「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 811 812 813 814 815 816 817 818 819 .... 999 1000 次へ＞- To constitute a wood pattern retaining mechanism for plate punching machine allowing a precise punching work without causing an unbalance in the pressurizing force in punching even in the miniaturization of a molding wood pattern according to the size of a molded product.
成形品の大きさに応じて成形木型を小型化した場合でも、打抜き時の加圧力にアンバランスを生じさせることなく精度の良い打抜き加工が可能なように平盤打抜き機の木型保持機構を構成する。 - 特許庁 - The server device specifies the authentication pattern from the resource class corresponding to the software resource, and the authentication device performs authentication by an authentic method of a combination of authentic methods corresponding to the authentication pattern predetermined by the server device.
サーバ装置ではソフトウェアリソースに対応するリソースクラスから認証パターンを特定し、認証装置ではサーバ装置で特定された認証パターンに対応する認証方式の組合せの中の認証方式で認証を行う。 - 特許庁 - A directivity pattern generation circuit 5 regenerates an array antenna directivity pattern on the basis of the estimated radio wave incoming directions, and a reception signal quality estimating means 6 estimates reception quality of each of the regenerated array antenna directivity patterns.
指向性パターン生成回路５は、推定された電波到来方向に基づいてアレーアンテナ指向性パターンを再生成し、受信信号品質推定手段６は、再生成された各アレーアンテナ指向性パターンの受信品質を推定する。 - 特許庁 - When low-density pixels or chromatic pixels in the document image correspond to pixels constituting a prescribed trace pattern in the output image, the trace pattern addition part 34 increases and modulates image data of Y components of the pixels and outputs the result.
また、原稿画像中の低濃度画素または有彩色画素が出力画像中において所定の追跡パターンを構成する画素に対応する場合には、その画素のＹ成分の画像データを増加変調して出力する。 - 特許庁 - The step of forming the first and the second microlenses is a step of forming the first microlens and the second microlens with a height lower than that of the first microlens by performing heat treatment on the first resin pattern and the second resin pattern.
第１、第２のマイクロレンズを形成する工程は、第１の樹脂パターンおよび第２の樹脂パターンを熱処理することにより、第１のマイクロレンズおよびこのレンズよりも低い第２のマイクロレンズを形成する工程である。 - 特許庁 - When accessing a certain WEB server from a user terminal through Internet, two or more WEB pages are displayed on the basis of pattern information stored in the browser of the user terminal in a prescribed order according to this pattern.
利用者の端末からインターネットを介して、あるＷＥＢサーバーにアクセスした際、利用者端末のブラウザに保存されたパターン情報に基づいて複数のＷＥＢページを当該パターンに従った所定の順序で表示させる。 - 特許庁 - To prevent erroneous diagnosis by capturing a change in an iris pattern by data processing technology, not by visual observation in health diagnosis using an iris pattern and easily manage the data obtained by such health diagnosis.
アイリスパターンによる健康診断において、アイリスパターンの変化を目視観察ではなくデータ処理技術によって捉えるようにすることで誤診断をなくし、また、そのような健康診断で得られるデータも容易に管理できるようにする。 - 特許庁 - To provide a photomask blank which does not cause accumulation of charges on the blank coated with a resist when a pattern is drawn with electron beams using a high acceleration voltage electron beam drawing machine, and to provide a photomask with excellent pattern position accuracy.
高加速電圧の電子ビーム描画機を用いて電子ビーム描画する際レジストコートしたブランクス上で電荷のチャージアップをおこさないフォトマスク用ブランクス及びパターン位置精度の優れたフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for forming a diffraction grating and a method for manufacturing a semiconductor laser, which can suppress shift of a diffraction grating pattern from a design value even when a pattern dimension of a mask layer is shifted from the design value.
マスク層のパターン寸法がその設計値からずれた場合においても、回折格子のパターンがその設計値からずれることを抑制可能な回折格子を形成する方法及び半導体レーザを作製する方法を提供する。 - 特許庁 - When displaying characters based on outline font data stored in font ROM 5, a CPU 2 performs cache processing which temporarily stores pattern data showing characters generated from the font data in a cache pattern storage area 7b and reuses it.
ＣＰＵ２は、フォントＲＯＭ５に格納されたアウトラインフォントデータに基づく文字の表示に際し、フォントデータから生成した文字を表すパターンデータをキャッシュパターン格納エリア７ｂに一時記憶して再使用するキャッシュ処理を行う。 - 特許庁 - When the lighting pattern of sub-field pair applying a simultaneous scanning system is a specific pattern, both lighting patterns of the sub-field pair are converted to the prescribed lightening patterns, the dither system and the frame modulation system are applied and displayed.
同時スキャン方式を適用するサブフィールド対の点灯パターンが特定パターンである場合に、サブフィールド対の双方の点灯パターンを所定の点灯パターンに変換し、ディザ方式と前記フレーム変調方式とを適用して表示する。 - 特許庁 - A photo mask is formed where a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern is arranged having a light intensity reduction function comprising a translucent film, or a complicated gate electrode is formed by applying a reticle to a photolithographic process for forming a gate electrode.
回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して複雑なゲート電極を形成する。 - 特許庁 - The photomask 1 has a light blocking film pattern 12 formed on a light-transmissive substrate 11 and the ion residue density of sulfuric acid ions on the photomask surface on the side where the light blocking film pattern 12 is formed is ≤10 ng/cm^2.
透光性基板１１上に遮光性膜パターン１２が形成されたフォトマスク１であって、遮光性膜パターン１２が形成された側のフォトマスク表面における硫酸イオンのイオン残さ密度を１０ｎｇ／ｃｍ^２以下とする。 - 特許庁 - The stabilizing means 28 is electrically connected to the second voltage measuring terminal 25, and stabilizes the voltages of the second voltage measuring terminal 25 and the contact part of the wiring pattern 29 with the measuring pattern 25.
電圧安定手段２８は、第２の電圧計測端子２５に電気的に接続され、その第２の電圧計測端子２５及び配線パターン２９の電圧計測端子２５との接触部の電圧を安定させるようになっている。 - 特許庁 - A method for defining a pattern includes etching the pattern through a photoresist into a substrate, heating the patterned substrate to a temperature sufficient to ash the photoresist and provide a residue, and removing the residue by bringing the residue into contact with the cleaning composition.
バターンの規定方法は、フォトレジストを通した基材へのパターンのエッチング、フォトレジストが灰化するのに充分な温度にパターン化された基材を熱すること、および該クリーニング組成物と残渣が接触することによる除去を含む。 - 特許庁 - A transfer sheet S is constituted by providing at least a pattern layer 3 on a support 1 using a polyolefinic resin as a releasable resin and constituting the main component resin of the binder of the pattern layer of a polyurethane/acrylic block copolymer.
転写シートＳは、ポリオレフィン系樹脂を離型性樹脂とした支持体１に、転写層２として少なくとも絵柄層３を有し、この絵柄層のバインダーの主成分樹脂をポリウレタン−アクリルブロック共重合体で構成する。 - 特許庁 - The attenuator is obtained by improving an attenuator having a resistor pattern connected electrically with the ground and formed on a substrate, and a pair of conductor patterns connected in series via the resistor pattern.
本発明は、グランドに電気的に接続され基板上に形成された抵抗体パターンと、この抵抗体パターンを介して互いに直列接続された一対の導体パターンとを有する減衰器に改良を加えたものである。 - 特許庁 - An electrostatic chucking plate 5 of an electrostatic chuck is divided into a device region 51 corresponding to a device pattern of the substrate 10, and a non-device region 52 corresponding to a region on which the device pattern 12 of the substrate 10 is not formed.
本発明の静電チャックの静電チャックプレート５は、基板１０のデバイスパターンに対応するデバイス領域５１と、基板１０のデバイスパターン１２が形成されていない領域に対応する非デバイス領域５２とに分けられる。 - 特許庁 - The coded pattern is detected within the image on the output display by an infrared (IR) video camera disposed on the display, opposite to the object, responding to the IR light reflected from the coded pattern.
コード化されたパターンは、物体から表示面の対側に配置されているＩＲビデオカメラによりコード化されたパターンから受け取った反射された赤外線（ＩＲ）光に反応（応答）して出力される表示面の画像内で検出される。 - 特許庁 - Since simulation is carried out by using the data as the dimension data of the auxiliary pattern prepared by adding a bias to the design dimension of the auxiliary pattern, simulation can be performed with high accuracy and a fitting error can be minimized.
補助パターンの設計寸法にバイアス値が加えられたデータを補助パターンの寸法のデータとして用いてシミュレーションを行うため、高い精度でシミュレーションを行うことができ、フィッティング誤差を極めて小さくすることが可能となる。 - 特許庁 - A CPU 3 estimates a probability density function to an M-dimensional pattern vector by use of a kernel function of a correlation group, and performs the clustering of the pattern vector by use of density distribution mode search algorithm on the basis of the estimated probability density function.
ＣＰＵ３は、コリレーション族のカーネル関数を用いて、Ｍ次元のパターンベクトルに対し、確率密度関数を推定し、推定した確率密度関数を基に、密度分布モード探索アルゴリズムを用いてパターンベクトルのクラスタリングを行なう。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus and a control method thereof that cannot establish image processing of disabling a design pattern effect to images with design patterns and warrants the design patterns by prioritizing the design pattern effect even when the image processing is established.
地紋が付加された画像に対しては地紋効果がなくなる画像処理を設定できない、設定された場合でも地紋効果を優先させることで、地紋パターンを保障する画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁 - The projection exposing machine projects illumination luminous flux on a reticle 800 having a target reticle pattern 810 and projects illumination luminous flux having passed through the reticle on the sample 900 to expose the reticle pattern.
本実施の形態の投影露光機は、照明光束を目的のレチクルパターン８１０を有するレチクル８００に投射し、当該レチクルを透過した照明光束を試料９００上に投影して、レチクルパターンの露光を行う。 - 特許庁 - The pattern A and the patterns Ba, Bb are displaced or crossed at angles θ1, θ2 where the moire patterns appear, to three-dimensionally display gradation moire patterns wherein the pattern concentration and the color density change between the fine area and coarse area.
パターンＡと、パターンＢａ，Ｂｂとをモアレ模様が現出する角度θ１，θ２に変位又は交差して、模様密度及び色の濃度が密領域と粗領域との間で変化するグラデーションのモアレ模様を立体的に現出する。 - 特許庁 - To provide a video edition support system that provides video representation technique and support to meet the requirements of a user for a video that is newly photographed by the user, on the basis of a pattern of the video representation technique, by extracting the pattern from a video database.
ビデオデータベースから映像表現技法のパターンを抽出し、そのパターンを基に、ユーザが新たに撮影するビデオに対して、表現意図にあった映像表現技法の提供、支援を行うビデオ編集支援システムを提供する。 - 特許庁 - A prediction part 7 compares the latest access request from a host 2 with the past access pattern registered in access pattern management information 8, and detects a disk drive 3 predicted to be accessed the next by the host 2.
予測部７は、ホスト２からの最近のアクセス要求とアクセスパターン管理情報８に登録されている過去のアクセスパターンとを比較することにより、ホスト２が次にアクセスするであろうと予測されるディスクドライブ３を検出する。 - 特許庁 - The workstation 3 superimposes the Penrose tile pattern of the reference picture and the Penrose tile pattern of the sample LSU 21 (the object picture) through a microscope to calculate the displacement quantity between the reference picture and the object picture.
画像処理用ワークステーション３は参照画像のペンローズタイルパタンと顕微鏡２を介して得られた試料ＬＳＩ２１（対象画像）のペンローズタイルパタンとを重ね合わせて参照画像と対象画像との位置ずれ量を算出する。 - 特許庁 - This lithography device is provided with a supporting structure configured to hold a phase shift mask configured so that any unpolarized radiation beam can be pattern-formed according to a desired pattern and a substrate table configured to hold a substrate.
リソグラフィ装置は、所望のパターンに従って非偏光放射のビームをパターン形成するように構成された位相シフト・マスクを保持するように構成された支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルとを備えている。 - 特許庁 - Since the p-methylcalix [7] arene has about 1 nm molecular size and low molecular symmetry, pattern roughness which occurs in the formation of a fine pattern of ≤100 nm can be reduced to a very low level.
ｐ−メチルカリックス［７］アレーンは分子の大きさが１ｎｍ程度であり、しかも分子の対称性が低いため、１００ｎｍ以下の微細パターン形成時に生成されるパターンラフネスを極めて低いレベルまで低減することが可能となる。 - 特許庁 - A peak emphasizer 2 obtains a time-spectral pattern whose peaks are emphasized by applying two-dimensional peak emphasizing operators 20 performing peak emphases in both directions of a frequency direction and a time direction to this time-spectral pattern.
ピーク強調器２は、この時間−スペクトルパターンに対して周波数方向及び時間方向の両方向にピーク強調する２次元のピーク強調オペレータ２０を適用することで、ピーク強調された時間−スペクトルパターンを取得する。 - 特許庁 - To provide a positive type resist composition having high transparency particularly to ArF excimer laser beam and high resolution and capable of forming a resist pattern excellent in pattern shape, dry etching resistance and adhesion to a substrate.
特にＡｒＦエキシマレーザー光に対して透明性が高く、かつ高解像性を有すると共に、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び基板との密着性に優れるレジストパターンを形成しうるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - When the irregular pattern 102 is irradiated with the servo light 105, a clock signal can be reproduced from this irregular pattern 102, when recording and reproducing of hologram is performed using the clock signal, highly accurate servo control can be realized.
凹凸パターン１０２にサーボ光１０５を照射すれば、この凹凸パターン１０２からクロック信号を再生することができ、クロック信号を用いてホログラムの記録及び再生を行えば、高精度なサーボコントロールを実現することができる。 - 特許庁 - A second mask pattern used in a second exposure process includes at least one localized adjustment to at least one feature thereof to compensate for scattering effects of the developed resist pattern that is present when the second exposure is performed.
第２の露光工程で使用される第２のマスクパターンは、第２の露光が実行される時に存在する現像レジストパターンの散乱効果を補償するその少なくとも１つのフィーチャに対する少なくとも１つの局所調整を含む。 - 特許庁 - A pattern registering function is also provided for sampling unregistered natural language patterns, including natural language patterns containing registered grammatical attributes and natural language patterns containing regulations about the registered origins, to newly register the patterns into the pattern dictionary.
登録された文法属性を含む自然言語パターンや、登録された素性に関する規定を含む自然言語パターンを含め、未登録の自然言語パターンを取り込んでパターン辞書に新規登録するパターン登録機能も有する。 - 特許庁 - The dielectric antenna part 1 has an electrode pattern 11 formed on a dielectric 10 and the electrode pattern 11 is connected to the feed point of the plane antenna part 21 to feed the plane antenna 21 through the dielectric antenna part 1.
誘電体アンテナ部１は、誘電体１０上に電極パターン１１が形成され、この電極パターン１１が平板アンテナ部２１の給電点に接続され、誘電体アンテナ部１を介して平板アンテナ部２１へ給電が行われる。 - 特許庁 - When performing toner concentration detecting processing, a printer controller designates size and position of a toner pattern so as to illuminate the toner pattern with at least one of light spots by flare light and a light spot by detecting light.
プリンタ制御装置は、トナー濃度検出処理を行う際に、フレア光による光スポットの少なくとも１つと検出用光による光スポットとがトナーパターンを照明するようにトナーパターンの大きさ及び位置を指示する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor testing apparatus whose timing of application of a test pattern waveform common to each DUT by a test waveform application circuit is not different from those of individual test pattern waveforms, and whose circuit scale has been reduced.
試験波形印加回路が、各々のＤＵＴへ共通な試験パターン波形を印加する場合と個別の試験パターン波形を印加する場合とで印加タイミングのずれがなく、回路規模を縮小した半導体試験装置を提供する。 - 特許庁 - A photographing instruction device 1 selects a photographing pattern corresponding to a disaster from preset photographing patterns, inputs a photographing condition corresponding to the selected photographing pattern and transmits a photographing instruction.
撮影指示装置１は、予め設定してある撮影パターン１０１の中から災害に応じた撮影パターン１０１を選択し、選択した撮影パターン１０１に対応して撮影条件１１２を入力して撮影指示１０３を送信する。 - 特許庁 - The antenna sheet is manufactured by directly forming the antenna pattern on the magnetic sheet 11 using a material containing the nanoparticles, applying heat treatment to the magnetic sheet with the antenna pattern and sintering the nanoparticles.
このアンテナシートは、磁気シート１１上にナノ粒子を含む材料を用いてアンテナパターンを直接形成し、前記アンテナパターンを有する磁気シートに熱処理を施して前記ナノ粒子を焼結させることにより製造することができる。 - 特許庁 - By radiating an ultraviolet ray UV or an electron beam EB through a transparent body 1 having a mosaic pattern, a curing lowering part 5 whose curing degree is partially lowered correspondingly to the mosaic pattern is formed in the Fresnel lens part 11.
モザイク模様を有する透明体１を介して紫外線ＵＶまたは電子線ＥＢを照射することによって、フレネルレンズ部１１に、前記モザイク模様に対応して部分的に硬化度の低下した硬化低下部５が形成されている。 - 特許庁 - In the pattern forming method for the resin film by dry etching, a pattern forming method is characterized by using: novolak resin as a resist; and halogen-based gas as etching gas, wherein the resin film contains fluorine-containing aromatic resin.
ドライエッチングによる樹脂膜のパターン形成方法において、レジストとしてノボラック樹脂を用い、エッチングガスとしてハロゲン系ガスを用い、かつ、樹脂膜が含フッ素芳香族系樹脂を含む樹脂膜であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - To classify a vibration waveform pattern as an abnormal vibration waveform such as rock fall by a neural network, while converting a vibration waveform into a form easily recognized as a pattern.
振動波形をパターンとして認識し易い形状に変換しながら、振動波形パターンをニューラルネットワークによって落石等の異常な振動波形として分別できる振動波形の分析方法と岩盤斜面監視装置を提供する。 - 特許庁 - To simultaneously detect a fingerprint pattern and a sweat gland pattern using two biological information of body temperature and a sweat gland and easily and accurately discriminate a genuine fingerprint from a false fingerprint.
体温と汗腺という２つの生体情報を用いて、指紋のパターンと汗腺のパターンとを同時に検出することができる方法を提供し、本物の指紋と擬似指紋の区別を容易かつ正確に行うことができるようにする。 - 特許庁 - To provide a self-development type voice language pattern recognition system capable of efficiently performing pattern recognition processing for voice language data at a high recognition rate and self-adaptively developing its system configuration.
音声言語データに対するパターン認識の処理を高い認識率でかつ効率的に行うとともに、そのシステム構成を自己適応的に発展させることができる自己発展型音声言語パターン認識システムを提供する。 - 特許庁 - By making the etching rate by chlorine of a photoresist pattern 3 higher than that of an aluminium film, etching proceeds downward an isotropically also from a surface of the exposed aluminium film, since the photoresist pattern 3 is retreated.
塩素によるフォトレジストパターンのエッチングレートを、アルミニウム膜のエッチングレートよりも高くすることによって、フォトレジストパターンが後退することによって露出したアルミニウム膜の表面からもエッチングが下方に向かって異方的に進行する。 - 特許庁 - The print structure 10 includes a pattern layer 26 that selectively actuates one or more of a plurality of actuators to selectively form one or more wells 16 in a print surface to create a defined pattern on the print surface.
印刷構造１０は、複数のアクチュエータの１ないし複数を選択的に作動して１ないしは複数のウェル１６を印刷表面内に形成し、当該印刷表面上に所定パターンを作り出すパターン層２６を含む。 - 特許庁 - A resist pattern is formed by usual photo-lithography or the like, then the indium tin oxide thin film is etched with an etching solution to form an indium tin oxide thin film pattern having a good tapered shape in the etched cross section.
つぎに、通常のフォトリソグラフィー等の方法でレジストパターンを形成し、エッチング液により酸化インジウム錫薄膜をエッチングすると、エッチング断面に良好なテーパー形状を有する酸化インジウム錫薄膜パターンが形成される。 - 特許庁 - To allow a headlight for vehicle, which is configured so as to form a predetermined light distribution pattern, to control light intensity distribution of the light distribution pattern finely even if the headlight uses semiconductor light emitting elements as light sources.
所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、その光源として半導体発光素子を用いた場合においても、配光パターンの光度分布をきめ細かく制御可能とする。 - 特許庁 - When a resist pattern layer 104 is thus formed on a silicon oxide layer 103, the silicon oxide layer 103 is selectively etched using the resist pattern layer 104 as a mask by well known dry etching (reactive ion etching).
これらのように、酸化シリコン層１０３の上にレジストパターン層１０４を形成したら、よく知られたドライエッチング（反応性イオンエッチング）により、レジストパターン層１０４をマスクとして酸化シリコン層１０３を選択的にエッチングする。 - 特許庁 - The method for orienting the CNT is characterized in that the carbon nanotubes (CNT) are oriented in parallel to a concaved pattern on the substrate 10 or a pattern formed of a material having an affinity to the carbon nanotubes.
基材１０上の凹部のパターン、又はカーボンナノチューブに対する親和性を有する材料のパターン上に、このパターンに対して平行にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を配向させることを特徴とする、ＣＮＴの配向方法とする。 - 特許庁
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