「pattern」を含む例文一覧(49965)
＜前へ 1 2 .... 964 965 966 967 968 969 970 971 972 .... 999 1000 次へ＞- To provide a technology for manufacturing a transfer master disk which enables highly accurate transfer to be performed even when higher definition of a transfer pattern is attained.
転写パターンのさらなる高精細化が進んでも高精度転写を実施可能な転写用原盤の製造技術を提供する。 - 特許庁 - To provide an optical disk manufacturing sheet wherein a void defect hardly takes place on a rugged pattern transposition face of a hardened stamper receptor layer.
硬化したスタンパー受容層の凹凸パターン転写面にボイド状の欠点が生じ難い光ディスク製造用シートを提供する。 - 特許庁 - The circuit board is provided with a metal pattern layer, a heat conductive board member, an electrical insulating layer, and at least one electrical insulating member.
回路板は、金属パターン層と、熱伝導板部材と、電気絶縁層と、少なくとも１つの電気絶縁材料とを備えている。 - 特許庁 - Using RF etching method, a barrier metal layer 120 is left only on a bottom face of a trench 108 and on a lower sidewall of an insulating film pattern.
RFエッチング方法でトレンチ１０８の底面と絶縁膜パターンの下部側壁にのみ障壁金属層１２０を残留させる。 - 特許庁 - To suppress generation of a false signal caused by a change in wiring capacity during operation depending on a pattern, thereby improving the display quality.
絵柄によって動作中の配線容量が変化することに起因する疑似信号の発生を抑圧し、表示品質を向上させる。 - 特許庁 - Furthermore, a voltage of, for example, 60 V is applied on the pattern of the transparent electrode of the region 4C to make the region 4C into a shading state.
また、領域４Ｃの透明電極のパターンに例えば６０Ｖの電圧を印加して領域４Ｃを遮光状態にする。 - 特許庁 - To provide an exposure method capable of reducing matching errors, even when multi-layer reticles are used so that pattern exposure precision is improved.
マルチレイヤーレチクルを用いた場合であっても露光ショットの合わせ誤差を小さくすることができ、パターン露光精度の向上をはかる。 - 特許庁 - Nextly, when a pattern extraction part 15 is started, the imaging picture photographed by the imaging part 14 is read from the storage device 13.
次に、パターン抽出部１５が起動されると、記憶装置１３からパターン撮像部１４で撮影されたパターン撮像画像を読み出す。 - 特許庁 - A transparent conductive film 14 having a sawtooth pattern is disposed on a polarizing plate 6 of a STN (super-twisted nematic) liquid crystal display panel 1.
ＳＴＮ液晶表示パネル１の偏光板６の上には、鋸歯形状を有する透明導電膜１４が設けられている。 - 特許庁 - The means 3 searches a road from the departure place to the destination based on the searching pattern data and the searching map data.
道路探索手段３は出発地から目的地に至る道路を、探索パターンデータ及び探索用地図データに基づいて探索する。 - 特許庁 - The pattern member 4 has a plurality of stripe members 5, arranged in parallel on the main surface on the one side of the transparent conductive film 3.
パターン部材４は、透明導電膜３の一方側の主面に並列に配置された複数本のストライプ部材５を有している。 - 特許庁 - In the data areas 17, a track pitch variation measuring pattern 13 is continuously formed from the inner periphery to the outer periphery of a track 11.
データエリア１７には、トラックピッチ変動測定用パターン１３がトラック１１の内周から外周まで連続的に形成されている。 - 特許庁 - Pattern distribution calculating means 4 generates the three-dimensional distribution of the patterns of the shape of the lip and the time change of the shape.
次に、パターン分布算出手段４は該唇の形状、及び該形状の時間的変化のパターンの３次元的な分布を生成する。 - 特許庁 - Identification numbers H1 to H5 are allocated to the respective voice emitting and collecting devices 1 on the basis of an arrangement pattern of the voice emitting and collecting devices 1.
放収音装置１の各々には、放収音装置１の配置パターンに基づいて、識別番号Ｈ１〜Ｈ５が割り当てられる。 - 特許庁 - In this case, color and/or a pattern of woody tune are applied on the surface of the display board 3 and on the surfaces of the covers 16, 17.
この場合、該表示板３の表面と該カバー１６，１７の表面には木質調の色彩および／または模様が施されている。 - 特許庁 - The characteristic pattern of a first die pad is recognized by moving a bonding camera to a position on data (the position indicated by a first virtual position data).
１番目のダイパッドの特徴パターンをデータ上の位置（第１仮位置データで示される位置）にボンディングカメラを移動して認識する。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR CORRECTING PROCESS PROXIMITY EFFECT, AND RECORDING MEDIUM STORING PATTERN CORRECTION PROGRAM FOR PROCESS PROXIMITY EFFECT
プロセス近接効果の補正方法、プロセス近接効果の補正装置及びプロセス近接効果のパターン補正プログラムを格納した記録媒体 - 特許庁 - A resonance pattern 15 having a symmetric shape with respect to a direction of the transmission line 14 is provided in the transmission line 14.
伝送線路１４には、当該伝送線路１４の方向に関して対称な形状を有する共振パターン１５が設けられる。 - 特許庁 - A component such as, for example, a resistor 11 is mounted on the pattern 1c so that the characteristic change is performed in a small area.
特性変更用パターン１ｃに変更用部品、例えば抵抗１１を実装することにより、小面積で特性変更が行える。 - 特許庁 - The second resist film 34 exposed to light by developing treatment is removed to form the second resist film 34 into a desired rewiring pattern.
現像処理により露光された第２のレジスト膜３４を除去して、第２のレジスト膜３４を所望の再配線パターンにパターニングする。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING OF MAGNETORESISTANCE EFFECT ELEMENT AND MAGNETIC HEAD USING METHOD, AND HEAD SUSPENSION ASSEMBLY AND MAGNETIC DISK UNIT
パターン形成方法、これを用いた磁気抵抗効果素子及び磁気ヘッドの製造方法、並びに、ヘッドサスペンションアセンブリ及び磁気ディスク装置 - 特許庁 - The method for manufacturing this printed circuit includes the steps of precipitating a copper 44 on a tin plated steel sheet 43 by substitute plating, and pattern forming a wiring circuit 47 on the copper 44.
錫めっき鋼板４３に置換めっきにより銅４４を析出させ、その上に配線回路４７をパターン形成する。 - 特許庁 - To prevent the undesired maximum value of intensity of light from being caused on the upper side of a light-shade boundary line of a light distribution pattern of a motor vehicle headlamp.
自動車ヘッドランプの配光パターンの明暗境界線より上で、望まれざる光強度最大値が生じるのを防止する。 - 特許庁 - Engine operation patterns in actual travels of a vehicle are detected a plurality of times and the most frequent engine operation pattern is determined.
車両が実際に走行したときの機関運転パターンを複数回検出し、頻度が最も高い機関運転パターンを決定する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a circuit arrangement capable of exposing the electric conduction pattern from coated resin with ease and sufficient accuracy.
被覆樹脂からの導電パターンの露出を容易かつ精度良く行うことが可能な回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses material elution in immersion exposure, and a method for forming a resist pattern.
浸漬露光時の物質溶出が抑制された液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A second wire 46 is disposed on the first surface 12 side and bonded to a second electrode 44 and a first wiring pattern 14.
第２のワイヤ４６が、第１の面１２側に配置されて第２の電極４４と第１の配線パターン１４にボンディングされている。 - 特許庁 - A first wire 36 is disposed on a second surface 16 side and bonded to a first electrode 34 and a second wiring pattern 18.
第１のワイヤ３６が、第２の面１６側に配置されて第１の電極３４と第２の配線パターン１８にボンディングされている。 - 特許庁 - To form a trench opening pattern with high precision by suppressing resist poisoning, when a dual-damascene interconnect lines are formed using Via first method.
ビアファースト方法を用いるデュアルダマシン配線の形成において、レジストポイズニングを抑制しトレンチ開口パターンを高精度に形成する。 - 特許庁 - A speed detection pattern 10-3 is added to the servo area 10 of a disk 12, and the speed of a head is detected at the frequency of a reproducing signal.
デイスク（１２）のサーボエリア（１０）に速度検出パターン（１０−３）を付与し、再生信号の周波数でヘッドの速度を検出する。 - 特許庁 - The puncturing or repeating circuit uses a deleting or repeating pattern to provide data words for transmission during respective frames of a transmission channel.
このパンクチャリング又は反復回路は、削除又は反復パターンを使って、伝送チャネルの各フレームにおける伝送用データワードを生成する。 - 特許庁 - To estimate an error pattern of a reception ADPCM code to correct the error at the time when a click noise is included in the reception code.
受信ＡＤＰＣＭ符号にクリックノイズが含まれているときに、受信符号の誤りパターンの推定を行い、誤り訂正を行う。 - 特許庁 - Furthermore, when the stop time ta exceeds 30 seconds (S136: Yes), the number U1 of special pattern start storage is erased (S138).
さらに、停止時間ｔａが３０秒以上になると（Ｓ１３６：Ｙｅｓ）、特別図柄始動記憶数Ｕ１を消去する（Ｓ１３８）。 - 特許庁 - To provide a method for producing embossed release paper in which a heat melting resin forming an embossed pattern is less sagged and which has a high shaping rate.
エンボスパターンを形成した熱溶融樹脂のだれが少なく賦型率の高いエンボス付き離型紙の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The cross arms 20 are secured on the top side of the three main column members 10a, 10b, 10c erected in a triangular pattern so that they are opposed to one another.
腕金部20は三角形状に立設配置された3本の主柱材10a、10b、10cの頂部側に、向かい合うように固設されている。 - 特許庁 - A keycode of the accompaniment pattern is converted in the pitch based on the shift data read from note conversion table memory and the fundamental note of the detected chord.
伴奏パターンのキーコードを、ノート変換テーブルメモリから読み出したシフトデータと検出和音の根音に基づいて音高変換する。 - 特許庁 - The controller 12 performs a follow-up control which makes a rotation angle of the lower thigh link 30 follow up the target pattern by a motor 26.
コントローラ１２は、モータ２６によって下腿リンク３０の回転角を目標パターンに追従させる追従制御を実行する。 - 特許庁 - To provide the manufacturing method of a tape carrier capable of easily and stably correcting warpage without damaging circuit pattern forming face.
簡易的にかつ回路パターン形成面を傷つけることなく安定に反りを矯正できるテープキャリアの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a resist pattern that can reduce the number of remaining foreign matters and to provide a method of manufacturing a semiconductor device using the method.
異物の残留が少ないレジストパターンの形成方法、およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The screen is constituted so that a light scattering layer 1 and a light shielding layer 2 consisting of a mixed pattern of a light transmitting layer 21 and a light shielding part 22 are provided.
光散乱層１、および光透過部２１と遮光部２２の混在パターンからなる遮光層２を有するように構成する。 - 特許庁 - To provide a lithography projection equipment including an assembly which determines the position of pattern forming means relative to projection system more accurately.
投影系に対するパターン形成手段の位置をより正確に決定するアセンブリを含むリソグラフィ投影装置を提供すること。 - 特許庁 - The light shielding material 40 is cured thereafter, and the release sheet 30 is removed to manufacture the optical sheet 1 provided with the light shielding pattern 20.
その後、遮光性材料４０を硬化し、離型シート３０を剥離して遮光性パターン２０を備えた光学シート１を製造する。 - 特許庁 - To form a flat filter surface by effectively preventing separation of a colored pattern film without lowering of sensitivity and uneven sensitivity.
感度ダウンや感度ムラ等を発生させることなく、着色パターン膜の剥離等を有効に防止して平坦なフィルタ面を形成する。 - 特許庁 - To provide a method and apparatus for manufacturing a color filter capable of forming a transfer pattern with high fineness and high quality at a high speed.
転写パターンを高精細、高品質に且つ高速で形成することができるカラーフィルタの製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an efficient method of manufacturing a pattern forming body on which patterns different in characteristic are formed.
本発明は、特性の異なるパターンが形成されるパターン形成体の効率的な製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁 - To reduce film thickness after wet development by a relatively large value and to form a resist pattern free from development defects.
湿式現像後の膜減り量を比較的大きな値に保持して現像欠陥のないレジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - A resist film is patterned by the backside exposure, and an impurity ion is implanted in the active silicon layer 40 to form a source- drain region using the resist pattern as a mask.
次に、このレジストパターンをマスクとしてアクティブシリコン層４０に不純物イオンを注入し、ソース・ドレイン領域を形成する。 - 特許庁 - During reflow processing, the film thickness and/or the line width of a resist pattern is measured by means of a sensor 59 and the end point of reflow processing is detected.
リフロー処理の間、センサ５９によりレジストパターンの膜厚および／または線幅を測定し、リフロー処理の終点検出を行う。 - 特許庁 - To provide an operational amplifier from which a large output current can be obtained in spite of a low power supply voltage VDD and a small pattern area.
低い電源電圧ＶＤＤと小さなパターン面積で、大きな出力電流を得ることができる演算増幅器を提供する。 - 特許庁 - In addition, the pattern program creation support device may include a program editing part for displaying the converted address computing instruction to receive editing.
また、変換された前記アドレス演算命令を表示して、編集を受け付けるプログラム編集部をさらに備えるようにしてもよい。 - 特許庁
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