線画領域との高精度の分離処理が行える。 - 特許庁 - To provide a moving pattern specification device which can exactly associate an input moving pattern with a standard moving pattern without setting up a complicated case separation or conditions, etc.
煩雑な場合分けや条件などを設けることなく、入力された移動パターンと標準の移動パターンとの対応付けを的確に行うことが可能な移動パターン特定装置を提供する。 - 特許庁 - In this time, the drawing condition separation means 38 brings about the specified drawing condition 34b until a pattern changes by a specified number of times when a ready for win is brought about during pattern variation of a pattern indication means 12.
その際、抽選状態区分手段３８は、図柄表示手段１２の図柄変動中にリーチになれば、所定回数図柄変動するまで特定抽選状態３４ｂ を発動する。 - 特許庁 - The dummy layer of the semiconductor device comprises a semiconductor substrate 401, an element separation film 402 for composing a dummy active region 403 in the logic region on the semiconductor substrate 401, a first dummy pattern 404 formed on the element separation film 402, and a second dummy pattern 405a for surrounding the first dummy pattern 404.
本発明による半導体素子のダミー層は、半導体基板(401)と、半導体基板(401)上のロジック領域に、ダミーアクティブ領域(403)を構成する素子分離膜(402)と、素子分離膜(402)上に形成された第１ダミーパターン(404)と、第１ダミーパターン(404)を包囲する第２ダミーパターン(405a)とを有する。 - 特許庁 - By the method for forming the dummy layer of the semiconductor device, the element separation film 402 for composing the dummy active region 403 is formed in the logic region on the semiconductor substrate 401, the first dummy pattern 404 is formed on the element separation film 402, and the second dummy pattern 405a for surrounding the first dummy pattern 404 is formed.
本発明による半導体素子のダミー層形成方法によれば、半導体基板(401)上のロジック領域に、ダミーアクティブ領域(403)を構成する素子分離膜(402)を形成し、素子分離膜(402)上に第１ダミーパターン(404)を形成し、第１ダミーパターン(404)を包囲する第２ダミーパターン(405a)を形成する。 - 特許庁 - To prevent inter-wiring short circuit caused by separation of a conductive film remaining in a groove of an accessory pattern, with respect to the accessory pattern to be formed on a scribing line region.
スクライブ線領域上に形成されるアクセサリパターンに関し、アクセサリパターンの溝内に残された導電膜が剥がれることによって生ずる配線間の短絡を防止する。 - 特許庁 - The writing wiring patterns W1 and W2, the reading wiring patterns R1 and R2 and the ground pattern G1 are integrated to an extension pattern 50 on a separation part 10b.
書込用配線パターンＷ１，Ｗ２、読取用配線パターンＲ１，Ｒ２およびグランドパターンＧ１は、分離部１０ｂ上において、延長パターン５０に一体化している。 - 特許庁 - Further, the separation of the sealing resin is made easy by providing a residual pattern 30 in the boundary between the respective two circuit-device portions.
更に、各回路装置部の境界に残存パターン３０を設けることで、封止樹脂の分離を容易にしている。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a fine structure capable of transferring a specified pattern with high precision without arrangement of a separation layer.
分離層を設けることなく、より精度良く所定パターンを転写する微細構造の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition for forming a highly heat-resistant pattern of a microphase separation structure.
耐熱性が高いミクロ相分離構造のパターンを形成するための感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A separation groove 11 is formed by selectively etching the conductive foil 10 to form a conductive pattern 21.
導電箔１０を選択的にエッチングすることにより分離溝１１を形成して導電パターン２１を形成する。 - 特許庁 - This structure prevents the occurrence of a pattern cut or a land separation caused by the heat cycle of a solder bonding or when the product is used.
本構成で、ハンダ接合時や製品使用時の熱サイクルによるパターン切れやランド剥離の発生を防止する。 - 特許庁 - The semiconductor device is provided with a semiconductor board 1, a first A/A dummy pattern 5a on the element separation area of the semiconductor board 1, and a second A/A dummy pattern 5b having a smaller pitch than the first A/A dummy pattern 5a.
本発明の半導体装置は、半導体基板１と、半導体基板１の素子分離領域に、第１Ａ／Ａダミーパターン５ａと、第１Ａ／Ａダミーパターン５ａよりもピッチの小さい第２Ａ／Ａダミーパターン５ｂとを備える。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
