「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 884 885 886 887 888 889 890 891 892 .... 999 1000 次へ＞- The filtering processing is used as one of the plurality of processings according to the processing procedure for extracting a pattern similarly near to the sample pattern 12 from the original image 11 to constitute the processing procedure for generating the highly reliable image.
前記フィルター処理を、原画像１１からサンプル図形１２に近い図形を抽出する処理手順に従う複数の処理の１つとすることによって、より信頼性の高い画像を生成する処理手順を構成することができる。 - 特許庁 - To provide an apparatus of forming a resist pattern by a dispenser system for forming double-sided images while easily managing the width of the resist line, coping with the fining of a pattern, and preventing the occurrence of satellites (mist).
本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするディスペンサー方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁 - If the same program constitution is taken e.g. for such programs as serial dramas to be broadcast each week, edition pattern information concerning a previously registered program are read out and used for making edition pattern information of a later recorded program.
そして、例えば、毎週放送される連続ドラマのように番組構成が同一の場合には、後から録画した番組の編集パターン情報を作成する際に以前に登録した番組に関する編集パターン情報を読み出して用いるようにする。 - 特許庁 - To provide a mold which is used for obtaining a molding having a protective wall provided around a molding surface with a transferred mold pattern and where the mold pattern is formed by using photolithography and an etching technology, and its manufacturing method.
本発明は、金型パターンが転写された成型面の周囲に保護壁を有した成型物を得るための金型であって、金型パターンがフォトリソグラフィ及びエッチング技術を用いて形成された金型、及びその製造方法を提供するものである。 - 特許庁 - Also, the area-selecting portion 103 selects a plurality of areas, at the same time as upon selecting an area, and assigns proprieties to the selected areas for preferentially performing the pattern detection processing at the pattern detection processing portion 104.
また、領域選択部１０３は、領域を選択する際に、同時に複数の領域を選択し、選択した該複数の領域に対して、パターン検出処理部１０４において優先的にパターン検出処理を行うための優先順位を付ける。 - 特許庁 - The information light is reproduced from the recording medium in which the interference fringes are previously recorded, the parallel and flat plates 48 and 49 are rotated so that density of the pattern image of the reproduced information light is made high and the position in which the best reproduced pattern image is obtained is determined.
予め干渉縞が記録された記録媒体から情報光を再生し、再生された情報光のパターン像の濃度が高くなるように平行平面板４８，４９を回動し、最良の再生パターン像が得られる位置を決定する。 - 特許庁 - By carrying out the second variation of at least the vertical scroll with only the same pattern as one pattern stationarily displayed, it is possible to make double ready-to-wins on two jackpot lines and improve the interesting property of a game.
少なくとも１つの縦スクロールの第２変動を、停止表示されている１の図柄と同一の図柄のみで行うことにより、２本の大当たりライン上でリーチとなるダブルリーチを現出させて、遊技の興趣を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing replica molds, by which a fine pattern of a master mold can be transferred to a mother mold with a good precision, a fine pattern of the mother mold can be transferred to a replica mold with a good precision, and a plurality of replica molds can be manufactured from one mother mold.
マスターモールドの微細パターンをマザーモールドに精度よく転写でき、マザーモールドの微細パターンをレプリカモールドに精度よく転写でき、１つのマザーモールドから複数のレプリカモールドを作製できるレプリカモールドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - This method writes and reads a periodic pattern containing di-bits and isolated bits and a periodic pattern containing only isolated bits while synchronizing with the revolution of a magnetic disk, then frequency analyzes each reproduced wave shape by making their phases match each other to obtain odd harmonics components.
ダイビットおよび孤立ビットを含む周期パターンと孤立ビットのみの周期パターンとを磁気ディスクの回転に同期して読み書きし、位相が一致した状態でそれぞれの再生波形を周波数解析し奇数次高調波成分を求める。 - 特許庁 - A controller 24 performs a ready-for- winning play condition by using the display 13 at the previous step when at least the pattern is finally stopped and displayed as a specified pattern, and it predicts the performance of the ready-for-winning play condition when the patterns are varied.
制御装置２４は、少なくとも図柄が特定の図柄にて最終的に停止表示される前段階において、表示装置１３にてリーチ遊技状態を演出し、また、図柄の変動に際し、リーチ遊技状態の演出を予告する。 - 特許庁 - An electrode pattern 5 having a specified shape is formed beforehand on the curved surface of a pad 1 with a curved surface by using a flat screen plate, and the electrode pattern 5 is transferred onto the surface of a nearly rectangular electronic part 7.
曲面を有するパッド１の前記曲面に、平板のスクリーン版を用いてあらかじめ所定の形状の電極パターン５を形成し、この電極パターン５を略直方体形状の電子部品７の表面に転写する構成とした。 - 特許庁 - To provide a silicon wafer having the effective density and size of a BMD for preventing the dislocation of a pattern by restraining slip dislocation caused in a particularly controversial device heat treatment process accompanied by the fining of a device wiring pattern, and to provide a method for manufacturing the silicon wafer.
デバイス配線パターンの微細化に伴い特に問題視されるデバイス熱処理工程で発生するスリップ転位を抑制し、パターンずれを防止するために効果的なＢＭＤの密度とサイズを有するシリコンウェーハとその製造方法を提供する。 - 特許庁 - At least either frequency information for driving the primary coil L1 or drive pattern information of the primary coil L1 can be set in the test register 216, thereby the frequency or driving pattern in continuous power transmission can be selected as required.
また、テストレジスタ２１６には、１次コイルＬ１の駆動のための周波数情報および１次コイルの駆動パターン情報の少なくとも一方を設定することができ、これによって、連続送電時の周波数や駆動パターンを適宜、選択することができる。 - 特許庁 - To provide a projecting apparatus in which an image pattern with reduced distortion is focused on the surface of an object to be irradiated and the image of the image pattern is scanned on the surface of the object to be irradiated by using an fθ lens.
ｆθレンズを用い、光照射対象物の表面上に画像パタンを歪みを低減させて結像させることができ、光照射対象物の表面上で画像パタンの像を走査することができる投影装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a patterning substrate for cell culture where cells are allowed to adhere to the substrate in a high definition pattern and provide a cell culture substrate by allowing cells to adhere to the substrate in a high definition pattern.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - To provide a walking robot capable of creating a walking pattern adapted for a natural frequency of the walking robot and performing a walk with higher energy efficiency so that a rigidity for the drive section of a leg is adjusted for the created walking pattern, and to provide its control method.
歩行ロボットの固有周波数に合う歩行パターンを生成し、その生成された歩行パターンによって脚部の駆動部の剛性を調節することで、エネルギー効率の高い歩行を行える歩行ロボット及びその制御方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a woven or knitted fabric having specific shape, having plane pattern and/or three-dimensional pattern and high shape-retaining property, excellent in durability and useful in textile field such as lining fabric, interlining, outerwear or inner and interior material field such as wall paper, lace or blind.
平面模様および／又は立体模様を有し、その形状保持性が高く、耐久性に優れ、裏地、芯地、外衣、インナー等の衣料用分野、壁紙、カーテン、レース、ブラインドなどのインテリア資材分野等に有用な特殊形状織編物の提供。 - 特許庁 - Then, when special patterns based on the plurality of jackpot judgement results are variably displayed in order by a predetermined pattern in response to the pattern variable time, the variation of normal patterns based on a next normal winning judgement result is started during an ordinary state.
そして、複数の大当たり判定結果に基づく特別図柄が、その図柄変動時間に応じた所定パターンで順次変動表示されると、次の普通当たり判定結果に基づく普通図柄が通常状態中に変動開始される。 - 特許庁 - To enhance defect detection sensitivity at a pattern edge portion by improving the method of determining a correction amount, as to correction of gray level difference at the pattern edge portion performed in an image defect inspection method used for a visual inspection device for a semiconductor circuit.
半導体回路の外観検査装置に使用される画像欠陥検査方法で行う、パターンエッジ部分におけるグレイレベル差の補正において、補正量の決定方法を改善して、パターンエッジ部分における欠陥検出感度を向上する。 - 特許庁 - Concerning the reservation managing system for managing the reservation of consultation, this system prepares reservation information specified by one or plural elements and a reservation limit pattern map while relating them each other and selectively uses the reservation limit pattern map corresponding to the inputted reservation information.
診療の予約を管理する予約管理システムにおいて、１または複数の要素で特定される予約情報と、予約制限パターンマップとを紐付けして用意しておき、入力された予約情報に応じて予約制限パターンマップを使い分ける。 - 特許庁 - In the case of replacing a normal photomask with a resist mask, in setting of a plane dimension of a light shielding pattern 2 composed of a resist film, correction of subtracting a correction amount L from the plane dimension of the light shielding pattern 2 composed of a metal corresponding to it is performed.
通常のフォトマスクからレジストマスクに置き換える場合には、レジスト膜からなる遮光パターン２の平面寸法の設定において、これに対応するメタルからなる遮光パターン２の平面寸法から補正量Ｌを差し引く補正を行う。 - 特許庁 - In addition, when control is performed to an advantageous game state, the execution of the specific performance to determine whether or not the variable display pattern of the identification information of a first variable display means serves as the specific variable display pattern is restricted.
また、有利遊技状態に制御されているときには、第１の可変表示手段における識別情報の可変表示パターンが特定の可変表示パターンとなるか否かを判定対象とした特定演出の実行を制限する。 - 特許庁 - To provide a method for removing a photoresist by which the remaining photoresist in the photolithographic process of forming a pattern on the metal face of an electronic material such as a lead frame, printed wiring board or the like can be removed in a short time without deforming the metal pattern.
リードフレーム、プリント配線板等の電子材料の金属面にパターンを形成する際のフォトリソ工程で、残存するフォトレジストを短時間で剥離出来、金属パターンを変形させることがないフォトレジストの剥離方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive resin composition of which a first resist pattern is insolubilized to form an insolubilized resist pattern having sufficient stability to subsequent exposure, a developer and a second positive radiation-sensitive resin composition.
第一のレジストパターンを不溶化させ、その後の露光処理、並びに現像液及び第二のポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To enable to suppress a lowered pattern connection accuracy among fields caused by lowered pattern position accuracy caused by charged up of resist, in the charged particle drawing technology.
荷電粒子ビーム描画技術において、レジストのチャージアップによるパターン位置精度の低下に起因する隣接するフィールド間のパターン接続精度の低下を抑制可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a plating solution and a plating method of electroless gold plating for plating a conductor pattern to be formed on a conductor pattern made of copper or aluminum formed on a printed circuit board or a wafer, in which a gold film is directly deposited by autocatalytic reduction reaction without performing immersion gold plating treatment on an electroless palladium plating film formed on the conductor pattern.
プリント基板又はウエハー上に形成された銅又はアルミニウムからなる導体パターン上に形成される導体パターンめっきであって、導体パターン上に形成される無電解パラジウムめっき皮膜上に置換金めっき処理を施さなくても、自己触媒還元反応で直接金皮膜を析出させる無電解金めっきのめっき液及びめっき方法を提供する。 - 特許庁 - To form a desired resist pattern by photolithography on a member to be processed, to remove the resist pattern no longer required from the member to be processed with high efficiency and uniformity, and to reduce environmental load when the resist pattern is removed.
被処理部材上にフォトリソグラフィ処理により所望のレジストパターンを形成することができるとともに、不要となったレジストパターンを被処理部材から高効率、かつ、均一に除去することができ、更に、レジストパターンを除去する際に環境にかかる負荷を小さなものとすることができるレジスト材料、該レジスト材料を用いたエッチングパターンの形成方法、及び、導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - In a next crystallization step, the intensity of the laser light 50 is optically modulated, so that a cyclic light and dark pattern can be projected onto the region R, the first division region D in the upper left of the substrate 0 is irradiated with the modulated pattern, the identical region D is again irradiated with the pattern so as not to overlap therewith at least once by shifting the region R.
次の結晶化工程では、照射領域Ｒに周期的な明暗のパタンを投影可能な様にレーザ光５０の強度を光学変調して、基板０の左上にある最初の分割領域Ｄを照射し、更に少なくとも一回該明暗のパタンが重複しない様に照射領域Ｒをずらして同一の分割領域Ｄを再度照射する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the cylindrical body includes the processes of: forming an inner rubber layer by dipping a pattern member into liquid rubber and drying rubber sticking on the surface of the pattern member; forming a fiber layer by sticking a plurality of axially extending fibers on an outer peripheral surface of the inner rubber layer; forming an outer rubber layer by dipping the pattern member having the fiber layer formed into liquid rubber again.
型部材を液状のゴムに浸漬し、型部材の表面に付着したゴムを乾燥させて内側ゴム層を形成する工程と、内側ゴム層の外周面に軸方向に延長する複数の繊維を貼付けて繊維層を形成する工程と、繊維層が形成された型部材を再度液状のゴムに浸漬し、外側ゴム層を形成する工程とを含む態様とした。 - 特許庁 - There is provided an optical disk 10A including: a first substrate 16; and the second substrate which is stuck to the first substrate 16, and has a dummy pattern surface having a rugged shaped dummy pattern 11a on one surface thereof and a signal surface having a rugged shaped signal pattern 11b based on a prescribed optical disk specification on the other surface thereof opposite to the one surface.
第１の基板１６と、第１の基板１６に貼り合わされ、一方の面が凹凸状のダミーパターン１１ａを有するダミーパターン面であり、一方の面とは反対側の他方の面が所定の光ディスク規格に準拠した凹凸状の信号パターン１１ｂを有する信号面である第２の基板と、を備えていることを特徴とする光ディスク１０Ａを提供する。 - 特許庁 - To provide a line drawing and/or dot pattern printed product with a fine slit pattern structure for developing a specific warning message to an illegal copy utilizing an image input/output unit for a digital copier or the peripheral equipment of a personal computer and a discriminating screen capable of visualizing the message and easily discriminating a truth or a falsehood merely by superposing on the line drawing pattern printed product.
デジタルカラーコピー機やパソコンの周辺機器等の画像入出力装置を利用した違法なコピーに対し、特定の警告メッセージが発現する微小スリットパターン構造入り線画及び／又はドットパターン印刷物、また、上記線画パターン印刷物に対して重ね合わせるだけで警告メッセージを顕像化し、容易に真偽判別が可能な判別スクリーンを提供する。 - 特許庁 - When the value of the random number counter 13b acquired on the basis of the starting prize winning is that for generating the big win, the above big win put on hold is generated after the completion of the big win by a release pattern in the case when the value of the big win pattern counter 13d acquired likewise on the basis of the starting prize winning is that for selecting the release pattern.
また、保留された大当たりは、始動入賞に基づいて取得された乱数カウンタ１３ｂの値が大当たりを発生する値であるとき、同じく始動入賞に基づいて取得された大当たり図柄カウンタ１３ｄの値が放出図柄を選択する値であった場合に、その放出図柄での大当たりの終了後に保留されている大当たりを発生させる。 - 特許庁 - A semiconductor substrate 21 is etched while a surface electrode 23 and a resist pattern 24 are used as a mask, and etching for expanding the resist opening 24a of the resist pattern 24 and polymerization for forming a polymer film 26 on the surface of the semiconductor substrate 21, the surface electrode 23, and the resist pattern 24 that is exposed after etching, are repeated to form a hole 25 in the semiconductor substrate 21.
表面電極２３およびレジストパターン２４をマスクとして半導体基板２１をエッチングするとともにレジストパターン２４のレジスト開口部２４ａを広げるエッチングと、エッチング後に露出する半導体基板２１、表面電極２３およびレジストパターン２４などの表面部にポリマ膜２６を形成する重合とを繰返し行ない、半導体基板２１に孔部２５を形成する。 - 特許庁 - A hard mask layer pattern for demarcating a recess region is formed on a semiconductor substrate 310, a recess channel structure 340 is formed by selectively etching the semiconductor substrate with the hard mask layer pattern serving as an etching mask, the hard mask layer pattern is removed to expose the semiconductor substrate 310 including the recess channel structure 340, and a gate electrode 364 is formed so as to fill the recess channel structure.
半導体基板３１０にリセス領域を画成するハードマスク層パターンを形成し、ハードマスク層パターンを食刻マスクに半導体基板を選択食刻してリセスチャンネル構造３４０を形成し、ハードマスク層パターンを除去してリセスチャンネル構造３４０を含む半導体基板３１０を露出し、リセスチャンネル構造を埋め込むゲート電極３６４を形成する。 - 特許庁 - The display body comprises: a printed pattern layer having a prescribed pattern formed on a rear surface of a transmissive substrate by printing; a reflection enhancing film layer wherein thin films having a refractive index higher than that of the substrate and thin films having a refractive index lower than that of the substrate are alternately laminated on the printed pattern layer; and a color layer formed on the reflection enhancing film layer.
透過性を有する基板裏面に所定の図柄を印刷により形成した印刷模様層と、印刷模様層の上に基板の屈折率よりも高い屈折率からなる薄膜と，基板の屈折率よりも低い屈折率からなる薄膜とを交互に積層してなる反射増加膜層と、反射増加膜層の上に着色層と、が形成されることによりなる。 - 特許庁 - A ground pattern 35 is formed across one top surface layer for mounting the infrared sensor 9 in a multi-layer printed circuit board 10; a frame shaped land 36 is formed on the ground pattern 35 enclosing the mounted portion of an amplifier circuit on the other top surface layer; and a pattern from the amplifier circuit to an outer circuit of the frame shaped land 36 is formed in an inner layer.
多層プリント基板１０における赤外線センサ９を実装する一方の表面層の全面にグランドパターン３５を形成すると共に、他方の表面層の増幅回路の実装部位を囲んでグランドパターン３５にスルーホール３７で接続された枠形ランド３６を形成し、内層に増幅回路から枠形ランド３６の外側の回路に対するパターンを形成する。 - 特許庁 - A Pachinko game machine 10 includes a performance determination means 132 that selects one of a plurality of kinds of performance patterns indicating respectively different expectation degrees as the expectation degrees for a jackpot, and that also selects the performance pattern according to reference which is set so as to more frequently select the performance pattern having the relatively higher expectation degree as the number of holding is smaller at the time of pattern determination.
ぱちんこ遊技機１０は、大当りの期待度としてそれぞれ異なる期待度を示す複数種類の演出パターンからいずれかを選択するとともに、そのパターン決定時点での保留数が少ないほど高頻度で相対的に期待度の高い演出パターンが選択されるよう定められた基準にしたがって演出パターンを選択する演出決定手段１３２を備える。 - 特許庁 - To provide a mask, a method of preparing the mask and a method of manufacturing a semiconductor device, capable of reducing the variation of a finish wiring dimension depending on a mask pattern by interposing a dummy pattern for equalizing a resist exposure surface area per area of one chip and improving the accuracy of the finish wiring dimension among semiconductor devices having different pattern coverages and cell occupancies.
マスクパターンに依存した仕上がり配線寸法のバラツキを、１チップ面積当りのレジスト露出表面積が等しくなるようなダミーパターンを介在させることにより低減して、異なるパターン被覆率やセル占有率を有する半導体装置間の仕上がり配線寸法の精度の向上が図れるマスク、マスクの作成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - This inspection method for the semiconductor integrated circuit includes a burn-in pattern generating process for generating a burn-in test pattern for performing a burn-in test for the integrated circuit, and the generating process is characterized by including an equalization process for generating an equalization burn-in test pattern equalizing the number of times of toggling on each element level of the semiconductor integrated circuit.
本発明による半導体集積回路の検査方法は、前記半導体集積回路のバーインテストを行うためのバーンインテストパターンを生成するバーンインパターン生成工程を含み、該バーンインパターン生成工程は、前記半導体集積回路の各素子レベルでのトグル回数を平準化する平準化バーンインテストパターンを生成する平準化工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - Either or both algorithms are used, in a method for determining incident polarization by fitting mathematically a pattern shape or matching with a database or in a method for determining incident polarization from a frequency component acquired by performing Fourier transform of the pattern shape, as an analysis procedure of a two-dimensional intensity distribution pattern observed by a light-receiving element array.
受光素子アレイによって観測される２次元強度分布パターンの解析手法として、パターン形状を数学的にフィッティングするか、またはデータベースとのマッチングを行うことにより入射偏波を求める方法、もしくはパターン形状をフーリエ変換し、その周波数成分から入射偏波を求める方法の、どちら一方または両方のアルゴリズムを用いる。 - 特許庁 - The power module comprises terminals for external connection, a substrate, a circuit pattern having a power semiconductor chip formed on the substrate and provided internally with a recognition mark, and a bonding wire provided based on the recognition mark in the circuit pattern and connecting the terminals for external connection with the power semiconductor chip and/or the circuit pattern.
外部接続端子と、基板と、該基板上に設けられ、電力用半導体チップを有する回路パターンであって、その内部に認識マークが形成された回路パターンと、回路パターン内の認識マークに基づいて設けられた、外部接続端子と電力用半導体チップ、および、外部接続端子と回路パターンの少なくとも一方を接続するボンディングワイヤとを備えたパワーモジュールを提供する。 - 特許庁 - The dry etching process comprises a step of disposing a semiconductor substrate where the photoresist pattern is formed on an etched membranous object in a reactor, a step of selectively depositing polymer on an upper section of the photoresist pattern by supplying the CO gas into the reactor to form a polymer layer, and a step of etching the etched membranous object with the photoresist pattern and polymer layer as the masks.
乾式エッチング方法は、被エッチング膜質上にフォトレジストパターンが形成された半導体基板を反応器内に配置する段階と、反応器内にＣＯガスを供給してフォトレジストパターンの上部にポリマーを選択的に蒸着してポリマー層を形成する段階と、フォトレジストパターン及びポリマー層をマスクとして被エッチング膜質をエッチングする段階と、を含む。 - 特許庁 - The planar electrode for an organic electronic device comprising, on a substrate, a conductive thin metal line pattern containing metal nanoparticles, and a conductive-polymer-containing layer on the thin metal line pattern is characterized in that the conductive-polymer-containing layer contains at least a conductive polymer and a corrosion inhibitor and is laminated on the thin metal line pattern.
基材上に、金属ナノ粒子を含む導電性の金属細線パターンと該金属細線パターン上に導電性ポリマー含有層とを有する有機電子デバイス用面状電極において、該導電性ポリマー含有層は少なくとも導電性ポリマーと腐食防止剤とを含有し、かつ該金属細線パターン上に積層されていることを特徴とする有機電子デバイス用面状電極。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern by which ArF (argon fluoride) excimer laser light can be used as exposure light upon patterning, a resist pattern can be stably made thick to a desired thickness without depending on the size, and a fine resist cut-out pattern can be inexpensively, easily and efficiently formed over the exposure limit (resolution limit) of a light source of an exposure device.
パターニング時に露光光としてＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザー光をも利用可能であり、レジストパターンをそのサイズに依存することなく、所望の厚みに安定的に厚肉化することができ、露光装置の光源における露光限界（解像限界）を超えて微細なレジスト抜けパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジストパターンの形成方法等の提供。 - 特許庁 - Furthermore, since ink dots 8 of the printed layer 2 are irregularly positioned during FM screen printing, even when formed by the light reflective metal layer 1 overlapping the printed layer 2, interference becomes hard to occur between the line pattern-like pattern 3 in the light reflective metal layer 1 and the print pattern of the printed layer 2, thereby interference patterns such as moire patterns become hard to emerge on the ornament member A.
また、ＦＭスクリーン印刷では印刷層２のインクドット８は不規則に配置されるため、光反射性金属層１に印刷層２を重ねて形成しても、光反射性金属層１における万線状の凹凸パターン３と印刷層２における印刷パターンとの間に干渉が生じにくくなり、装飾部材Ａにモアレ模様等の干渉模様が現れにくくなる。 - 特許庁 - The resin molded product is obtained easily and inexpensively by a manufacturing method composed of a process for forming a pattern layer 12 having desired opening parts 12a on a substrate 10, a process for coating the insides of the opening parts 12a with a resin 13, a process for laminating a sheet 14 on the pattern layer 12 and a process for removing the pattern layer 12 along with the sheet 14.
基板１０上に所望の開口部１２ａを有するパターン層１２を形成する工程と、前記開口部１２ａに樹脂１３を塗り込む工程と、前記パターン層１２上にシート１４を貼り付ける工程と、前記パターン層１２を前記シート１４とともに除去する工程とからなる製造方法により容易にしかも安価に樹脂成形品を得ることができる。 - 特許庁 - In this semiconductor test device for executing the test by forwarding plural test patterns to a device to be measured via test pattern memories 702, 703, following the measurement sequence by the test program in order to execute the function test of the semiconductor device 704 which is measuring object, the measurement sequence is changed so that the number of times of test pattern transfer between pattern memories in the semiconductor test device becomes minimum.
測定対象となる半導体デバイス704 の機能テストを行うためにテストプログラムによる測定シーケンスにしたがって複数のテストパターンをテストパターンメモリ702,703 を介して被測定デバイスに転送し、テストを実行する半導体テスト装置において、半導体テスト装置内のパターンメモリ間におけるテストパターンの転送回数が最小になるように測定シーケンスを変更する。 - 特許庁 - A plurality of exterior approach patterns are set by appropriately combining gates, approaches, and entrance porches each classified into a few types with one another, and a minimum basic dimension necessary for actual construction is determined for every exterior approach pattern, and an arrangement space in a plot is compared with the basic dimension of each exterior approach pattern to select an exterior approach pattern to fit within the arrangement space.
数種類のタイプに分類された門、アプローチ、玄関ポーチを適宜組み合わせて複数の外構アプローチパターンを設定するとともに、これら外構アプローチパターン別に実際の構築に最低限必要な基本寸法を決定し、敷地内の配置スペースと各外構アプローチパターンの基本寸法とを比較して、配置スペース内に収まる外構アプローチパターンを選び出すようにする。 - 特許庁 - The character recognition device extracts a character pattern by using structure information of a character category to be a comparison classification target of an input character image in the case of recognizing and outputting the input character image, and outputs a character category with maximum similarity between the extracted character pattern and a character category corresponding to the character pattern as the recognition result of the input character image.
文字認識装置は、入力された文字画像を認識して出力する場合に、入力された文字画像の比較分類対象となる文字カテゴリの構造情報を利用して文字パターンを抽出し、抽出された文字パターンと当該文字パターンに対応する文字カテゴリとの類似度が最大となる文字カテゴリを、入力された文字画像の認識結果として出力する。 - 特許庁 - When a display mode in the variable display device 310 becomes a display mode disadvantageous to a player via a ready mode, a prescribed hiding pattern for hiding one of the pieces of identification information forming the disadvantageous mode in the variable display device 310 is made to appear on condition that a prescribed noticing pattern is displayed on the normal pattern display device 140.
可変表示装置３１０における表示態様がリーチ態様を経た後に遊技者にとって不利な表示態様になったとき、普通図柄表示装置１４０に所定の予告図柄が表示されることを条件に、可変表示装置３１０における不利な表示態様を成す識別情報の何れかを隠蔽するための所定の隠蔽図柄を出現させる。 - 特許庁
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