「pattern system」を含む例文一覧(3675)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 73 74 次へ＞- PATTERN FIGURE EVALUATING METHOD, PATTERN FIGURE EVALUATING DEVICE, PATTERN FIGURE EVALUATING DATA GENERATING DEVICE, AND SEMICONDUCTOR FIGURE EVALUATING SYSTEM EMPLOYING THEM
パターン形状評価方法，パターン形状評価装置，パターン形状評価データ生成装置およびそれを用いた半導体形状評価システム - 特許庁 - SUBJECT ACQUISITION METHOD FOR RESIST PATTERN EVALUATION, SUBJECT ACQUISITION METHOD FOR EVALUATION OF RESIST PATTERN AND ANTI-REFLECTION COATING, AND SUBJECT ACQUISITION SYSTEM FOR EVALUATION OF RESIST PATTERN
レジストパターン評価対象取得方法及び反射防止膜評価対象取得方法及びレジストパターン評価対象取得システム - 特許庁 - PRINTING PATTERN FORMING METHOD, PRINT HEAD, PRINTING SYSTEM, INTEGRATED CIRCUIT, AND PRINTING SYSTEM OPERATING METHOD
印刷パターン形成方法、プリントヘッド、印刷システム、集積回路、及び印刷システム操作方法 - 特許庁 - AUTOMATIC PATTERN GENERATION SYSTEM, METHOD AND EQUIPMENT DATA AUTOMATIC DISTRIBUTION SYSTEM FOR AUTOMATIC DESIGN DEVICE
自動絵柄作成システム及び方法、並びに自動設計装置用設備機器データ自動配信システム - 特許庁 - The lithographic apparatus comprises a lighting system, a pattern forming apparatus, a projecting system, and a modulating apparatus.
リソグラフィ装置は、照明システムと、パターン形成機器と、投影システムと、変調機器とを備えている。 - 特許庁 - A pattern is formed on a strip substrate by the reel-to-reel system and the droplet ejection system.
リールツーリール方式と液滴吐出方式により、帯状基板上にパターンを形成する。 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR CORRECTION OF SPATIAL CROSS-TALK AND PATTERN FRAME EFFECT IN IMAGING SYSTEM
画像形成システム内の空間的クロストーク及びパターンフレーム効果の修正用システムと方法 - 特許庁 - This substrate treating system comprises a spinner which applies a resist to a substrate, a pattern exposure system which performs pattern exposure, and a host computer which generalizes and controls the spinner and exposure system.
基板処理システムは、レジスト塗布処理を行うスピンナと、パターン露光処理を行うパターン露光装置と、これらを統括制御するホストコンピュータとを備えている。 - 特許庁 - The test pattern generation method, test pattern generation system, and test pattern generation device generate the test pattern through the use of a failure simulation execution means for executing failure simulation, and a test pattern generation means for generating the test pattern.
テストパターンの生成方法及びテストパターンの生成システム並びにテストパターン生成装置において、故障シミュレーションを実行する故障シミュレーション実行手段と、テストパターンを生成するテストパターン生成手段とを用いて、テストパターンを生成する。 - 特許庁 - PATTERN DESIGN SIMULATION SYSTEM, SERVER USED FOR PATTERN DESIGN SIMULATION SYSTEM, PATTERN DESIGN SIMULATION METHOD AND PROGRAM, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM RECORDED THEREON AND OUTPUTTED PRODUCT
柄デザインシミュレーションシステム及び柄デザインシミュレーションシステムに用いるサーバ及び柄デザインシミュレーション方法並びにプログラム及びプログラムを記録したコンピュータに読み取り可能な記録媒体及び出力物 - 特許庁 - By supplying a fluorine system material from above the resin pattern 9, a water-repellent pattern 11 covering an aperture 9a bottom of the resin pattern 9 with the fluorine system material is formed.
樹脂パターン９上からフッ素系材料を供給することにより、樹脂パターン９の開口９ａ底部をフッ素系材料で覆った撥水性パターン１１を形成する。 - 特許庁 - MANAGING SYSTEM AND DISTRIBUTION SYSTEM OF FUEL CELL OPTIMUM OPERATION PATTERN, AND FUEL CELL SYSTEM
燃料電池最適運転パターン管理システム及び燃料電池システム並びに燃料電池最適運転パターン配信システム - 特許庁 - The antenna system includes a coverage antenna 2 with a coverage beam pattern; and an auxiliary antenna 3 with an auxiliary beam pattern.
アンテナシステムは、カバレッジビームパターンを備えたカバレッジアンテナ２と、補助ビームパターンを備えた補助アンテナ３とを含む。 - 特許庁 - DOT PATTERN ARRAY PLATE, DISPLAY DEVICE WITH DOT PATTERN, AND INFORMATION PROCESSING SYSTEM WITH DISPLAY DEVICE
ドットパターン配列板、当該ドットパターンを備えた表示装置、および当該表示装置を備えた情報処理システム - 特許庁 - Light from the pattern of a mask 3 forms a primary image I of a mask pattern via a first image-forming optical system K1.
マスク３のパターンからの光が、第１結像光学系Ｋ１を介して、マスクパターンの一次像Ｉを形成する。 - 特許庁 - A pattern image is detected photoelectrically while changing a specified pattern position along the light axis of an image formation optical system.
結像光学系の光軸に沿って所定のパターンの位置を変化させつつパターン像を光電検出する。 - 特許庁 - The exposure of the pixel pattern part with 3 μm resolution and the exposure of the control pattern part with 1 μm resolution are continuously carried out using an exposure system.
露光装置でいずれかの順序で連続して３μｍの解像度で画素パターン部を露光する。 - 特許庁 - To provide a system for providing appropriate information even when a user takes an action pattern different from his/her ordinary action pattern.
ユーザが日常と異なる行動パターンをとった場合にも、適切な情報を提供するシステムを提供。 - 特許庁 - To reduce the generation of a defect of a pattern in a coating development treatment system to form a pattern on a wafer.
ウェハ上にパターンを形成する塗布現像処理システムにおいて，パターンに関する不具合の発生を低減する。 - 特許庁 - A beam of radiation is supplied by the lighting system, and the beam is processed in pattern forming by the pattern forming apparatus.
照明システムによって放射のビームが供給され、パターン形成機器によってビームがパターン形成される。 - 特許庁 - AUTOMATIC GUIDED VEHICLE, AUTOMATIC GUIDED VEHICLE OPERATION SYSTEM, ITS CONTROL METHOD, RECORDING MEDIUM, SOFTWARE, BLOCK PATTERN, AND WIDE-AREA PATTERN
無人搬送車、無人搬送車運転システム、その制御方法、記録媒体、ソフトウェア、ブロックパターン及び広域パターン - 特許庁 - An inhibition pattern appearance place extraction part 16 detects each inhibition pattern appearance place in the second system candidates.
禁止パターン出現箇所抽出部１６は第２の系列候補に各禁止パターン出現箇所を検出する。 - 特許庁 - DETECTION SYSTEM FOR SPECIFIC SIGNAL PATTERN FROM MULTI-AXIS SENSOR AND DETECTION METHOD FOR SPECIFIC SIGNAL PATTERN FROM MULTI-AXIS SENSOR
複軸センサからの特定信号パターン検出システム、複軸センサからの特定信号パターン検出方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF INSTEP PRODUCING PAPER PATTERN, AND UTILIZATION SYSTEM OF SHOES FOR BRIDE OBTAINED FROM INSTEP PRODUCING PAPER PATTERN OF THE METHOD
製甲用紙型の形成方法、およびその方法の製甲用紙型から得られた新婦用靴の利用システム - 特許庁 - DRIVING METHOD FOR STEPPING MOTOR, DRIVING SYSTEM, AND CURRENT PATTERN UPDATE DEVICE
ステッピングモータの駆動方法、駆動システムおよび電流パターン更新装置 - 特許庁 - AUTOMATIC PREPARATION METHOD FOR PAPER PATTERN FOR CLOTHES AND AUTOMATIC PREPARATION SYSTEM THEREFOR
衣服の型紙パターンの自動作成方法とその自動作成システム - 特許庁 - PRINT METHOD, COMPUTER PROGRAM, PRINTER, PRINT SYSTEM, AND CORRECTION PATTERN
印刷方法、コンピュータプログラム、印刷装置、印刷システム、および補正用パターン - 特許庁 - SIMULATION METHOD, SIMULATION SYSTEM, AND CORRECTING METHOD OF MASK PATTERN
シミュレーション方法およびシミュレーションシステム、ならびにマスクパターンの修正方法 - 特許庁 - PATTERN MATCHING METHOD AND DEVICE THEREFOR, AND SPEECH INFORMATION RETRIEVAL SYSTEM
パターンマッチング方法およびその装置、および音声情報検索システム - 特許庁 - INTERFERENCE ELIMINATION SYSTEM AND DEVICE BY MAXIMUM CORRELATION VALUE PATTERN DETECTION
最大相関値パターン検出による干渉除去方式ならびに装置 - 特許庁 - PRINTER, COMPUTER PROGRAM, PRINTING SYSTEM, METHOD OF PRINTING, AND CORRECTION PATTERN
印刷装置、コンピュータプログラム、印刷システム、印刷方法、及び、補正用パターン - 特許庁 - SETTING METHOD OF DIFFUSION PATTERN, SURFACE LIGHTING SYSTEM AND LIQUID CRYSTAL DEVICE
拡散パターンの設定方法、面状照明装置及び液晶装置 - 特許庁 - These Euclidean geometry portions are then mapped with an L-system generated pattern 26.
これらユークリッド幾何部分にＬ−系生成パターン２６をマッピングする。 - 特許庁 - To provide a measurement system easy to manufacture a grating or a pattern.
格子またはパターンの製造が容易である測定システムを提供する。 - 特許庁 - PRINTED MATTER WITH INFORMATION ENTRY ON PATTERN AREA RATIO, AND PRINTING SYSTEM
絵柄面積率情報等が記載された印刷物および印刷システム - 特許庁 - OPTICAL SERVO WRITE-IN SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING PATTERN ON MAGNETIC TAPE
光サーボ書込システムおよび磁気テープ上にパターンを生成する方法 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR MEASURING PATTERN WITH USE OF DISPLAY MICROSCOPE IMAGE
ディスプレイ顕微鏡画像を用いたパターン測定方法及び測定システム - 特許庁 - PRINTING DEVICE, COMPUTER PROGRAM, PRINTING SYSTEM AND PRINTING PATTERN PRINTING METHOD
印刷装置、コンピュータプログラム、印刷システム、及び、印刷パターンの印刷方法 - 特許庁 - PRINTER, COMPUTER PROGRAM, PRINTING SYSTEM, PRINTING METHOD AND PRINTING PATTERN
印刷装置、コンピュータプログラム、印刷システム、印刷方法、及び、印刷パターン - 特許庁 - To provide a modulation device which can eliminate a modulation pattern being not suitable for a transmission system and a modulation pattern being weak for a demodulation system.
伝送系に合わない変調パターン及び復調系が苦手とする変調パターンを除去することができる変調装置の提供。 - 特許庁 - PATTERN INSPECTING METHOD, ION IMPLANTATION CONTROL METHOD, AND ION IMPLANTATION SYSTEM
パターン検査方法、イオン注入制御方法及びイオン注入システム - 特許庁 - ELECTRONIC APPARATUS OPERATING PATTERN SWITCHING SYSTEM, AND ELECTRONIC APPARATUS AND PROGRAM THEREFOR
電子機器運転パターン切換システムおよびその電子機器並びにプログラム - 特許庁 - ELECTRONIC SYSTEM, ELECTRONIC EQUIPMENT, VIRUS PATTERN MANAGEMENT DEVICE, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM
電子システム、電子機器、ウィルスパターン管理装置、プログラム、および記録媒体 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR EVALUATING OBJECT THAT HAS REPETITIVE PATTERN
繰り返しパターンを有する物体を評価するための方法及びシステム - 特許庁 - DETERMINATION METHOD, CONTROL METHOD, DETERMINATION DEVICE, PATTERN FORMATION SYSTEM, AND PROGRAM
判定方法、制御方法、判定装置、パターン形成システム及びプログラム - 特許庁 - The lamp unit 4 irradiates a light-distribution pattern P3 of a light-concentrating system.
ランプユニット４は、集光系の配光パターンＰ３を照射する。 - 特許庁 - EXPOSURE SYSTEM AND METHOD OF DISTRIBUTING ERROR FOR PROCESSING ON ITS PATTERN ON OCCURRENCE OF ERROR
露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法 - 特許庁 - PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - SIMULATION METHOD, SIMULATION SYSTEM, AND METHOD OF CORRECTING MASK PATTERN
シミュレーション方法およびシミュレーションシステム、ならびにマスクパターンの修正方法 - 特許庁 - PROJECTING AND PHOTOGRAPHING METHOD OF LIGHT PATTERN TO THREE-DIMENSIONAL OBJECT AND ITS SYSTEM
３次元物体への光模様の投射・撮影方法及び同システム - 特許庁
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