「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 912 913 914 915 916 917 918 919 920 .... 999 1000 次へ＞- Kujo-kesa (Sha with white peony motif in white cloth for Denso, sha with peony motif in dark blue cloth for Joyo); Tsuketari: Kesa-zutsumi of Hana Karakusa mon (flower arabesque pattern) in yellow nishiki (brocade) cloth
九条袈裟（田相白地牡丹文顕紋紗条葉紺地牡丹顕紋紗）附黄地花唐草文錦袈裟包 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - This highly elaborate piece features Hosogemon (arabesque flower pattern) embossed carving on the pedestal and gold leaf that covers not only the exterior surface but also the interior cavity.
台座は各所に宝相華文を浮き彫りし、像表面だけでなく胎内にも金箔を押す入念な作である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - The Hakama was with 'nejimachi' which was the same as Nagabakama for women, in formal style it was with Kurenai koaoi mon aya (a type of an arabesque pattern figured cloth with light pink color) on the surface and the lining was a light pink color with plain silk fabric.
袴は女子の長袴同様の「ねじまち」で、正式には表紅小葵文綾・裏紅平絹。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - DETACHABLE DEVICE, CONTROL CIRCUIT, FIRMWARE PROGRAM OF CONTROL CIRCUIT, INFORMATION PROCESSING METHOD IN CONTROL CIRCUIT AND CIRCUIT DESIGN PATTERN
着脱式デバイス、制御回路、制御回路のファームウェアプログラム、制御回路における情報処理方法及び回路設計パターン - 特許庁 - The method is used for forming an extremely fine pattern by using short wavelength light from an ArF excimer laser or by liquid immersion lithography.
ＡｒＦエキシマーレーザーなどの短波長光や液浸リソグラフィーなどの非常に微細なパターンを形成する場合に用いられる。 - 特許庁 - Exposure corresponding to a prescribed magnetic pattern is performed to the surface of a photoresist 12 on a silicon substrate 10 to expose the photoresist (c).
シリコン基板１０上のフォトレジスト１２の表面に対し、所定の磁気パターンに相当する露光を行ない感光させる（ｃ）。 - 特許庁 - SUBSTRATE HAVING CIRCUIT PATTERN FORMED ON ITS SURFACE, CERAMIC GREEN SHEET HAVING SINTERABILITY, AND METHOD OF MANUFACTURING MULTILAYERED CERAMIC SUBSTRATE
表面に回路パターンが形成された基板及び焼結性を有するセラミックグリーンシート及び多層セラミック基板の製造方法 - 特許庁 - In the figure, 4 is a mosaically divided ITO (indium oxide transparent electrode pattern) and 3 is a bank part surrounding the transparent electrode part.
なお、４はモザイク状に区切られたＩＴＯ（インジウムオキサイド透明電極パターン、３は透明電極部分を囲む土地部である。 - 特許庁 - MONOMER FOR PHOTORESIST, PHOTORESIST POLYMER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト単量体、フォトレジスト重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法および半導体素子 - 特許庁 - In the oxidation step, the treatment of oxidizing the cured layer formed on the surface of the resist film pattern by the ion injection is performed.
酸化工程では、イオン注入によりレジスト膜パターンの表面部に形成された硬化層を酸化する処理が実施される。 - 特許庁 - Next, a conditional density cooccurrence matrix is calculated from the read pattern image and this calculated density cooccurrence matrix (S3).
次に読み込んだ模様画像と該算出した濃度共起行列から条件付き濃度共起行列を算出する（Ｓ３）。 - 特許庁 - To easily make a pattern image small in size and to decrease toner consumption required to detect toner adhesive amount.
簡単にパターン画像の小型化を図ることが可能で、トナー付着量検出に要するトナー消費量を低減できるようにする。 - 特許庁 - An experiment shows that the mask pattern having high verticality in the organic film constituting the multilayer resist is provided.
実験により複数層レジストを構成する有機膜に垂直性が高いマスクパターンを得ることができることが示されている。 - 特許庁 - To provide an automatic accompaniment apparatus capable of appropriately altering the pitch of a note, constituting automatic accompaniment pattern musically.
自動伴奏パターンを構成する音符の音高を音楽的に適切に変更することができる自動伴奏装置を提供する。 - 特許庁 - A wiring pattern forming electrolytic plating process is preferably an electrolytic plating process of electroplating gold, nickel, and copper in this sequence.
配線パターンを電解メッキにより形成する工程は、金、ニッケル、銅をこの順に電解メッキする工程であることが好ましい。 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST COPOLYMER AND PREPARATION THEREOF, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMATION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト単量体、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、および、半導体素子 - 特許庁 - BONDING STRUCTURE OF PATTERN ELECTRODE UTILIZING ULTRAVIOLET RAY CURING AGENT INCLUDING ULTRAVIOLET RAY AND NATURAL CURING AGENT, AND ITS BONDING METHOD
紫外線及び自然硬化剤を含んだ紫外線硬化剤を利用したパターン電極のボンディング構造及びそのボンディング方法 - 特許庁 - FLEXION BRAID HAIR MAKER, WIG PRODUCTION PATTERN, METHOD FOR MAKING FLEXION BRAID HAIR, METHOD FOR MAKING BRAID HAIR, FLEXION BRAID HAIR, AND WIG
屈曲編み毛製造具、かつら製造用型紙、屈曲編み毛製造方法、編み毛製造方法、屈曲用編み毛、かつら - 特許庁 - An R filter included in a Bayer pattern color filter array is replaced partially by an IR filter transmitting infrared rays selectively.
ベイヤー配列のカラーフィルタアレイに含まれるＲフィルタの一部を、赤外光を選択的に透過するＩＲフィルタで置き換える。 - 特許庁 - A recording layer 3 is formed by spin-coating a phthalocyanine coloring matter to a polycarbonate substrate 1 with a preformat pattern 2.
プリフォーマットパターン２を有するポリカーボネート基板１に、フタロシアニン色素の溶液をスピンコートすることで記録層３を形成した。 - 特許庁 - SUBSTRATE HAVING CIRCUIT PATTERN FORMED ON ITS SURFACE AND SINTERABILITY, CERAMIC GREEN SHEET, AND METHOD OF MANUFACTURING MULTILAYERED CERAMIC SUBSTRATE
表面に回路パターンが形成された焼結性を有する基板及びセラミックグリーンシート及び多層セラミック基板の製造方法 - 特許庁 - PHOTORESIST CROSSLINKER, PHOTORESIST COPOLYMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁 - A photoresist film is formed on the film 38 and following the formation, etching masks 42 having each wiring pattern are formed on the photoresist film.
ＴｉＮ／Ｔｉ積層膜３８上にフォトレジスト膜を成膜し、続いて配線パターンを有するエッチングマスク４２を形成する。 - 特許庁 - PHOTORESIST CROSS-LINKING AGENT, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS MANUFACTURE, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ンの形成方法、及び、半導体素子。 - 特許庁 - A pattern 5 composed of a lithium fluoride layer 3' and a tantalum nitride absorber layer 4' is formed on the Mo/Si multilayer film 2.
Ｍｏ／Ｓｉ多層膜２の上には、フッ化リチウム層３’と窒化タンタル吸収体層４’からなるパターン５が形成されている。 - 特許庁 - A thermosetting resin 7 is fed to a region which includes joints between the protrudent electrodes 3 and the wiring pattern 5.
この突起電極３と配線パターン５との間の接続部を含む領域には、熱硬化性樹脂７が供給されている。 - 特許庁 - The sensor includes a transmission antenna adapted for transmitting an RF field having a quasi-collimated antenna pattern in a near field.
センサは、近傍界において擬似コリメートアンテナパターンを有するＲＦ信号を送信するようになっている送信アンテナを含む。 - 特許庁 - The ink for forming the pattern comprises a polymer resin containing an acrylic resin, a crosslinking agent containing a hexamethylene diisocyanate and a filler.
パターン形成用インキは、アクリル系樹脂を含む高分子樹脂と、ヘキサメチレンジイソシアネートを含む架橋剤と、充填剤とを含む。 - 特許庁 - UNSATURATED MONOMER HAVING FLUORINE-CONTAINING BRIDGED ALICYCLIC LACTONE STRUCTURE, ITS POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST AND PATTERN-FORMING METHOD
フッ素含有有橋脂環式ラクトン構造をもつ不飽和単量体、その重合体、化学増幅レジスト及びパターン形成方法 - 特許庁 - A pattern caching unit selectively replaces portions of the design with previously cached results for improved design efficiency.
設計効率を向上させるために、パターン・キャッシング・ユニットは、設計の一部を以前にキャッシュされた結果に選択的に置き換える。 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST POLYMER AND ITS MANUFACTURING METHOD, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト単量体、フォトレジスト重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁 - The method also includes ashing by using a mixture gas 12 containing hydrogen and helium gas at 200-400°C, and removing of the resist pattern 8.
水素とヘリウムガスとを含む混合ガス１２を用いて、２００℃〜４００℃の温度でアッシングを行い、レジストパターン８を除去する。 - 特許庁 - The comparison means 13 compares the template pattern with the change of the characteristic amount when hierarchically reducing the detection target image.
比較手段１３は、テンプレートパターンと検出対象画像を階層的に縮小する際の特徴量の変化とを比較する。 - 特許庁 - The wireless network downlink measurements obtained are then used in conjunction with a database for pattern matching or contour matching.
そして、得られたワイヤレスネットワークダウンリンク測定値は、パターンマッチングまたは輪郭マッチングのために、データベースとの組合せで使用される。 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND CONTAINING SULFONIUM SALT, RESIST MATERIAL, PATTERN FORMING METHOD, SULFONIUM SALT MONOMER, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スルホニウム塩を含む高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法、並びにスルホニウム塩単量体及びその製造方法 - 特許庁 - The hologram element also acts as a diffractive lens by properly designing the diffraction grating pattern.
ホログラム素子１は、その回折格子パターンを適宜に設計することにより、回折レンズとしての機能を兼ね備えることができる。 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ンの形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁 - A lower electrode is formed by etching the lower electrode layer using the resist pattern and the capacitor dielectric film as the etching mask.
レジストパターン及びキャパシタ誘電体膜をエッチングマスクとして、下部電極層をエッチングすることにより、下部電極を形成する。 - 特許庁 - PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST POLYMER, METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
フォトレジスト単量体、フォトレジスト重合体、フォトレジスト重合体の製造方法、フォトレジスト組成物及びフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁 - The pattern formed with transparent electrodes of the diffraction areas 19, 20 are connected to different electrodes 22c, 22a respectively.
回折領域１９、２０のパターン形成される透明電極は、それぞれ異なる電極２２ｃ、２２ａと電気的に接続される。 - 特許庁 - The segments Sn are decoded as a character corresponding to the reference waveform pattern with the highest correlation coefficient (highest similarity).
当該セグメントＳｎを、最も高い相関係数（最も高い類似度）の基準波形パターンに対応する文字としてデコーディングする。 - 特許庁 - To carry out a servo demodulation by appropriately compensating a demodulation error caused by a fluctuation of a reproduction signal amplitude of a phase servo pattern.
位相サーボパターンの再生信号の振幅が変動して生じた復調誤差を適切に補償してサーボ復調を行う。 - 特許庁 - Banjo refers to a working pattern taken by lower-ranking government officials such as Zonin and so on in the ritsuryo system (a system of centralized government based on the ritsuryo code) in Japan.
番上（ばんじょう）とは、日本の律令制において雑任などの下級官人が行っていた勤務形態。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - Saw-tooth pattern of the lines were engraved on the outside of the rims, and the outer surfaces were laterally and longitudinally scratched, and its inner surfaces were pulled into shape by stroking.
口縁部外面に鋸歯文の線刻を施しており、外面は横捌け、縦捌け、内面は撫で調整している。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - To pattern a semiconductor film without either damaging the semiconductor film and its substrate or contaminating the semiconductor film.
半導体膜やその下地にダメージを与えることなく、また半導体膜を汚染することなく、半導体膜のパターニングを可能とする。 - 特許庁 - By this method, the possibility that a template patterns which includes important words more numerously is selected as the optimum template pattern becomes high.
この方法により、重要単語をより多く含むテンプレートパターンが、最適テンプレートパターンとして選択される可能性が高くなる。 - 特許庁 - The interference pattern changes, when the wireless node 102 is, for example, at coordinates (x1, y1) and at coordinates (x2, y2).
例えば無線ノード１０２が座標（ｘ１，ｙ１）にある場合と、座標（ｘ２，ｙ２）にある場合とでは、干渉パターンが変化する。 - 特許庁 - To provide an optional waveform signal generator that can output an FSK signal that repeats the same waveform pattern.
任意波形信号発生装置において、同じ波形パターンを繰り返すＦＳＫ信号を出力できるようにすることにある。 - 特許庁 - To provide a photomask and a method for manufacturing the photomask capable of improving accuracy of a pattern to be transferred onto a photoresist film.
フォトレジスト膜に転写されるパターンの精度を向上させることができるフォトマスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The extracted blood vessel pattern X is then subjected to affine transformation to generate a plurality of blood vessel patterns X having different rotary angles.
次に、抽出された血管パターンＸがアフィン変換され回転角度の異なる複数の血管パターンＸが生成される。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
- Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
- 本サービスで使用している「Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス」はWikipediaの日本語文を独立行政法人情報通信研究機構が英訳したものを、Creative Comons Attribution-Share-Alike License 3.0による利用許諾のもと使用しております。詳細はhttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ および http://alaginrc.nict.go.jp/WikiCorpus/ をご覧下さい。
