PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM USING THE SAME, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, PRINTED WIRING BOARD AND ITS MANUFACTURING METHOD 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法 - 特許庁
To provide a touch panel which minimizes damages to an electrode pattern, and also provide its production method. 本発明の目的は電極パターンの損傷を最小化するようにしたタッチパネル及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁
The center position AMO of the alignment pattern AP is identified from the positions of the four centers to acquire a parallel displacement amount of the substrate. 4つの中心の位置からアライメントパターンAPの中心位置AMOを特定し、基板の平行ずれ量を取得する。 - 特許庁
To provide a single-base fluorescent lamp with a helical pattern arc tube with little luminance unevenness from initial lighting. 初回点灯時から輝度ムラの少ない螺旋状発光管を有する片口金蛍光ランプを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an image processing unit that properly detects a linear pattern from an input image with poor contrast to apply binary processing to the image. コントラストの悪い入力画像から線状パターンを適切に検出し、二値化処理を行う画像処理装置を提供する。 - 特許庁
An error-pattern analysis section 109 specifies the position of an abandoning packet in a continuously transmitting packet group (a group) (S808). エラーパターン解析部109は、連続して送信するパケット群(グループ)内における棄却パケットの位置を特定する(S808)。 - 特許庁
To provide a method for stably recording BCA in a recording type optical disk, and an optical disk having a BCA pattern formed. 記録型光ディスクに対して安定的にBCAを記録する方法及びBCAパターンを形成した光ディスクを提供する。 - 特許庁
The beam is reflected by a collimator mirror 6 and made incident on a mask M having a stripe pattern formed therein held on a mask stage MS. この光はコリメータミラー6で反射され、マスクステージMSに保持されたストライプパターンが形成されたマスクMに入射する。 - 特許庁
A current path pattern of a semiconductor material is formed on the insulating main surface of a substrate. 絶縁性の主表面を有する基板の該主表面上に、半導体材料からなる電流路パターンが形成されている。 - 特許庁
To provide a formation method for the pattern of a titanium dioxide photocatalyst layer, capable of simply and easily forming an oxide layer integrated with a base material. 母材と一体化した酸化層を簡便に形成し得る二酸化チタン光触媒層のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
Embroidery data which an operator selects are read from an external storage (S1) and the embroidery pattern is displayed on a display device (S2). オペレータが選択した刺繍データを外部記憶装置から読出し(S1)、その刺繍模様を表示装置に表示する(S2)。 - 特許庁
The position of each peripheral pixel of the same color of each center pixel is specified by an array-pattern in the k×k pixel area. 各中心画素それぞれの同色周辺画素の位置は、k×k画素領域における配列パターンによって特定される。 - 特許庁
EXPOSURE MASK, DESIGNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD AND EQUIPMENT, PATTERN LITHOGRAPHY METHOD, AND FABRICATION METHOD OF DEVICE 露光用マスク、露光用マスクの設計方法及び製造方法、露光方法及び装置、パターン形成方法、デバイスの作製方法 - 特許庁
Thereby a suitable position detection pattern can be formed while improving the image formation efficiency and misregistration can be accurately corrected. したがって、画像形成効率を向上させつつ適切な位置検出パターンを形成して、位置ずれを正確に補正する。 - 特許庁
Such process is repeated, and, finally, the resist and the tinned layer used as the masking are removed to obtain the objective metal pattern. この工程を繰り返し、最終的にマスキングとして使用したレジスト及びスズめっき層を除去して金属パターンを得る。 - 特許庁
According to the structure of the construction equipment, the pattern switching valve 32 is arranged with its switching lever 32B directed frontward in a driver seat pedestal 22. 運転席台座22内には、パターン切換弁32を切換レバー32Bを前側に向けた状態で設ける構成としている。 - 特許庁
When checking of all words in the document has been completed (S6), checking against the next pattern is performed in the same way (S1). 文書中のすべての語について照合が終了すると(S6)、次のパターンについて同様に照合を行なう(S1)。 - 特許庁
To improve the ignitability, and reduce the exhaust emission by optimizing the fuel injection rate pattern in response to the engine warming-up condition. 燃料噴射率のパターンを、エンジン暖機状態等に応じて最適化し、着火性の向上や排気エミッションの低減を図る。 - 特許庁
To provide a wiring substrate wherein a metal layer having a nano- and micro-pattern is accurately and locally formed, and its manufacturing method. ナノレベルの微細パターンの金属層を局所的に精度良く形成された配線基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
Then, a repeated sampling of actual misalignment quantity in the resist pattern is carried out by resist detection sensors RS1 and RS2. そして,レジスト検出センサRS1,RS2にて,レジストパターンの現実の位置ずれ量を所定のタイミングで繰り返しサンプリングする。 - 特許庁
To easily and accurately manufacture a hollow device having a hollow part having a fine and complicated pattern of nm-μm units at a low cost. nm〜μm単位の微細で複雑なパターンの中空部を有する中空デバイスを簡易にかつ低コストで精度良く製造する。 - 特許庁
The photo-resist layer 14 on which the latent image 17 is formed is developed and washed by pure water, and a groove pattern of the spiral type is formed. 潜像17を形成したフォトレジスト層14を現像して純水洗浄し、スパイラル状の溝パタン18を形成する。 - 特許庁
To provide a pattern-recognition apparatus, capable of accurately performing proper recognition processing corresponding to environment. 文字の書かれている環境に応じた適切な認識処理を精度良く行うことが可能なパターン認識装置を提供する。 - 特許庁
(S2) After a dummy forbidden region is formed on the layout data of an actual pattern, the prepared dummy constituents are arranged all over the data. 実パターンのレイアウトデータ上にダミー禁止領域を設けた後、用意したダミー構成要素をデータ全面に配置する(S2)。 - 特許庁
A through-hole conducing part 12 is formed for the conduction hole 8 and then a required circuit wiring pattern 13 is formed. そこで、導通用穴8に対してスル−ホ−ル導通部12を形成した後、所要の回路配線パタ−ン13を形成する。 - 特許庁
The metal member 2 also shields a control mounted outside it from noises of the pattern display unit U as generation source. また金属部材22は、その外側に取付けた制御基板を、前記図柄表示ユニットUを発生源とするノイズから遮蔽する。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING LASER CARVING PATTERN ON PLASTIC PRODUCT BY LASER CARVING AND IN-MOLD TRANSFER TECHNIQUE, AND PRODUCT OF THE SAME レーザ彫刻およびインモールド転写技術によりプラスチック製品上にレーザ彫刻パターンを形成する方法およびその製品 - 特許庁
First, an antenna ratio extracting section 10 extracts an antenna ratio Ri from a temporarily designed layout pattern for each of various plasma steps. まず、暫定的に設計された各プラズマ工程のレイアウトパターンから、アンテナ比抽出部10によりアンテナ比Riを抽出する。 - 特許庁
The regular pattern display part 21 expresses regular patterns by the combination between the lightening first light emitting part and second light emitting parts. 普通図柄表示部21は、点灯している第一発光部及び第二発光部の組み合わせにより普通図柄を表現する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION LAYER, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME 感光性樹脂組成物層、感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁
The first conductive pattern 14 and the first semiconductor substrate 11A can be electrically connected via a connecting electrode 16. 接続電極16を介して、第1導電パターン14と第1半導体基板11Aとを電気的に接続することが出来る。 - 特許庁
The exposed resist film 46 is dipped in a developing solution 72 constituting a developing means 70 to develop into a bank of the specified pattern. 露光されたレジスト膜46は、現像手段70を構成する現像液72に浸漬して現像し、所定パターンのバンクにする。 - 特許庁
To provide a kiln modulation pattern pottery enabling mass production in a stable quality and to provide a transfer paper suitable for its production. 安定した品質で大量生産可能な窯変調模様の陶磁器およびその製造に好適な転写紙を提供する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法およびプリント配線板の製造方法 - 特許庁
NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING NEGATIVE PATTERN USING THE SAME, CIRCUIT BOARD MATERIAL, AND COVERLAY FOR CIRCUIT BOARD ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いたネガ型パターンの形成方法、回路基板材料および回路基板用カバーレイ - 特許庁
To provide a forgery prevention medium having a printing and birefringent pattern in which high latent image visibility and durability are obtained. 高い潜像視認性と耐久性とを実現した、印刷および複屈折パターンを有する偽造防止媒体を提供すること。 - 特許庁
A schedule is created based on the determined most satisfactory operator pattern (STEP4), and output to an output part (STEP5). 決定した最良の作業員パターンに基づいて、スケジュールを作成し(STEP4)、出力部に出力する(STEP5)。 - 特許庁
To provide a pneumatic tire reducing noise due to a tread pattern while satisfactorily maintaining drainage performance. 排水性能を良好に維持しながら、トレッドパターンに起因する騒音を低減することを可能にした空気入りタイヤを提供する。 - 特許庁
To restrict a decrease in a pattern resolution resulting from the component of exposure light made incident on the photo-mask non-vertically. フォトマスク面に非垂直入射する露光光成分などに起因して生じるパターン解像度の低下を抑制すること。 - 特許庁
The entire edge of the second portion 42 of the metal cover is electrically connected to a ground pattern 19 on the surface of the mounting board. 金属カバー第2部分42の先端縁全体が実装基板表面のグランドパターン19と電気的に接続される。 - 特許庁
To provide an optical absolute position length-measurement type encoder which enhances detection accuracy of an absolute (ABS) pattern and reduces the influence of noise caused by a dust and the like on a scale. アブソリュート(ABS)パターンの検出精度の向上と、スケール上のゴミなどによるノイズの影響の低減を図る。 - 特許庁
If it is distinguished that the sensor is turned on/off (step S1: Yes), whether the sensor corresponds to an abnormal pattern is distinguished (step S2). センサがON/OFFしたと判別すると(ステップS1:Yes)、センサが異常パターンに該当するか否かを判別する(ステップS2)。 - 特許庁
To facilitate pattern design of a center feed planar antenna to achieve a desired directivity. 中央給電型の平面アンテナについて、所望の指向特性を実現するためのパターン設計を容易化することを目的とする。 - 特許庁
The instructions of printing of the patch pattern on paper is given to the image forming apparatus, which is connected via the network and for which the second gradation correction has been selected. ネットワークで接続され第2の階調補正を選択された装置に対し、紙にパッチパターンを印刷する事を指示する。 - 特許庁
To provide a method in which a fine conductive pattern of a uniform film thickness is formed on a surface of a baked ceramic substrate. 焼成済みセラミック基板の表面に、均一な膜厚をもつ微細導電パターンの形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide a positive resist composition capable of suppressing the generation of a watermark during immersion exposure, and a pattern formation method using the same. 液浸露光時にウォーターマークの発生を抑制しうるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
A printed substrate 100, which is formed by printing a pattern on a non-conductive substrate using a metal-compound solution, is prepared beforehand. 金属化合物溶液を用いて非導電性の基材にパターン印刷して生成した印刷物100を予め準備する。 - 特許庁
To accurately regulate a focus of a light beam radiated from a light beam radiation device, thereby performing pattern drawing with high accuracy. 光ビーム照射装置から照射される光ビームの焦点を精度良く調節して、パターンの描画を精度良く行う。 - 特許庁
To provide a touch screen panel and a method of manufacturing the same for minimizing the area where an insulating film that covers a connection pattern is formed. 連結パターンを覆う絶縁膜の形成領域を最小化するタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To control the position of the edge of a figure element with high resolution, without causing a transfer omission, in a pattern drawing apparatus. パターン描画装置において、転写ヌケを発生させることがなくかつ図形要素のエッジの位置を高分解能にて制御する。 - 特許庁