「pattern」を含む例文一覧(49965)

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  • Then, when the pattern of the tile to be aimed at is selected, the recording data are referred to, the hitting strength for which the number of times of ball entry to the ball entrance of the pattern of the tile to be aimed at is large is selected, and the LED 61 corresponding to the hitting strength is made to emit light.
    そして、狙うべき牌の図柄が選定された際に、記録データを参照し、その狙うべき牌の図柄の入球口に入球した回数の多い打出し強さを選定し、その打出し強さに対応したＬＥＤ６１を発光させる。 - 特許庁
  • To provide a positive-type resist composition which has superior lithographic characteristics and forms a roughness-reduced resist pattern, a resist pattern-forming method using the positive-type resist composition, and a high-molecular compound which can be utilized as a base material component for the positive-type resist composition.
    良好なリソグラフィー特性で、ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、およびポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物を提供する。 - 特許庁
  • Regarding multi-path recording, a cluster mask is used for a mask pattern for generating data to be recorded upon first scanning, and a dispersion mask is used for a mask pattern for generating data to be recorded upon the second or subsequent scanning, accordingly, the color irregularity and the granularity are reduced.
    マルチパス記録において、最初の第１走査で記録されるデータを生成するためのマスクパターンに集中マスクを用い、第２走査以降に記録されるデータを生成するためのマスクパターンに分散マスクを用いることにより、色むらと粒状性を低減する。 - 特許庁
  • A plurality of destination names 50 are displayed on the image plane, when the user depresses any of the names, a destination entry column 51 displays the depressed destination; and when the user depresses a "next image pattern" key 52 or a "preceding image pattern" key 53, telephone directory information of the next or preceding image plane is displayed.
    この画面には、複数の宛先名５０が表示されており、そのいずれかを押下すると、その宛先が宛先入力欄５１に表示され、「次画面」キー５２または「前画面」キー５３を押下すると、次または前の面の電話帳情報が表示される。 - 特許庁
  • To provide a film pattern forming method obtained by improving a film pattern forming method using an injection method and capable of efficient ly thickening a film by a simple process, satisfying the requirement for thinning, and preventing the occurrence of problems such as disconnection and a short circuit in the case of forming a conductive film.
    インクジェット法による膜パターンの形成方法を改善し、簡単な工程で効率よく厚膜化を達成し、細線化の要請も満たし、しかも、導電膜とした場合に断線や短絡等の問題を生じない膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
  • The master mold in which a transfer material is to be transferred by using a blanket is provided with a plate with a specific thickness and a concave pattern formed on the surface of the above plate, and the concave pattern has an inclined face toward the transfer direction of the transfer material.
    ブランケット（blanket）を用いて転写材料を転移させるためのマスターモールドにおいて、所定の厚さを有する板と、該板の表面に形成される凹パターンと、を備え、該凹パターンは、転写材料の転移方向に傾斜した面を有することを特徴とする。 - 特許庁
  • The game board 20 of this pachinko machine 10 includes a plurality of winning ports 21, 29, 30, 32, 33 which game balls enter, a variable winning port (or big winning port) 34 opened or closed when prescribed conditions are met, a special pattern display region 22, and a judgment pattern display region 40.
    パチンコ機10の遊技盤20には、遊技球が入賞する複数の入賞口21、29、30、32、33、所定条件を満たした場合に開放／閉口する可変入賞口（または大入賞口）34、特別図柄表示領域22および判定図柄表示領域40を含んでいる。 - 特許庁
  • Forming pattern conductor sections acting like a reception antenna on a printed circuit board and placing an inductor, a radio wave diode and a light emitting diode between the pattern conductor sections can realize the radio wave radiation display device with a low profile as a whole.
    プリント基板上に受信アンテナとなるべき複数のパターン導体部を形成すると共に、当該複数のパターン導体部間にインダクタ、電波ダイオード及び発光ダイオードを配設し、これにより全体として薄型形状の電波発射表示装置を実現できる。 - 特許庁
  • The selection rule and deformation rule of the rhythm pattern in a part including the rhythm change point are generated by a statistical method or learning and previously stored in a representative rhythm pattern selection rule table 130 and a deformation rule table 150.
    前記韻律変化点を含む部分の韻律パタンの選択規則およびパタンの変形規則を、統計的手法あるいは学習によって生成し、あらかじめ代表韻律パタン選択規則テーブル１３０および変形規則テーブル１５０に格納しておく。 - 特許庁
  • In a circuit board 2 arranged with circuit components and a circuit pattern, an auxiliary circuit pattern 4 for absorbing static electricity is provided over a specified region, while being earthed, between a circuit component 5 to be protected and the outer part possibly generating static electricity.
    回路部品及び回路パターンを配置してなる回路基板２において、保護しようとする回路部品５と静電気を発生し得る外部との間に、静電気吸収用の補助回路パターン４を所定領域にわたり設け、補助回路パターン４をアースに接続した。 - 特許庁
  • To prevent presence of information from being clearly grasped in mixing the specified information for mechanical read-out different from a diffraction grating pattern in a decorative picture comprising the pattern, to increase the information content and to make a display body less liable to a counterfeit and an imitation.
    回折格子パターンにより構成される装飾画像内に、それとは異なる機械読み取り用の特定情報を混在させる際、前記情報の存在が明確に把握されることがなく、かつ情報量を多くし、偽造・模造を一層困難にする。 - 特許庁
  • A base pattern (aluminum film) 3 and an insulation film 4 being exposed on a silicon substrate 1 is treated with plasma to reform the surface (fluorination) to facilitate peeling it on the insulation film surface, without peeling the metal film on the base pattern 3.
    シリコン基板１の上に下地用パターン（アルミ薄膜）３と絶縁膜４が露出した状態で、プラズマ処理による表面改質を行い（Ｆ化し）、下地用パターン３では金属膜の剥離を発生させず絶縁膜部表面での剥離を容易にさせる。 - 特許庁
  • If the digital camera loses the object during the performance of pattern driving AF control (in a normal control state) (lost object time TL), the pattern driving AF control (an extended control state) 403 is maintained for at least a specified time t'.
    デジタルカメラが、パターン駆動ＡＦ制御（通常制御状態）４０２を実行中に被写体をロストした場合（被写体ロスト時点ＴＬ）、少なくとも所定時間ｔ’が経過するまでは、パターン駆動ＡＦ制御（延長制御状態）４０３が継続される。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method capable of forming an extremely fine pattern of a high resolution, suppressing a parasitic effect and forming a field effect transistor of high performance by using electron beam lithography, and to provide a manufacturing method for a semiconductor device and the semiconductor device.
    電子ビームリソグラフィを用いて、高解像度の極めて微細なパターンを形成するとともに、寄生効果を抑えて高性能の電界効果型トランジスタを形成することができるパターン形成方法、半導体装置の製造方法、及び、半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a resist pattern forming method which is capable of making the best of a merit of a silylation process although width of a line can be precisely and uniformly controlled through a plane independently of size and density of a pattern, a method of manufacturing a semiconductor device, and a silylation device.
    パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびシリル化装置を提供すること。 - 特許庁
  • When a certificate photograph of the person 20 wearing a dress with a pattern of lateral or longitudinal fine stripes or cross stripes is taken, the resolution of the dress can be lowered to restrain a moire pattern of the dress without deteriorating the sharpness of the face picture.
    被撮影者２０が細いストライプ等の縦縞や横縞、格子模様等の服装を着て証明写真を撮った場合に、服装部分の解像度を低減できるので、顔画像のシャープネスを損なうことなく、服装部分のモアレ模様を抑制することができる。 - 特許庁
  • Thus, the candidates for the rhythm pattern are selected by every bar, one rhythm pattern is selected at random based on random numbers among the candidates and rhythm patterns for one music is generated by connecting the rhythm patterns selected for each bar over the whole music.
    このようにして、１小節ずつリズムパターンの候補が選択され、その中から乱数に基づいてランダムにリズムパターンが一つ選択され、各小節に対して選択されたリズムパターンを、曲全体に亘ってつなげていくことにより、１曲分のリズムパターンが生成される。 - 特許庁
  • In a method for inspecting an ink jet head ejecting liquid drops to form an image, a predetermined pattern is printed on a medium and the capacity of the ink jet head is evaluated from the printed pattern.
    液滴を吐出させて像を形成するインクジェットヘッドの検査方法において、媒体に所定パターンを印字し、その印字パターンからインクジェットヘッドの性能を評価する際、インク吐出口位置を測定し、インク吐出口から吐出されたインク液滴の到達位置を測定する。 - 特許庁
  • (1) This manufacturing method of the composition floor tile having the cloud-shaped pattern or the marble pattern of the clear contour is characterized by continuously cutting a surface of a plate-like material or a sheet-like material provided by calender molding by a cutting machine having a rotary blade.
    （１）カレンダー成形で得られる板状物又はシート状物の表面を、回転刃を有する切削機械により連続的に切削することを特徴とする、輪郭の鮮明な雲形模様又はマーブル模様を有するコンポジション床タイルの製造方法。 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR PARTITIONING PATTERN FOR WRITING, METHOD FOR WRITING, METHOD FOR MAKING MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PROGRAM FOR PARTITIONING PATTERN FOR WRITING AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM RECORDED WITH THE PROGRAM
    描画用パターンの分割処理方法、描画用パターンの分割処理装置、描画方法、マスク、マスクの作成方法、半導体装置、半導体装置の製造方法、描画用パターンの分割処理プログラム及びこのプログラムを記録したコンピュータ読みとり可能な記録媒体 - 特許庁
  • In the method for manufacturing the hologram color filter by using an interference exposure method using a master hologram, the master hologram is preliminarily subjected to correction that the deviation and turned deviation of the transfer pattern caused in the manufacturing process is added to the design pattern of the master hologram.
    また、マスタホログラムを利用する干渉露光法を用いたホログラムカラーフィルタの製造方法において、製造工程中に発生する転写パターンのずれと逆向きのずれを、予めマスタホログラム上の設計パターンに加える補正を行ったマスタホログラムを用いる。 - 特許庁
  • If the size of the paper supplied from the paper supply part 3 is smaller than the size of the pattern image data when indicated to perform the calibration, the image forming part 1 forms a plurality of divided images obtained by dividing a pattern image on a recording material respectively.
    キャリブレーションの実行を指示されたときに、給紙部３から供給された用紙のサイズがパターン画像データのサイズよりも小さい場合には、画像形成部１はパターン画像を分割して得られる複数の分割画像をそれぞれ記録材に形成する。 - 特許庁
  • The information processing apparatus 2 then determines an index corresponding to desired additional information to be embedded, selects a permutation pattern corresponding to the determined index, and changes the arrangement order of permutable objects included in the data file in accordance with the selected permutation pattern.
    そして、情報処理装置２は、埋め込みたい付加情報に対応するインデクスを決定し、決定されたインデクスに対応する置換パターンを選択し、選択された置換パターンに応じて、データファイルに含まれる置換可能なオブジェクトの配列順序を変更する。 - 特許庁
  • The spectrum pattern of cos Δ and the like is related to the thickness of an amorphous region in advance by a non-destructive inspection and the like, or, a characteristic part of the pattern of cos Δ and the like is paid attention, for evaluating thickness of amorphous region and degree of disturbance in crystallinity.
    そして、予め破壊検査等によってcos Δ等のスペクトルのパターンとアモルファス領域の厚みとを関係づけておくか、cos Δ等のパターンの特徴的な部分に着目することで、アモルファス領域の厚みや結晶性の乱れの程度を評価する。 - 特許庁
  • Further, when the imaging apparatus displays first image data whose layout is coincident with that of an inadequate layout pattern image and second image data whose layout is coincident with that of an optimum layout pattern image side by side on a display section, since it is naturally understandable, the photographer can really feel the difference.
    さらに、不最適構図パターン画像と構図が一致する第１の画像データと、最適構図パターン画像と構図が一致する第２の画像データとを並べて表示部に表示すると、見た目に明らかであるので、撮像者はその違いを実感することが出来る。 - 特許庁
  • Data of the color picture pattern block are compressed by the color 24-bit jpeg method (120), data of the monochromatic picture pattern block and the monochromatic background block are compressed by the monochromatic 8-bit jpeg method (128, 134), and the compressed data are assembled with a background layer in the multilayer format as other picture plane data (158, 160).
    カラー絵柄ブロックのデータはカラー用の24ビットjpeg形式方式で圧縮し(120)、モノクロ絵柄ブロック及びモノクロ下地ブロックのデータはモノクロ用の８ビットjpeg形式で圧縮し(128,134)、別の画像プレーンのデータとして多層フォーマットにおけるバックグラウンド層に組み込む(158,160)。 - 特許庁
  • To reduce a number of labors for manufacture when a concrete board to which both of an irregular pattern and a coloration are applied by simultaneously carrying out forming the irregular pattern on a surface of the concrete board and application of a coating for giving a coloration, and to decrease a manufacturing cost.
    コンクリート板の表面に対する凹凸模様の形成と、色彩を付するための塗料の塗装とを同時に行なうことにより、凹凸模様と色彩の双方を付したコンクリート板を製造する際における製造工数の削減と、製造コストの低減を図る。 - 特許庁
  • For example, when a fabric feeding number of times in a spray interval 1 for a washing pattern 1 of a printing unit for a first color needs to be changed, the washing pattern 1 is selected in a display section 8a of the screen G1, and the printing unit for the first color is selected in a display section 8m.
    例えば、１色目の印刷ユニットの洗浄パターン１のスプレーインターバル１での布送り回を変更したい場合、画面Ｇ１の表示部８ａにおいて洗浄パターン１を選択し、表示部８ｍにおいて１色目の印刷ユニットを選択する。 - 特許庁
  • A value ▵Va corresponding to a candidate order is added to the validity of the character pattern contributing to the correct reading (S103), and when the validity to which the value ΔVa is added is smaller than an initial value V0 (S120), the validity of the character pattern is restored to the initial value V0 (S121).
    このうち、正読に寄与した文字パターンの有効度に対し、候補順位に応じた値ΔＶａを加算し（Ｓ１０３）、加算後の有効度が初期値Ｖ０よりも小さければ（Ｓ１２０）、当該文字パターンの有効度を初期値Ｖ０に復帰させる（Ｓ１２１）。 - 特許庁
  • To provide: a method of processing a base material for a nano-imprint mold, which is used for accurately detecting the surface position of the base material when drawing a pattern on a resist by means of an electron beam; and a method of manufacturing a nano-imprint mold having a highly accurate irregular pattern.
    電子線でレジストにパターンを描画する際に、基材の表面位置の検出を精度良く行なうためのナノインプリントモールド用基材の処理方法と、高精度の凹凸パターンを備えたナノインプリントモールドを製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A photomask used for exposure for forming the semiconductor device may be manufactured such that a plurality pattern regions of semiconductor devices are formed and respectively different unique keys are provided for pattern regions of the respective semiconductor devices.
    なお、上記半導体装置を形成するための露光に用いるフォトマスクには、この半導体装置のパターン領域が複数形成され、それぞれの半導体装置のパターン領域に互いに異なる上記ユニークキーが設けられるようにして製造することもできる。 - 特許庁
  • Although they were put in this category because they had a different pattern of stops on the Osaka Loop Line than regional rapid trains, by a timetable revision made on March 15, 2008, trains with this stopping pattern came to be called 'rapid trains' once again (Kyuhoji was added as a stop for rapid trains in the past).
    大阪環状線直通の区間快速と停車パターンが違うのはこのことの名残であったが、2008年3月15日のダイヤ改正で同種の停車パターン（過去の快速に久宝寺を停車駅に加えたもの）の列車は再び「快速」を名乗ることとなった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A resin stamper for imprint has a fine uneven pattern on one surface, the uneven pattern is formed by cutting in a milling method or shaper method, and the resin is hydrocarbon resin, fluororesin or silicone resin.
    一方の表面に微細な凹凸パターンを有するインプリント用樹脂製スタンパであって、前記凹凸パターンがミーリング方式又はシェーパー方式で行われる切削加工により形成され、前記樹脂が、炭化水素系樹脂、フッ素系樹脂又はシリコーン系樹脂である。 - 特許庁
  • To improve the positioning and overlay of a pattern applied to a substrate by preventing a distortion in the pattern due to a thermal distortion generated in the substrate when the substrate is partially subjected to positioning and light exposure before the substrate is thermally stabilized.
    基板が熱的に安定化する前に基板の一部の位置合わせ及び露光を行う場合に生じ得る基板の熱的歪みに起因する基板に適用されるパターンのゆがみを防止でき、これにより、基板に適用されるパターンの位置合わせ及びオーバーレイを改善する。 - 特許庁
  • The method includes steps of providing a semiconductor substrate on which a gate electrode pattern is formed, implementing many-time simultaneous vapor deposition and etching processes to form an interlayer dielectric film made up of multilayer HDP oxidized films so as to embed the gate electrode pattern.
    ゲート電極パターンが形成された半導体基板を提供する段階と、多数回の同時蒸着及びエッチング工程を行い、前記ゲート電極パターンが埋め込まれるように多層のＨＤＰ酸化膜からなる層間絶縁膜を形成する段階とを含む。 - 特許庁
  • This ink jet recording head comprises a heating resistor for generating energy for ejecting ink and a detection wiring pattern which is provided adjacent to a wiring pattern of the heating resistor and detects a current flowing in the heating resistor.
    本発明のインクジェット記録ヘッドは、インクを吐出させるエネルギーを発生させる発熱抵抗体と、その発熱抵抗体に流れる電流を検出する前記発熱抵抗体の配線に隣接して配線された検出用配線とを有する構成である。 - 特許庁
  • A detection block determines whether the digital audio signal includes a predetermined frequency band, depending on whether the change pattern of the sampling data of the input digital audio signal matches a predetermined pattern, and the determined result is output to a switching section.
    一方、検出ブロックは、入力されるデジタルオーディオ信号のサンプリングデータの変化パターンが所定のパターンと一致するか否かにより、そのデジタルオーディオ信号が所定の周波数帯域を含むものであるか否か判定し、判定結果を切換え部に出力する。 - 特許庁
  • A comparison section 103 outputs a match signal s103a when a syndrome pattern matching the syndrome S101 exists in a syndrome table 102, and outputs a no-match signal S103b when no syndrome pattern matching the syndrome S101 exists.
    比較部１０３は、シンドロームテーブル１０２の中にシンドロームＳ１０１に一致するシンドロームパターンが存在する場合には一致信号Ｓ１０３ａを出力し、シンドロームＳ１０１に一致するシンドロームパターンが存在しない場合には不一致信号Ｓ１０３ｂを出力する。 - 特許庁
  • This conductor pattern-forming ink forms a conductor pattern on a base by the droplet-discharging method and comprises metal particles, an aqueous dispersion medium in which the metal particles are dispersed, and an alkanolamine.
    本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基材上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、金属粒子と、前記金属粒子が分散する水系分散媒と、アルカノールアミンとを含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • Since the leadframe 30 is provided near a lead pattern 31 and insert molding is performed by positioning the lead pattern 31 at an exact position to the second slide core 56, the three-dimensional electric wiring is easily performed at the exact position.
    リードフレーム３０はリードパターン３１の近傍に設けられているので、リードパターン３１を第２スライドコア５６に対して正確な位置に位置決めしてインサート成形することができるので、容易に正確な位置に３次元的な電気配線を行うことができる。 - 特許庁
  • To provide a shaded tatami facing having an uneven pattern formed on the surface and three-dimensional visual and tactile feelings and to provide a manufacturing method for the shaded tatami facing for maintaining the formed uneven pattern substantially permanently and easily applying printing to a recess part.
    表面に凹凸模様を形成した、視覚的にも触覚的にも、より立体的な畳表であって、形成された凹凸模様が半永久的に保持され、また、より簡易に凹部分に印刷できる陰影付き畳表及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • This system/method inputs the input image data rendered by the display system, applies a gamma table to the input image data, in order to create the first mediation image data, and applies a dithering pattern including a checker board pattern depending on a subpixel layout of a display.
    、ディスプレイシステムによってレンダリングされた、入力されたイメージデータを入力し、第１媒介イメージデータを生成するために、入力されたイメージデータにガンマテーブルを適用し、ディスプレイのサブピクセルレイアウトに依存するチェッカーボードパターンを含むディザリングパターンを適用する。 - 特許庁
  • In manufacturing a semiconductor device using the resist pattern 5 formed on a silicon substrate 1 as a mask, the resist pattern 5 is subjected to graphite treatment by means of catalytic effects of liquid metal in a liquid metal reservoir 6 (for example, gallium, indium or gallium-indium alloy).
    シリコン基板１上に形成されたレジストパターン５をマスクとして用いて半導体デバイスを製造する際に、レジストパターン５を液体金属溜め６内の液体金属（例えば、ガリウム、インジウム又はガリウムインジウム合金）の触媒効果を用いてグラファイト化処理する。 - 特許庁
  • The first diffraction gratings and the second diffraction gratings have each prescribed length and width, and are arrayed periodically at each prescribed interval, and marks 3 for specifying the pattern position are arranged on the peripheral parts of the pattern.
    前記第１の回折格子および前記第２の回折格子は、それぞれ所定の長さと幅を有し、それぞれ所定の間隔で周期的に配列されており、かつ、前記パターンの周辺部に前記パターンの位置を特定するためのマーク（３）が配置されている。 - 特許庁
  • A pattern is provided which includes one and only representative node variable having a first constraint that at most one node in the graph data matches the representative node variable and that the node is prohibited from matching a node variable in another pattern.
    パターンに１つ存在する代表ノード変数であって、当該代表ノード変数にマッチしたグラフデータのノードが高々１つで、かつ他のパターンのノード変数にマッチすることが禁止されるという第１の制約を有する代表ノード変数を含むパターンを提供される。 - 特許庁
  • When high-density achromatic pixels in a document image correspond to pixels constituting a prescribed trace pattern in the output image, a trace pattern addition part 34 outputs color image data of high-density blue pixels as color image data of the pixels.
    追跡パターン付加部３４は、原稿画像中の高濃度かつ無彩色の画素が出力画像中において所定の追跡パターンを構成する画素に対応する場合、その画素のカラー画像データとして、高濃度青色画素のカラー画像データを出力する。 - 特許庁
  • The semiconductor substrate manufacturing method comprises forming the SiGe film on the substrate having a silicon layer on its surface, forming a mask pattern having grating-shaped grooves on the SiGe film, injecting ions to the substrate through the mask pattern, and then performing heat processing.
    表面にシリコン層を有する基板上に、ＳｉＧｅ膜を形成し、該ＳｉＧｅ膜上に格子状の溝を有するマスクパターンを形成し、該マスクパターンをとおして基板にイオン注入し、熱処理を行う半導体基板の製造方法が提供される。 - 特許庁
  • The method for forming the pattern comprises the steps of developing a pattern-exposed resist film 11 with an alkaline developing liquid, obtained by dissolving a tetramethyl ammonium hydroxide (amine compound) in isopropyl alcohol (first alcohol), and then rinsing the film with a rinsing liquid made of isopropyl alcohol (second alcohol).
    パターン露光されたレジスト膜１１に対して、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（アミン化合物）がイソプロピルアルコール（第１のアルコール）に溶解してなるアルカリ性現像液により現像を行なった後、イソプロピルアルコール（第２のアルコール）よりなるリンス液によりリンスを行なう。 - 特許庁
  • The diffraction grating mask comprises a mask substrate made of an optically transparent material, a diffraction grating pattern formed on part of the mask substrate, and a light absorbing layer formed at at least part of the circumference of the diffraction grating pattern.
    本発明による回折格子マスクは、光学的に透明な材料より成るマスク基板と、前記マスク基板の一部に形成された回折格子パターンと、前記回折格子パターン周囲の少なくとも一部に形成された光吸収層より成る回折格子マスクである。 - 特許庁
  • The method of forming the fine pattern includes steps of: preparing a substrate; forming the protection layer on the photoresist pattern according to the above forming method; and etching the substrate using the protection layer and the photoresist patterns as etching masks.
    また、基板を準備する工程と、上記形成方法によりフォトレジストパターン用保護膜を形成する工程と、前記保護膜及び前記フォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて前記基板をエッチングする工程と、を含む微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
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