「pattern」を含む例文一覧(50000)

<前へ 1 2 .... 821 822 823 824 825 826 827 828 829 .... 999 1000 次へ>
  • A printed wiring board has an insulating substrate 5 and a wiring pattern composed of connecting terminals 15, etc., and plated leads 11 formed on the surface of the substrate 5.
    絶縁基板5と,その表面に形成された接続端子15等の配線パターンと,メッキリード11とを有する。 - 特許庁
  • A pie chart in which one residual element is discriminated according to a pattern is displayed in the cell regions combined by the X/Y axes.
    XY軸により組み合せたセル領域に、残りの1要素を模様により区別したパイチャートを表示する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a resist pattern in two-layer resist process including a developing step as simple as in monolayer resist process.
    単層レジストプロセスと同等の簡略な現像工程でよい二層レジストプロセスのレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • According to the test pattern, voltage is applied by a voltage generating section 11 to each input terminal of a test workpiece 5.
    このテストパターンに従って電圧発生部11にて被検査ワーク5の各入力端子に対して電圧を印加する。 - 特許庁
  • The computer estimates massage effect according to the brain-wave signal and optimizes the massage pattern according to the estimation result.
    コンピュータは、脳波信号に基づいてマッサージ効果を推定し、この推定結果に基づいてマッサージパターンの最適化する。 - 特許庁
  • ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AS WELL AS RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD
    感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁
  • Thus, the player has more expectation that the stopped pattern gains great hit in the race, providing more amusement.
    したがって、レース中において停止図柄が大当り図柄になることへの遊技者の期待感が増し、興趣感が高まる。 - 特許庁
  • A techniques is also disclosed for selecting a screening pattern to be used when stitching is performed with variable-dot printers.
    ステッチングが可変ドットプリンターを用いて実行される場合に使用されるスクリーニングパターンを選択する技術も開示される。 - 特許庁
  • Step ST12: First mask pattern data are prepared in which first opening patterns are arranged on all of the grid points.
    全ての前記グリッド点上に第1の開口パターンが配置された第1のマスクパターンデータを用意する(ステップST12)。 - 特許庁
  • To accurately verify whether L/S (line and space widths) of each line pattern on a mask data agrees with the specification of a mask layout design.
    マスクデータ上の各線パターンのL/Sがマスクレイアウト設計仕様と合致するかどうかを正確に検証する。 - 特許庁
  • To suppress the fluctuation of semiconductor characteristics when side wall width is changed according to the pattern compression of a gate electrode.
    ゲート電極のパターン疎密に応じてサイドウォール幅が変化する場合の半導体特性のばらつきを抑制する。 - 特許庁
  • To provide electric discharge-machining equipment which corrects a position of a machining electrode according to a jump pattern to improve machining accuracy.
    ジャンプパターンに応じて加工電極の位置を補正し、加工精度の向上が図られた放電加工機を提供する。 - 特許庁
  • Moreover, in a resist printing process, resist layers 34 of a prescribed pattern are formed on both faces of the current collector laminating unit 30.
    また、レジスト印刷工程では、集電体積層ユニット30の両面に所定パターンのレジスト層34が形成される。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method in which uniform patterning can be performed, and a manufacturing method for a color filter.
    ムラのないパターニングが可能なパターン形成方法及びカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A first illumination optical system 10 includes a first light source part 11 for illuminating the eye 60 with the luminous flux of a prescribed pattern.
    第1照明光学系10は、被測定眼60に所定パターンの光束を照射する第1光源部11を含む。 - 特許庁
  • To provide an automatic identification method of micro beads, capable of identifying an identification pattern formed in a micro bead at high speed.
    マイクロビーズに形成された識別パターンを高速に識別することが可能なマイクロビーズ自動識別方法の提供。 - 特許庁
  • Then, between the housings 4A, 4B of the parts and the auxiliary metallic pattern portions 8A, 8B, solders for reinforcements are provided for reinforcing their couplings.
    そして、部品筐体4A、4Bと補助金属パターン部8A、8Bとの間に補強用の半田を設け、補強する。 - 特許庁
  • This resist film 12 is patternwise exposed and developed to form the objective resist pattern 12A comprising the resist film 12.
    レジスト膜12に対してパターン露光及び現像を行なって、レジスト膜12からなるレジストパターン12Aを形成する。 - 特許庁
  • On the basis of the decided variation pattern, the variation of the decorative patterns is executed in one of the variable display devices 9a and 9b.
    決定した変動パターンにもとづいて可変表示装置9a,9bの一方で飾り図柄の変動を実行する。 - 特許庁
  • The pattern material 50 includes a transparent substrate 12 and a cholesteric liquid crystal layer 11 provided on the transparent substrate 12.
    パターン材50は、透明基材12と、透明基材12上に設けられたコレステリック液晶層11とを備えている。 - 特許庁
  • MANAGING SYSTEM AND DISTRIBUTION SYSTEM OF FUEL CELL OPTIMUM OPERATION PATTERN, AND FUEL CELL SYSTEM
    燃料電池最適運転パターン管理システム及び燃料電池システム並びに燃料電池最適運転パターン配信システム - 特許庁
  • Thereby, a plurality of masks 11A having pattern shapes corresponding to the first magnetic parts are provided on the magnetic film 5.
    これにより、第1磁性部に対応したパターン形状を有する複数のマスク11Aを磁性膜5上に設ける。 - 特許庁
  • To obtain an omnidirectional pattern of both vertically/horizontally polarized waves and to be integrated into the load supporting member of an airplane structure.
    垂直/水平偏波双方の全方向パターンが得られ、航空機構造の負荷支持部材に組み込み可能とする。 - 特許庁
  • The heat sink 3 is provided with recessed portions 6 formed of grooves 6a in a grid pattern, and an adhesive is put only in the recessed portions 6.
    放熱板3に碁盤の目のような溝6aからなる凹部6を形成し、この凹部6にだけ接着剤を入れる。 - 特許庁
  • A test pattern 28 is projected from an off-axis collimator to a right side peripheral surface part or a left side peripheral surface part of the test lens 12.
    軸外コリメータから被検レンズ12の右側周面部又は左側周面部にテストパターン28を投写する。 - 特許庁
  • A photomask 20 includes a discharge inducing pattern 21 to be placed near the top end of the corner 11a.
    一方、フォトマスク20には、角部11aの先端近傍に配置される放電誘発用パターン21が設けられている。 - 特許庁
  • To provide an exposure drawing device, forming an alignment mark required for drawing a circuit pattern on both sides of a substrate.
    回路パターンの描画に必要なアライメントマークを基板の両面に形成するようにする露光描画装置を提供する。 - 特許庁
  • COPOLYMER, COMPOSITION FOR BUFFER MEMBRANE, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING CAPACITOR BY USING THE SAME
    共重合体、バッファ膜用組成物、それを用いたパターン形成方法及びそれを用いたキャパシタの製造方法 - 特許庁
  • To provide a lithography device and a device manufacturing method for improving a critical size profile in a projection pattern.
    投影パターンにおける臨界寸法プロファイルを改善するリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • Display elements 13r, 13g1, 13g2 and 13b project images on a screen, and project a pattern image for detecting misregistration in a screen frame.
    表示素子13r,13g1,13g2,13bはスクリーンに画像を投射すると共に、スクリーン枠に位置ずれ検出用のパターン画像を投射する。 - 特許庁
  • To manufacture an adhesive jigsaw puzzle with a pasteboard, when peeling jigsaw pieces off, appearing a pattern plate from the bottom, at a low cost.
    ジグソーピースを剥がすと下から図版が現れるようにした台紙付き粘着ジグソーパズルを低コストで製造する。 - 特許庁
  • MASK BLANK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE, MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND PATTERN EXPOSURE METHOD
    荷電粒子線露光用マスクブランク、荷電粒子線露光用マスク、及びその製造方法、並びにパターン露光方法 - 特許庁
  • To accurately recognize density of an evaluation pattern, thereby accurately adjusting writing timing of each of light emitting parts.
    評価パターンの濃度を正確に把握することによって各発光部の書き出しタイミングを正確に調整すること。 - 特許庁
  • To provide a patch antenna reduced in overall patch size and weight and broadened in the directional characteristic pattern of the antenna.
    パッチの全体的サイズと重さを低減するとともに、アンテナの方向特性パターンを広くしたパッチ・アンテナを提供する。 - 特許庁
  • To improve reliability by simplifying configuration when forming a pattern in an endless shape on a mask for drawing electron beams.
    電子線描画用マスク上に無端形状パターンを形成する場合、構成を簡単にして信頼性を向上させる。 - 特許庁
  • CONCAVO-CONVEX PATTERN FORMING SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND PROCESS SHEET FOR MANUFACTURING REFLECTION PREVENTING BODY, PHASE DIFFERENCE PLATE, AND OPTICAL ELEMENT
    凹凸パターン形成シートならびにその製造方法、反射防止体、位相差板および光学素子製造用工程シート。 - 特許庁
  • METHOD OF CONTROLLING SURFACE PATTERN ARRANGEMENT FORMED ON MACHINING SURFACE, CAD/CAM, AND NUMERICAL CONTROL MACHINE TOOL
    加工表面に形成される表面模様配列を制御する方法、CAD/CAM、および、数値制御工作機械 - 特許庁
  • The shaft and/or the bearing sleeve have at least one groove pattern for forming at least one radial bearing section.
    シャフト及び/又は軸受スリーブは、少なくとも1つのラジアル軸受部を形成する少なくとも1つの溝模様を有する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming an SOI layer with a pattern wherein no transition region containing many defects is formed.
    非常に欠陥の多い遷移領域が形成されないパターン付きSOI層の形成方法を提供すること。 - 特許庁
  • Namely, the overhead light distribution pattern is formed by light transmitting through the plurality of fine holes of the shade.
    すなわち、シェードに形成された複数の微細な穴を透過した光によってオーバーヘッド用配光パターンを形成する。 - 特許庁
  • An SiN film 9 is deposited thin on the pattern 4a of the SiN film, having comparatively deep irregularities 4b at line edges.
    ラインエッジに比較的深い凹凸4bを有したSiN膜のパターン4a上にSiN膜9を薄く堆積する。 - 特許庁
  • To provide a laser beam machining apparatus that can accurately project a mask pattern on a workpiece and has excellent machining accuracy.
    マスクパターンを被加工物上に精度良く投影することができ、加工精度に優れるレーザ加工装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a slot machine capable of raising precision in pulling-in a pattern when the stop of reels is controlled by a table system.
    テーブル方式でリールを停止制御する場合に、図柄の引き込み精度を向上できるスロットマシンを提供する。 - 特許庁
  • To enable a wiring board having high reliability to be easily manufactured by accurately forming a fine wiring pattern.
    微細な配線パターンを高精度に形成することができ、信頼性の高い配線基板を容易に製造可能とする。 - 特許庁
  • Fourth, basic patterns used in the ball arrangement patterns are selected from the basic pattern registration means based on the memory means.
    第4に、ボール配置パターンに用いられている基本パターンを記憶手段を基に基本パターン登録手段から選択する。 - 特許庁
  • A wafer substrate 1 on which a prescribed resist pattern 2 is formed is immersed into a solution 10 in which an organic material 11 is dissolved.
    所定のレジストパターン2が形成されたウェハ基板1を、有機物11が溶融された溶液10に浸漬させる。 - 特許庁
  • To provide a solvent for a photoresist capable of forming a good pattern even in a thin film resist process at ≤160 nm.
    160nm以下の薄膜レジストプロセスにおいても良好なパターンを形成可能なフォトレジスト用溶媒を提供する。 - 特許庁
  • For the purpose of forming m groups of the pattern, the photosensitive material layer is regularly or randomly patterned.
    感光性材料層は、m個のグループのパターンを形成するために、規則正しく、あるいはランダムにパターン化されている。 - 特許庁
  • To provide a fluorescent character display tube reducing occurrence of a break in a wire even when a wire width of a wiring pattern is narrow.
    配線パターンの線幅が狭い場合でも断線の発生を低減化できる蛍光表示管を提供すること。 - 特許庁
  • In the circuit substrate 30, a plurality of through-holes 33 are formed outside a region where an FG coil pattern 32 is formed.
    回路基板30には、FGコイルパターン32が形成される領域の外側に複数の貫通孔33が形成される。 - 特許庁
<前へ 1 2 .... 821 822 823 824 825 826 827 828 829 .... 999 1000 次へ>

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.