「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 878 879 880 881 882 883 884 885 886 .... 999 1000 次へ＞- To provide a vehicular signal lighting fixture capable of visualizing (striking as a design) by emphasizing a lens cut (a pattern shown by the lens cut) for a character without becoming dim on attractiveness of the lens cut (a pattern shown by the lens cut) for a character formed on a cove lens.
カバーレンズに形成されたキャラクタ用レンズカット（が表す模様等）の見栄えがぼやけることなく、該キャラクタ用レンズカット（が表す模様等）を強調して視認させること（デザイン的に目立たせること）が可能な車両用信号灯具を提供する。 - 特許庁 - The imaging unit is provided with an identification part 1-10 for identifying the pattern of the imaged image, and auto-focus control parts 1-4 to 1-9 for changing a processing method for auto-focus on the basis of the pattern information of the image identified by the identification part.
撮像した画像のパターンを識別する識別部１−１０と、識別部により識別された画像のパターン情報に基づいてオートフォーカスを行なうための処理方法を変更するオートフォーカス制御部１−４〜１−９と、を備える。 - 特許庁 - Also, a horizontally rotating pattern is stopped at the pattern announcing changeover to a third display surface 9c in advance (Figure (D)), and the processing of switching the display surface facing the player from the second display surface 9b to the third display surface 9c is performed (Figure 44(E)).
また、横回転図柄を第３表示面９ｃへの切換を予告する図柄で停止させ（図４４（Ｄ））、遊技者に正対する表示面を第２表示面９ｂから第３表示面９ｃに切り換える処理を実行する（図４４（Ｅ））。 - 特許庁 - The work managing device 6 sends the remaining article picking data and the shortest relief operating pattern upto the FULL point to another article picking vehicle held ready at the start point and sends the shortest withdrawal operating pattern upto a goal point on the guide passage to a fully filled vehicle.
作業管理装置６はスタート地点で待機中の別の集品車に残りの集品データと満杯地点までの最短救援運行パターンとを送信し、満杯車に誘導路のゴール地点までの最短撤収運行パターンを送信する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a pattern particularly having a small critical dimension with high accuracy, since roughness on edges of a photoresist or enlargement of a resist aperture during etching results in unevenness of a pattern in a method for manufacturing a photomask using a hard mask.
ハードマスクを使用するフォトマスクの製作方法において、フォトレジストの縁の荒さやエッチング中のレジスト開口の拡大が、パターンの不均一性をもたらすため、特に臨界寸歩の小さいパターンを高精度に製造する製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a solder resist pattern forming method which allows formation of a high-resolution resist pattern with good reproducibility regardless of the thickness of a solder resist layer and the influence of a blue pigment, and a photosensitive composition suitable for use in the forming method.
ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適に用いられる感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an idle pattern output control circuit used in a point-to- multipoint communication based Gigabit Ethernet(R)-passive optical network (GE-PON) in which a data loss caused by an idle pattern is prevented while using an ordinary Gigabit-Ethernet(R) controller.
ポイント・ツー・マルチポイント通信を基本構造にするＧＥ−ＰＯＮにおいて、常用のギガビットイーサネット(登録商標)コントローラを使用しながらアイドルパターンによるデータ損失を防止することのできるアイドルパターン出力制御回路を提供する。 - 特許庁 - In order to make the pattern occupancy in the entire semiconductor chip 10 constant among the same products and among the same interconnection layers of the same product, a second dummy pattern is formed in a second region 12 in the semiconductor chip 10 which does not contribute to logical operation.
半導体チップ１０全体でのパターン占有率が製品毎及び同一製品内の配線層毎で一定値になるように、半導体チップ１０内の論理演算に寄与しない第２領域１２に第２ダミーパターンを形成する。 - 特許庁 - Or else, both end parts of the narrow wiring pattern 43 are used in common with an electric component leg connecting portion of the electric circuit board 2, thereby only the narrow wiring pattern 43 is fused, thus preventing burnout of the other electric components and damage of the other portions.
あるいは、前記細い配線パターン４３の両端の部分を電気回路基板２の電気部品の脚接続部分と共用することにより細い配線パターン４３のみを溶断し、他の電気部品の焼損や他部の損傷を防止する。 - 特許庁 - An operation state specifying part 18 specifies the operation state of the game machine corresponding to the time-series change pattern of the signal based on the time-series change pattern of the obtained signal related to the operation state and the data stored in the correspondence storage part 20.
動作状態特定部１８は、取得した動作状態に関する信号の経時的変化パターンと対応関係記憶部２０に記憶されたデータからその信号の経時的変化パターンに対応する遊技機の動作状態を特定する。 - 特許庁 - The variable display patterns of special patterns can thereby be increased in comparison with a conventional game machine having only a variable display pattern in which a special pattern row is only vertically scrolled in a vertically trisected region on the screen.
したがって、従来のように画面上を縦方向に３分割した領域を特別図柄列が上下方向にスクロールするだけの変動表示パターンしか持たない遊技機よりも、特別図柄の変動表示パターンを増やすことができる。 - 特許庁 - To obtain an electromagnetic wave shielding member in which a mesh pattern thin film having high conductivity and sufficiently high film strength is formed on a transparent substrate while using a mesh pattern formed by printing a conductive paste as a base, and to provide a manufacturing method thereof.
導電性ペーストの印刷によって作ったメッシュパターンをベースにして、高導電率で、膜強度が十分に強いメッシュパターン薄膜を透明基材上に形成した電磁波シールド部材を得ること、およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - In this case, the depth Lr and the position of each of the recesses 4 and 4 are decided so that the near field pattern of the laser beam has the same distribution as the light intensity distribution and the phase distribution obtained by inverse Fourier transformation of the far field pattern of the predetermined single lobe.
この凹面４，４の深さＬｒおよび位置は、レーザ光の近視野像が、予め定めた単一ローブの遠視野像を逆フーリエ変換して求めた光強度分布および位相分布と同じ分布をなすように決められている。 - 特許庁 - When an edge part in a pixel block is not detected by the edge detection unit 14d, the pixel output order pattern selection unit 14g selects any one of a plurality of second block dithers stored in a pixel output order pattern storage unit 14f.
そして、画素出力パターン選択部１４ｇは、エッジ検出部１４ｄによって画素ブロックにおけるエッジ部を検出しないときに、画素出力順パターン記憶部１４ｆに記憶された複数の第２のブロックディザから何れかを選択する。 - 特許庁 - A recording sheet P is carried in the subscanning direction Y (step S4), and a rectangular pattern TP2 is recorded at the same position as the rectangular pattern TP1 in the main scanning direction X by ejecting ink only when the recording head moves rightward (step S5).
記録紙Ｐを副走査方向Ｙへ搬送し（ステップＳ４）、記録ヘッドが右方向へ移動するときのみインクを吐出して、主走査方向Ｘにおいて矩形パターンＴＰ１と同一の位置に矩形パターンＴＰ２を記録する（ステップＳ５）。 - 特許庁 - In the test of the semiconductor device, since the clock of the scan chain need not be longer than the cycle of the clock of the pattern generator, increase in the number of the clocks of the pattern generator necessary for the test is avoided, and thereby the test time is avoided from increasing.
半導体装置のテストにおいて、スキャンチェインのクロックをパタン発生器のクロックの周期よりも長くする必要がないので、テストに必要なパタン発生器のクロック数の増加が回避され、それによりテスト時間が増加するのが回避される。 - 特許庁 - The circuit device is equipped with a circuit substrate 11 composed of a metal, whose front surface is coated with an insulating layer 12; a conductive pattern 13 formed on the front surface of the insulating layer 12; and a circuit element electrically connected to the conductive pattern 13.
本発明の回路装置は、金属から成り表面が絶縁層１２により被覆された回路基板１１と、絶縁層１２の表面に形成された導電パターン１３と、導電パターン１３に電気的に接続された回路素子とを具備する。 - 特許庁 - The pattern image of each color is formed on the endless belt in an interval determined according to a total change amount obtained by summing up each amount of change from an ideal position with respect to a transfer position and a detection position of each color pattern image on the endless belt.
各色のパターン画像は、各色のパターン画像の無端状ベルト上の転写位置及び検出位置についての理想位置からの各変化量を合計した合計変化量に基づいて定められた間隔で、無端状ベルト上に形成される。 - 特許庁 - The shape of a pattern to be exposed is rendered to be a bit map, the pattern data in the bit map format is rearranged and stored for every scanning line 401, 402, 403, and 404, and exposure beam scanning on the sample 108 is subjected to on/off control based on the stored data.
露光すべきパターンの形状をビットマップ化し、該ビットマップ形式のパターンデータを走査線４０１、４０２、４０３、４０４毎に並べ替えて記憶し、記憶したデータに基づいて試料１０８上を走査する露光ビームをオンオフ制御する。 - 特許庁 - To provide a rolling device capable of exchanging the rolls simply and in a short time in the rolling device for forming an uneven pattern on a cloth by passing the cloth between a lower roll formed with the uneven pattern at its outer surface and a flat roll.
凹凸模様を外表面に形成している下ロールとフラットロール間に布帛を通すことで該布帛に凹凸形状を成形する為のローリング装置において、簡単に、しかも短時間に下ロールの交換が出来るローリング装置の提供。 - 特許庁 - A condensing element pattern 13 comprising a plurality of convex lens-like condensing elements 12 is formed on the surface of a transparent material 11, and an image pattern 15 comprising a plurality of colored pixels 14 is formed on the backside of the transparent material 11.
透明素材１１の表面に、複数の凸レンズ状の集光素１２からなる集光素パターン１３が形成されるとともに、透明素材１１の裏面に、着色された複数の画素１４からなる画像パターン１５が形成される。 - 特許庁 - In this defect detection device 1, two-dimensional image data of a swath which is a belt-like domain corresponding to one divided pattern among a plurality of divided patterns acquired by dividing a unit pattern on one die on a substrate 9 are acquired.
欠陥検出装置１では、基板９の１つのダイ上において、単位パターンを分割して得られる複数の分割パターンのうち、１つの分割パターンに対応する帯状の領域であるスワスの２次元の画像データが取得される。 - 特許庁 - In a method of manufacturing the semiconductor device, a step of finely working a resist pattern, formed in a lithography step by isotropic etching using ozone and another step of etching a work by using the finely worked resist pattern as a mask are performed by means of the same etching system EM1.
オゾンを用いた等方性エッチングによってリソグラフィ工程で形成されたレジストパターンを細く加工する工程と、細く加工されたレジストパターンをマスクとして被加工材をエッチングする工程とを同一のエッチング装置ＥＭ１で行う。 - 特許庁 - A group of mutually different reference patterns 16 and a basic pattern 18 are imaged by the second imaging device functioning as a master and each reference pattern 16 of the group is assigned uniquely to one relative position at the time.
互いに異なる参照パターン１６のグループと基本パターン１８を、マスタとしての役目をする第２の画像付け装置によって画像付けし、このときグループのそれぞれの参照パターン１６が１つの相対位置に一義的に割り当てられている。 - 特許庁 - The system detects a state of the windshield, applying pattern recognition to the captured image, and according to the state, determines operation and stop of a wiper arm 127, or a wiper operation pattern as an operation speed during the operation.
得られた画像データへパターン認識を適用してフロントガラスの状況の検知が行われると共に、状況に応じてワイパーアーム１２７の作動及び停止或いは作動時における作動速度としてワイパー作動パターンの決定が行われる。 - 特許庁 - Unevenness of polishing speed is reduced by providing openings positively in the surface of a film having a high pattern density being polished for planarization thus forming a planarized film having high in-plane uniformity regardless of the pattern density and the dimensions.
平坦化するために研磨されるパターン密度の高い膜の表面に開口部を積極的に設けることにより、研磨速度の不均一性を低減し、パターン密度、寸法に依存しない面内均一性の高い平坦化膜を形成する。 - 特許庁 - The head-mounted display having an image output part for outputting an image has a storage part in which a pattern for measuring visual acuity is stored and a means for displaying the pattern for measuring the visual acuity on the image output part.
画像を出力する画像出力部を有するヘッドマウントディスプレイであって、視力測定用パタンが格納された記憶部と、前記視力測定用パタンを画像出力部に表示する手段とを有することを特徴とするヘッドマウントディスプレイ。 - 特許庁 - A server 200 receives a request of parameter copying from an image forming apparatus 100-1, selects a pattern file for parameter copying from the image forming apparatus 100-1 to an image forming apparatus 100-2, and sends the selected pattern file to the image forming apparatus 100-1.
画像形成装置１００−１からパラメータコピーの要求を受信したサーバ２００は、画像形成装置１００−１から画像形成装置１００−２へのパラメータコピー用のパターンファイルを選択して画像形成装置１００−１に送る。 - 特許庁 - A tube current calculating unit 37 calculates a tube current value at each position on the basis of a tube current pattern in a tube current pattern storage unit 41, the image SD value for each region-specific area, and a CT value at each position on the scanogram in each region-specific area.
管電流計算部３７は、管電流パターン保管部４１内の管電流パターンと、各部位別領域の画像ＳＤの値、各部位別領域内のスキャノグラムの各位置でのＣＴ値に基づいて、各位置における管電流値を計算する。 - 特許庁 - A pattern is formed by constructing an organic thin film by a repetitive injection method for a short high-speed jet while regularly performing repetitive opening and closing of the valve during a period for forming a pattern by using an opening and closing valve and a control unit for controlling the opening and closing valve.
開閉バルブ及びそれを制御する制御ユニットを使用して、パターンを形成する期間で、バルブを規則的に反復開閉させながら、短い高速ジェットの反復噴射方式で有機薄膜を構成してパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a dispenser for a liquid crystal display panel which can rapidly form a seal pattern on a substrate where a plurality of image display parts are formed and form a seal pattern on a small-size liquid crystal display panel, and to provide a dispensing method by using the dispenser.
複数の画像表示部が形成された基板上に迅速にシールパターンを形成し、小さなサイズの液晶表示パネルにシールパターンを形成し得る液晶表示パネルのディスペンサ及びこれを利用したディスペンシング方法を提供する。 - 特許庁 - Information on the selected transmission pattern is broadcasted before the selected transmission pattern is used.
さらに、ＳＦＮデータがサブ・フレームで送信されるかに基づいて、基準信号のために、第１の送信パターンを使用するか、第２の送信パターンを使用するかを選択し、選択された送信パターンを使用する前に、選択された送信パターンに関する情報をブロードキャストする。 - 特許庁 - To provide a method for fabricating a thin film pattern and a method for fabricating a flat panel display device using the same that are adaptive for forming an organic material pattern having step coverage by not using a photolithography process to control a capacitance value of a capacitor.
本発明は、フォト工程を使用しないで、段差を有する有機物パターンを形成することによって、キャパシタの容量が調節できる薄膜パターンの製造方法及びこれを用いる平板表示素子の製造方法に関する。 - 特許庁 - Moreover, the image pattern is detected from a received facsimile document to which the image pattern is added, the ID is extracted, the management table is read from the extracted ID, and the received facsimile document is stored at a place designated by contents of the attribute information.
また、イメージパターンが付加された受信ファクシミリ文書からイメージパターンを検出してＩＤを抽出し、抽出したＩＤから管理テーブルを読み込んで属性情報の内容により指定された場所に受信ファクシミリ文書を格納する。 - 特許庁 - A plurality of base pattern image patches are generated by making density parameters of at least either of a latent image part and a background part different from each other, and a test printing image with the plurality of generated base pattern image patches arranged therein is transmitted to a printer.
潜像部と背景部のうちの少なくとも一方の濃度パラメータを夫々異ならせて複数の地紋画像パッチを生成し、当該生成された複数の地紋画像パッチを配置した試し刷り画像を印刷装置に送信する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a stamper, in which the stamper is formed by controlling the width of a projecting part pattern as desired while estimating an amount of side etching during pattern transfer by an imprinting method and satisfactory mold release characteristic is obtained when applying a mold release agent.
インプリント法によるパターン転写時のサイドエッチング量を見込んで凸部パターンの幅を所望の通りに制御して形成できるとともに、離型剤を塗布したときに良好な離型性が得られるスタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁 - Further, according to image information acquired with the space filter applied to each portion of the pattern image, a threshold value TH is set for each portion, the threshold value TH being applied to each portion of the pattern image in order to acquire three-dimensional information on the object.
さらに、パターン画像の各部分に対して空間フィルタを施して取得される画像情報に基づき、対象物の３次元情報を取得するためにパターン画像の各部分に適用される閾値ＴＨを各部分ごとに設定する。 - 特許庁 - When a special pattern 1 classified into a special symbol B for imparting a 7R probability variable big winning game is determined, a main CPU determines a variation pattern from between variation patterns P4 and P5 to be the big winning in normal ready-to-win performances NR1 and NR2.
メインＣＰＵは、７Ｒ確変大当り遊技が付与される特図Ｂに分類される特別図柄１が決定された場合には、通常のリーチ演出ＮＲ１，ＮＲ２にて大当りとなる変動パターンＰ４，Ｐ５の中から変動パターンを決定する。 - 特許庁 - A selector selects an image signal not passing through the filter for a latent mark of the copy-forgery-inhibited pattern whose image area flag is set as "Character", and selects an image signal subjected to the processing by the filter for a copy-forgery-inhibited pattern background part whose image area flag is set as "Photograph".
セレクタは、像域フラグが「文字」に設定さている地紋の潜像については、フィルタを通らない画像信号を選択し、「写真」に設定されている地紋背景部についてはフィルタの処理がなされた画像信号を選択する。 - 特許庁 - The variation pattern determination means 115 selects the variation pattern table referred to after an end of the special game according to a combination between the kind of the past winning symbol until just before the special game ends included in the winning symbol history and the determined kind of the symbol.
変動パターン決定手段１１５は、特別遊技の終了後に参照する変動パターンテーブルを、当り図柄履歴に含まれる直前までの過去の当り図柄の種類と決定された図柄の種類との組み合わせに応じて選択する。 - 特許庁 - An operation drive control part 312 corrects the operation pattern of a treatment element 22 in each treatment technique so that the operation pattern of each treatment technique included in an automatic full body course is settled inside the moving range E1 set by the moving range setting part 314.
動作駆動制御部３１２は、全身自動コースに含まれる各手技の動作パターンが、移動範囲設定部３１４により設定された移動範囲Ｅ１内に収まるように各手技における施療子２２の動作パターンを修正する。 - 特許庁 - Then, when a variation pattern for a losing ready-to-win performance or for a big winning performance is specified, in the case that the reporting image of a final stage is displayed, the general CPU makes the big winning notice be performed in the pattern variation game.
そして、統括ＣＰＵは、はずれリーチ演出用又は大当り演出用の変動パターンが指定されたときに、最終段階の報知画像が表示されている場合には、図柄変動ゲームで大当り予告を実行させるようにした。 - 特許庁 - Next, a second wiring layer 6b is formed on the non-light-receiving section of the second flattening layer 5b provided on the first wiring layer and the first dummy pattern, and a second dummy pattern 10b is formed on the light-receiving section of the second flattening layer.
次に第１の配線層及び第１のダミーパターン上に設けられた第２の平坦化層５ｂの非受光部上に第２の配線層６ｂを形成すると共に、第２の平坦化層の受光部上に第２のダミーパターン１０ｂを形成する。 - 特許庁 - The influence of an undercut becomes greater, in a region which includes the tip of the designed wiring pattern 21, so that a pair of angular expanded parts 32, protruding forward and outward from the designed wiring pattern 21, are provided to the corners of the wiring part 31.
設計上の配線パターン２１の先端部の領域では、アンダーカットの影響がより強く現れるため、配線部３１の角部に設計上の配線パターン２１から前方外側に突出する一対の角状の拡張部３２を形成する。 - 特許庁 - By sinking the hard material part 21 in water with a transfer film being afloat thereon, a pattern layer 35 on the transfer film is transferred to an outer surface of the hard material part 21, and edges 35A of the pattern layer 35 are connected to each other at the terminating time of the transfer.
転写フィルムを浮かべた水の中に硬質部２１を沈めることにより、同転写フィルム上の模様層３５を硬質部２１の外表面に転写させ、同転写の終期に模様層３５の端縁３５Ａを繋ぎ合わせる。 - 特許庁 - When an object to be inspected having the repeated pattern is inspected, imaging is performed with resolving power, wherein the repeated cycle of the object to be inspected and the resolving power of a taken image become an integral ratio, in order to remove a normal repeated pattern from the taken image.
繰り返しパターンを持つ被検査物を検査する際、撮像した画像から正常な繰り返しパターンを除去するために、被検査物の繰り返し周期と撮像画像の分解能が整数比となるような分解能で撮像を行う。 - 特許庁 - As a result, even if there is some variation in arrangement of the plurality of light-emitting chips 200, proper light distribution control of a light distribution pattern P can be carried out, and a cutoff line CL with the clear light distribution pattern P can be obtained.
この結果、この発明は、複数個の発光チップ２００の配列において多少のばらつきがあっても、配光パターンＰの適正な配光制御を行うことができ、かつ、配光パターンＰの明瞭なカットオフラインＣＬを得ることができる。 - 特許庁 - When the process cartridge is replaced, the photoreceptor drum 1 is rotated at a fixed speed and the information mark pattern 102 formed on the circumferential surface of the photoreceptor drum is detected by an optical sensor 103, to obtain the information of the information mark pattern 102.
プロセスカートリッジが交換された場合、感光体ドラム１を一定速度で回転させて、感光体ドラム周面に形成された情報マークパターン１０２を光学センサ１０３で検知して、情報マークパターン１０２の情報を取得する。 - 特許庁 - The montage image from the output port ch1 is directly output to the ornament pattern display 16 while being magnified 1.28 times and the image B' is cut out by a scaler 341 and is output to the ornament pattern display 26 after being magnified 1.39 times.
出力ポートｃｈ１からの合成画像は、１．２８倍で拡大されて装飾図柄表示装置１６に直接出力され、スケーラ３４１において画像Ｂ’が切り出されて１．３９倍された後に飾図柄表示装置２６に出力される。 - 特許庁 - A power supply restoration detection circuit includes: a signal delay circuit 11 disposed in a power shutdown block 1; a measurement pattern generation circuit 13 disposed in an always-on block 9 where power source is always supplied; a measurement pattern detection circuit 15; and a delay time measurement circuit 17.
電源遮断ブロック１に配置された信号遅延回路１１と、電源が常時供給される常時オンブロック９に配置された測定パターン生成回路１３、測定パターン検出回路１５及び遅延時間測定回路１７を備えている。 - 特許庁
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