「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 852 853 854 855 856 857 858 859 860 .... 999 1000 次へ＞- In the coating development treatment system 1, a wafer U for inspection is treated periodically and a pattern is formed on the wafer U.
塗布現像処理システム１において，定期的に検査用のウェハＵを処理して，ウェハＵ上にパターンを形成する。 - 特許庁 - The insulating layer 4 and the wiring pattern 5 in the upper region of the opening part 2 are arranged so that the upper faces are depressed.
ここで、開口部２の上方領域の絶縁層４および配線パターン５はその上面が窪んで設けられる。 - 特許庁 - To make a device smaller, also to reduce the burden on a user in finger pattern input and improves reproducibility.
装置のさらなる小型化を図ると共に指パターン入力におけるユーザの負担を少なくして再現性を良くする。 - 特許庁 - An inputted voice signal is converted into a time-spectral pattern by performing the frequency analysis of the signal with a BPF group 1.
入力された音声信号をＢＰＦ群１にて周波数分析することで時間−スペクトルパターンに変換する。 - 特許庁 - A transparent or translucent gel coat for forming a pattern is applied to the punched region 12A by spray coating and cured.
抜き領域１２Ａに模様形成用の透明若しくは半透明のゲルコートをスプレー塗布してこれを硬化させる。 - 特許庁 - To avoid unstable stratified combustion caused by change in a spray pattern in a non-warm-up state at a low fuel temperature.
燃料温度が低い未暖機状態での噴霧形状の変化に起因する成層燃焼の不安定化を回避する。 - 特許庁 - An inner part of the opening part 12 is in a state where it is covered by a non-photosensitive organic film and the resist pattern 16.
このとき、開口部１２ａ内は、非感光性の有機膜とレジストパターン１６とによって覆われた状態にある。 - 特許庁 - To provide wiring pattern inspection method capable of easily detecting defects of wiring patterns, in a short time.
配線パターンの欠陥を短時間で簡単に検知することができる配線パターンの検査方法を提供することである。 - 特許庁 - (a) A stencil mask comprising a silicon thin film 103 having an opening 104 of a prescribed transparent hole pattern shape is provided.
（ａ）所定の透過孔パターン形状の開口１０４を有するシリコン薄膜１０３を具備するステンシルマスクを用意する。 - 特許庁 - To provide a gray tone mask capable of suppressing the occurrence of electrostatic damages in a pattern during handling when the mask is used.
マスク使用時のハンドリング中に起こり得るパターンの静電破壊の発生を抑制できるグレートーンマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide an electron beam drawing device for precisely drawing a desired pattern on a substrate by using an electron beam.
電子線を用いて基板上に所望のパターンを精度良く描画することができる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁 - Over the whole surface of a board 11, a power supply film 12 composed of tungsten is formed, on which a photoresist pattern 13 is formed.
基板１１の全面にタングステンからなる給電膜１２を形成し、その上にフォトレジストパターン１３を形成する。 - 特許庁 - After an amorphous silicon film 10 is formed and a spacer 10a is formed by an RIE method, the core material pattern 9 is removed.
非晶質シリコン膜１０を形成し、ＲＩＥ法でスペーサ１０ａを形成した後、芯材パターン９を除去する。 - 特許庁 - A polymethylglutarimide layer 3 is formed for constituting a resist pattern and its surface is washed with an organic solvent.
レジストパターン２０を構成するポリメチルグルタルイミド層３を形成した後、その表面を有機溶剤によって洗浄する。 - 特許庁 - To provide an electronic circuit module excellent in general versitility and not badly influencing also to a pattern layout on a mother board side.
汎用性に優れ母基板側のパターンレイアウトにも悪影響を及ぼさない電子回路モジュールを提供すること。 - 特許庁 - Next, the resist pattern 11 and the first organic film 8 are ashed to expose the first insulation film 7 in the opening.
次に、レジストパターン１１および第１の有機膜８をアッシングし、開孔部から第１の絶縁膜７を露出させる。 - 特許庁 - To form a wiring pattern on the surface of a ceramic green sheet (ceramic crude board) before baking by photolithography method.
焼成前のセラミックグリーンシート（セラミック生基板）の表面にフォトリソグラフィ法で配線パターンを形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide a supercritical processing apparatus, etc., which suppress a pattern collapse, and has a high throughput and a long maintenance period.
パターン倒れの発生を抑えると共に、スループットが高く、メンテナンス周期の長い超臨界処理装置等を提供する。 - 特許庁 - Furthermore, the core material film 31 is slimmed, to form a line-and-space-like pattern of a second width smaller than the first width.
さらに、芯材膜３１をスリミングして第１の幅より小さい第２の幅のラインアンドスペース状のパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a box tree pattern processing machine shortening a processing time, a program for controlling the same and a timepiece component.
加工時間が短縮されるようになるツゲ模様加工機およびその制御用プログラムならびに時計部品の提供。 - 特許庁 - To provide a solder resist pattern formation method wherein the conventional solder resist printing process is replaced by a laser evaporation process.
従来のソルダーレジスト印刷工程に取って代わるレーザ蒸着加工によるソルダーレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Under a state where the wiring pattern 6 is left on the surface of the base 4, the metal frame is removed from the base 4 by etching.
ベース４の表面に配線パターン６を残した状態で、メタルフレームをエッチング法によりベース４から除去する。 - 特許庁 - To design a semiconductor device having a satisfactory breakdown voltage even if mask displacement has occurred in pattern forming.
パターン形成時にマスクずれが生じたとしても、十分な耐圧を有する半導体装置を設計できるようにする。 - 特許庁 - To prevent a conductor for connecting the electrode on an IC chip with the electrode on a substrate from projecting above the circuit pattern plane.
ＩＣチップの電極と基板の電極との接続用導体が回路パターン面より突出するのを防止する。 - 特許庁 - A heating process is executed at the corrected set temperature, and a resist pattern of the target dimension is formed on the wafer (step S10).
補正された設定温度で加熱処理を行い、ウェハ上に目標寸法のレジストパターンを形成する（ステップＳ１０）。 - 特許庁 - This photomask has a pattern for leveling management formed in a region consisting of a mask material for halftones.
本発明に係るフォトマスクは、ハーフトーン用マスク材からなる領域に形成されたレベリング管理用パターンを備えている。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING PATTERN DATA FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子線描画描画用パターンデータ作成方法、電子線描画用パターンデータ作成装置および電子線描画装置 - 特許庁 - A mask 145 for producing the grating is formed on the InP substrate by removing the resist pattern 143.
レジストパターン１４３を除去することにより、ＩｎＰ基板上に回折格子の作製用のマスク１４５が形成される。 - 特許庁 - This ring body 2a is fixed to the supporter body 1 with a track pattern of a race field to form the elastic body 2.
このリング体２ａをサポータ本体１に対して、レース場のトラックパターン状に止め付けて弾性体２を構成する。 - 特許庁 - The electrode conductor 5 is connected to the external electrode 4 on the opposite side of the connection side of the nearby conductor pattern 2.
電極導体５の接続は近辺の導体パターン２の接続側とは逆側の外部電極４に接続する。 - 特許庁 - An etching stopping film pattern is formed at a part opposed to the photodiode on the first interlayer insulating structure.
前記第１層間絶縁構造物上で前記フォトダイオードと対向する部位にエッチング阻止膜パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a selective electroless plating method by which a finer pattern having high reliability can be easily formed.
より微細で信頼性の高い微細パターンを容易に形成可能な選択的無電解めっき方法を提供する。 - 特許庁 - MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN TRANSFER METHOD
極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク及びその製造方法並びにパターン転写方法 - 特許庁 - The transparent thermoplastic resin sheet may be subjected further to a decoration processing with an indentation pattern 5, a topcoat layer or the like.
透明熱可塑性樹脂シートが更に、凹凸模様５やトップコート層７等による装飾処理が施されていても良い。 - 特許庁 - For instance, a wiring pattern groove 13 is formed on the surface of a silicone oxide film 12 provided on a semiconductor board 11.
たとえば、半導体基板１１上に設けられた酸化シリコン膜１２の表面に、配線パターン溝１３を形成する。 - 特許庁 - A photoresist layer 7 for exposing at least a part of the layer 3 forming the pattern 6b is formed.
配線パターン６ｂを形成する導電体層３の少なくとも一部を露出するフォトレジスト層７を形成する。 - 特許庁 - A gold pattern is formed on the surface of a necktie cloth with a gold foil having high purity.
ネクタイ布地の表面に絵模様を施してなり、該絵模様は少なくとも、純度の高い金箔である純金を用いてなる。 - 特許庁 - A circuit pattern is formed in copper plating layers 41, 42 and the copper foils 11, 21 of a lamination wiring board in the state.
この状態での積層配線板の銅めっき層４１，４２および銅箔１１，２１に，回路パターンを形成する。 - 特許庁 - The sliding cover 1b functions as the mechanical key which uses an arrangement pattern of eight bottomed holes 1h etc. as a code for collation.
スライドカバー１ｂは、８個の有底穴１ｈ，…の配置パターンをもって照合用コードとするメカニカルキーとして機能する。 - 特許庁 - To provide a printed circuit board capable of densifying a wiring pattern and a multilayer printed circuit board using the same.
配線パターンを高密度化できるフレキシブルプリント配線基板と、それを用いる多層プリント配線基板を提供する。 - 特許庁 - A retrieval means 15 retrieves the retrieval pattern (q) from all the leaning patterns in the retrieval range.
検索手段１５は、検索範囲に属しているすべての学習パターンの中から検索パターンｑの検索を行う。 - 特許庁 - The mask pattern is divided into a plurality of exposure masks (S3 to S6) until the phase shifter is arranged without phase contradictions.
また、位相シフタが位相矛盾なく配置されるまでマスクパターンを複数枚の露光マスク（Ｓ３〜Ｓ６）に分割する。 - 特許庁 - The lottery processing for the big win judgment mode is carried out when the pachinko balls validly win the special pattern starter slot.
パチンコ球が特別図柄始動口に有効に入賞したときには大当り判定モードの抽選処理が行われる。 - 特許庁 - The dried coating is selectively removed with the laser energy in a detailed pattern which can rapidly be varied in a broad range.
迅速且つ広範囲に変化し得る詳細パターンにおいて、乾燥コーティングをレーザエネルギーにより選択的に除去する。 - 特許庁 - A resist film is formed on the wafer W and is exposed for development, thus forming the resist pattern on the wafer W.
ウェハＷ上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜を露光し現像してウェハＷ上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - Further, for the print data to the color printer, the halftone pattern is applied only to a K plate and the gray area is reproduced.
更に、カラー印刷機への印刷データにはＫ版のみに対してハーフトーンパターンを適用し、グレー領域を再現する。 - 特許庁 - Then, a resist pattern 8, having a through-hole 8a on a via hole 4, is formed on the low dielectric insulation film 2.
次いで、低誘電率絶縁膜２上に、ビアホール４上に貫通孔８ａを有するレジストパターン８を形成する。 - 特許庁 - A parameter estimating part 3 estimates a model parameter for detecting the speed of the pattern from the stored time-series frame image.
パラメータ推定部３は蓄積した時系列フレーム画像からパターンの速度を検出するためのモデルパラメータを推定する。 - 特許庁 - This heating wire pattern is obtained by connecting a power supply 17 to the conductive paste 2, carrying currents, and curing the paste by Joule heat.
この熱電線パターンは、該導電性ペースト２に電源１７を接続して通電しジュール熱により硬化させて得る。 - 特許庁 - To provide an electronic sphygmomanometer facilitating the design of display control following an LCD layout pattern of a display section.
表示部のＬＣＤレイアウトパターンに従う表示制御の設計を容易に実行可能な電子血圧計を提供する。 - 特許庁
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