「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 23 24 25 26 27 28 29 30 31 .... 73 74 次へ＞- This exposure apparatus 14 receives Gerber data 36 of a wiring pattern to be transferred by exposure onto an exposure object from a CAD/CAM system 12.
露光装置１４は、被露光物に露光すべき配線パターンのガーバーデータ３６をＣＡＤ／ＣＡＭシステム１２から入力する。 - 特許庁 - Then, a flare value of a projection optical system included in an exposure device is calculated using pattern mean density of the mask patterns after correcting.
そして、露光装置が備える投影光学系のフレア値を、前記補正後マスクパターンのパターン平均密度を用いて算出する。 - 特許庁 - This projection optical system projects the image of a pattern formed on a 1st surface (M) to a 2nd surface (P) at substantially unmagnified power.
第１面（Ｍ）に形成されたパターンの像を第２面（Ｐ）上へ実質的に等倍の倍率で投影する投影光学系。 - 特許庁 - The control part 101 limits the aspect system of the intersection IS to the pattern 1 or 3 when detecting the entry signal.
制御部１０１は、流入信号を検出した場合に、交差点ＩＳの現示方式をパターン１又は３に限定する。 - 特許庁 - To provide an overlay measurement system for producing an overlay compensation value by measuring an overlay pattern, and an overlay measurement method therefor.
オーバーレイパターンを計測してオーバーレイ補正値を生成するオーバーレイ計測装置及びそのオーバーレイ計測方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a thin film pattern forming system securing high reflexivity, high adhesiveness and thermal stability of a reflective film.
本発明は、反射膜の高反射性、高接着性及び熱安定性を確保可能な薄膜パターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an imprint system which transfers a pattern with high shape precision onto a substrate by optimizing the application amount of an imprint material.
インプリント材の塗布量を最適化し、基板上に転写されるパターンの形状精度が高いインプリントシステムを提供する。 - 特許庁 - MOVING BODY DRIVING METHOD AND MOVING BODY DRIVING SYSTEM, PATTERN FORMING METHOD AND DEVICE, EXPOSURE AND DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光及び装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁 - A mask pattern to be transferred onto a substrate through the projection optical system of a projection exposure apparatus is provided on an exposure mask.
露光マスク上には、投影露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられている。 - 特許庁 - In one encoding system, a resource allocation bit pattern is transmitted to all users together with a resource ID for each user.
一のエンコード方式においては、リソース割当ビットパターンは、各ユーザに対するリソースＩＤとともに、すべてのユーザに伝送される。 - 特許庁 - To provide a pattern feature generating system for simultaneously achieving the maximization of an inter-class distribution and the minimization of the in-class distribution.
クラス間分散の最大化とクラス内分散の最小化を同時に実現するパターン特徴生成システムを提供する。 - 特許庁 - To improve a positioning accuracy by suppressing a vibration in a projection optical system and to contribute to the improvement in a pattern projecting accuracy.
投影光学系に発生する振動を抑制して位置決め精度の向上、およびパターン投影精度の向上に寄与する。 - 特許庁 - This enables to form a small light distribution pattern P1b extended along the horizontal cutoff line CL1 in a simple optical system.
これにより、簡単な光学系で、水平カットオフラインＣＬ１に沿って延びる小配光パターンＰ１ｂを形成可能とする。 - 特許庁 - To provide a multi-charged particle writing system capable of measuring a current of each electron beam accurately and capable of exposing a desired pattern.
各電子ビームの電流を正確に測定でき、所望パターンを露光できるマルチ荷電粒子線描画装置を提供する。 - 特許庁 - To prevent contamination due to a metal foreign substance and an organic substance of a wafer pattern surface caused by dust generated from a wafer transport system of a length measurement device.
測長装置のウェハ搬送系からの発塵によるウェハパターン面の金属異物および有機物汚染を防止する。 - 特許庁 - In the present projection system, the pattern surface on the reticle is lightened so that a projected image that focuses on an image-forming surface can be obtained.
本発明の投影システムでは、結像面に集束した投影像が得られるようにレチクル上のパターン面を照明する。 - 特許庁 - A system controller 104 detects an area where patterns match between images based on a plurality of pieces of image data by pattern matching.
システムコントローラ１０４は、複数の画像データに基づく画像間でパターンが一致する領域をパターンマッチングにより検出する。 - 特許庁 - To provide technology provided with a method and a system for inspecting a defect in a circuit pattern on semiconductor materials.
本発明は、半導体材料上の回路パターン中の欠陥を検査する、方法とシステムとを含む技術を提供する。 - 特許庁 - The pattern images of a mask are formed by projection aligning on a photosensitive substrate by using a projection optical system having plural projection optical modules.
複数の投影光学モジュールを有する投影光学系を用いてマスクのパターン像を感光性基板へ投影露光する。 - 特許庁 - To use copper powder as the filler of electrically conductive ink suitable for forming a hyperfine wiring pattern in an ink jet system.
インクジェット方式で超微細配線パターンを形成するのに好適な導電インクのフイラーとして，銅粉を使用できるようにする。 - 特許庁 - The system identifies the lost pulses by using a pattern recognition technology on the signature of the motor control pulse rate.
本発明はモータ制御パルスレートのシグネーチャに対するパターン認識技術を使用することにより、見失ったパルスを識別する。 - 特許庁 - Here, when performing exposure with the photomask 2 for forming a finer pattern, double pole illumination is used as an illumination system.
ここで、より微細なパターンを形成するためのフォトマスク２で露光する際に、２重極照明を照明系として用いる。 - 特許庁 - A whiteboard data generating apparatus 14 outputs image data denoting a pattern drawn on the whiteboard to a conference system terminal 3_1.
ホワイトボードデータ生成装置１４が、ホワイトボードに描かれたパターンを示すイメージデータを会議システム端末装置３＿１に出力する。 - 特許庁 - Thereafter, the emitter contact layer 7 and the emitter layer 6 are removed sequentially by ICP system dry etching using the resist pattern 9 as a mask.
その後、レジストパターン９をマスクとして、ＩＣＰ方式ドライエッチングにより、エミッタコンタクト層７とエミッタ層６とを順次除去する。 - 特許庁 - The computer system outputs the operation conformation sound pattern which the user selected only when the user correctly inputs the password.
ユーザからパスワードが正しく入力される場合のみ、コンピュータシステムは、ユーザが選んだ操作確認音のパターンを出力する。 - 特許庁 - To provide a system and a method of performing micro-deposition of small droplets of fluid material for forming a characteristic pattern on a substrate.
基板上に特徴パターンを形成するた流体材料の小滴をマイクロデポジションするシステムおよび方法の提供。 - 特許庁 - To provide a method for vein pattern image correction that can implement a high authentication accuracy and contactless vein authentication system.
認証精度が高く、非接触型の静脈認証システムを可能にする、静脈パターンの画像補正方法を提供する。 - 特許庁 - The system further comprises an interferometer configured to generate an interference pattern between the local pulse and the remote pulse.
システムは、さらに、ローカルパルスと上記遠隔パルスとの間に干渉パターンを生成するように構成された干渉計を含む。 - 特許庁 - To provide an image processing system in which unevenness correction processing can be performed with a predetermined color as an object without using a test pattern.
テストパターンを使わずに、所定の色を対象としてむら補正処理を行うことができる画像処理システムを提供する。 - 特許庁 - In a second aspect, at lest one spectral energy conditioning pattern can be applied to a conditioning crystallization reaction system.
第二の様態では、少なくとも１つのスペクトル・エネルギー・コンディショニング・パタンをコンディショニング結晶化反応系に印加することができる。 - 特許庁 - Non uniformities in one or both of a field and pupil of an illumination system can also be measured and used to alter the pattern data.
照明系の視野及び瞳の一方または双方での不均一性も測定されてパターンデータの変更に使用されてもよい。 - 特許庁 - To provide a plasma damage evaluating pattern and wafer by an STI system which can stably be supplied in the future at a low cost.
低コスト化で将来に亘る安定供給が可能なＳＴＩ方式によるプラズマダメージ評価パターン及びウェハを提供する。 - 特許庁 - To provide an operation pattern selector device of a construction machine capable of minimizing a plurality of operation patterns selectable on the construction machine side and an operation pattern selector system of the construction machine.
建設機械側で切換可能な複数の操作パターンを必要最小限に限定することができる建設機械の操作パターン切換装置及び建設機械の操作パターン切換システムを提供する。 - 特許庁 - To provide the inspection system of an electronic device for inspecting the presence of a connection failure of a circuit pattern such as a semiconductor package, by measuring the return loss of the circuit pattern by an incidence signal from a resonator.
共振器からの入射信号による回路パターンのリターンロスを測定して、半導体パッケージなどの回路パターンの接続不良有無を検査する電子デバイスの検査装置を提供する。 - 特許庁 - A mask pattern formed in a photo mask is processed in a simulation of measuring the depth of focus of a pattern imprinted to a sensitization material by varying coma aberration and spherical aberration of a projection system of an exposing device.
フォトマスクに形成されたマスクパターンについて、露光装置の投影系のコマ収差と球面収差とを変化させて、感光材に転写されたパターンの焦点深度を測定するシミュレーション行う。 - 特許庁 - A mask 3 is irradiated by an illuminating optical system, and electron rays passing through the pattern are image-formed on a wafer by lens 1 and 2, and a pattern on the mask 3 is reduced and transferred on the wafer 4.
照明光学系によりマスク３が照射され、その上のパターンを通過した電子線が２つのレンズ１、２により、ウェハ上に結像され、マスク３上のパターンをウェハ４上に縮小転写する。 - 特許庁 - Based on the graphic information of characters, pictures or the like input from an input section 15, a system controller 14 forms a graphic writing pattern and specifies a sector in which the graphic writing pattern is formed.
入力部１５より入力された文字や絵等の図形情報からシステムコントローラ１４は図形書き込みパターンを形成するとともに図形書き込みパターンが形成されるセクタを特定する。 - 特許庁 - A first measurement system 51 is used to observe a pattern RAM formed on a mask R, and correspondingly stores the position information of the pattern RAM with identification information for identifying the mask R.
第１計測系５１を用いて、マスクＲ上に形成されたパターンＲＡＭを観察し、パターンＲＡＭの位置情報をマスクＲを識別するための識別情報と共に対応付けて記憶する。 - 特許庁 - To provide a pattern matching method for processing voice recognizing pattern matching without increasing the capacity and processing amount of a memory for storing cumulative distances, and also to provide a voice recognition system, and a program.
累積距離を格納するメモリの容量・処理量を増大させることなく音声認識のパターンマッチング処理を可能とするパターンマッチング方法及び音声認識システム並びにプログラムの提供。 - 特許庁 - The system 1 for inspecting the pattern of a semiconductor substrate 9 comprises an optical head section 11 for acquiring the two-dimensional image of the pattern of the semiconductor substrate 9, and a computer 13 performing processing.
半導体の基板９のパターンを検査する検査装置１において、基板９のパターンの２次元画像を取得する光学ヘッド部１１、および、演算処理を行うコンピュータ１３を設ける。 - 特許庁 - The mask writing system comprises a data processing function part for generating pattern data by taking in the data described by those functions, and a writing function part for writing on the mask in accordance with the pattern data.
そのような関数で記述されたデータを取り込んでパターンデータを生成するデータ処理機能部と、パターンデータに従って、マスクに描画を行う描画機能部とを有するマスク描画装置。 - 特許庁 - To provide a forgery preventing medium, with which the authenticity of random pattern forming materials can be discriminated simultaneously with random pattern reading and to provide a method and system for discriminating its authenticity.
ランダムパターン形成材料の材料の真偽判定を、ランダムパターン読み取りと同時に行うことが可能である偽造防止媒体およびその真偽判定方法、並びに真偽判定システムを提供する。 - 特許庁 - In the forming method, aperture masks 17, 17A, 17B made of glass on which a pattern having openings 18a-18e corresponding to the pattern of the black membrane 3 is formed, is used on the optical system 9 on which the laser beam L is irradiated.
レーザ光Ｌを照射する光学系９に、黒色膜３のパターンに対応した開口部１８ａ〜１８ｅのパターンが形成されたガラス製のアパチャマスク１７、１７Ａ、１７Ｂを用いる。 - 特許庁 - An electron-beam passing through a pattern provided on a reticle 7 images the pattern on the reticle 7 on a surface of a wafer 9 with a transferring optical system mainly comprising a collimator lens 1 and a projection lens 4.
レチクル７上に設けられたパターンを通過した電子線は、コリメータレンズ１、プロジェクションレンズ４を主体とする転写光学系により、レチクル７上のパターンの像をウェハ９表面に結像する。 - 特許庁 - The antenna system disclosed herein also forms magnetic field polarization existing only on a plane of the ferrite core on which a conductor pattern is printed by directly printing the conductor pattern onto the ferrite core.
また、この発明に係るアンテナ装置では、フェライトコアに直接導体パターンをプリントすることにより、当該導体パターンがプリントされたフェライトコアの平面のみの磁界偏波を形成することもできる。 - 特許庁 - The electricity/gas mixed-air conditioning control system comprises an information memorizing means 32, an air conditioning load pattern derivation means 31a, an input means 35 and an optimum control pattern derivation means 31b.
電気／ガス式混在空調制御システムは、情報記憶手段３２と空調負荷パターン導出手段３１ａと入力手段３５と最適制御パターン導出手段３１ｂとを備える。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing device and a pattern drawing method for providing high drawing qualities while preventing fluctuation in air on the optical path of an optical system in a light irradiation part.
光照射部において光学系の光路上に空気の揺らぎが発生することを防止し、高い描画品質を得ることができるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁 - Further, another embodiment is possible in which a test pattern is formed on an intermediate transcript in a transfer system; the test pattern is read; and the speed variation data of the intermediate transcript is determined from the reading result for storing.
また、転写方式において中間転写体にテストパターンを形成し、該テストパターンを読み取り、その読取結果から中間転写体の速度変動データを求め、記憶しておく態様も可能である。 - 特許庁 - The main control part switches a change object pattern with a switching system, and if the type information is data for expectation value change, changes the examination value shown by the change object pattern with the data for expectation value change.
主制御部は切り替え方式で変更対象パターンを切り替え、種別情報が期待値変更用データの場合、該変更対象パターンが示す検査値を期待値変更用データで変更する。 - 特許庁 - To provide a game machine and a game system renewing a performance pattern upon letting an external portable terminal to store game information in a game stepwisely renewing the performance pattern.
段階的に演出パターンが更新される遊技において、その遊技情報を外部の携帯端末に記憶させることを契機として演出パターンが更新される遊技機及び遊技システムを提供すること。 - 特許庁
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