「pattern」を含む例文一覧(49965)

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  • To provide a projector type headlight capable of keeping an illuminance within a tolerance at a predetermined position on a light distribution pattern.
    配光パターン上の所定箇所における照度を許容範囲内に収めることのできるプロジェクタ型前照灯を提供する。 - 特許庁
  • By applying the amorphous multi-elements compound to the semiconductor pattern, driving characteristics of the thin film transistor are improved.
    非結晶質の多元系化合物を半導体パターンに適用することによって薄膜トランジスタの駆動特性を向上させることができる。 - 特許庁
  • A mask pattern is formed on a semiconductor film of a laminate board where a first film and the semiconductor film are formed in this order.
    第1の膜及び半導体膜がこの順番に形成された積層基板の前記半導体膜の上に、マスクパターンを形成する。 - 特許庁
  • Wire bonding is applied between predetermined positions of the semiconductor element and the conductive metal layer pattern, and they are sealed with a sealing material.
    半導体素子と導電性金属層パターンの所定位置の間にワイヤボンディングが施され、これらは封止材により封止されている。 - 特許庁
  • To provide an evaluation method of template images that evaluate template images in the determination of a template image used in pattern matching.
    本発明は、パターンマッチングに用いるテンプレート画像を決定する際に、テンプレート画像を評価する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • An image forming apparatus 100 detects magnetism from a magnetic pattern 201 arranged on a surface of a toner bottle 200 by a magnetic sensor 202.
    画像形成装置100では、トナーボトル200の表面に配置された磁気パターン201から磁気センサ202により磁気を検知する。 - 特許庁
  • The backup plate 520 includes a striking portion 522 which has a width narrower than the length of a conductor pattern and extends longer than the width.
    バックアッププレート520は、導線パターンの長さよりも狭い幅を有すると共に、その幅よりも長く延びた突当部522を有している。 - 特許庁
  • To stabilize a discharge pattern in which bath foam and hot water flowing in a larger amount than the foam is selectively discharged from a single spout.
    一つの吐出具から入浴用泡と泡より流量の多い湯水を選択的に吐出させる吐出パターンを安定させる。 - 特許庁
  • To sufficiently reduce impedance fluctuation, propagation delay time fluctuation, and insertion losses that arise when a current flows through a wiring pattern.
    配線パターンに電流が流れる際に生じるインピーダンス変動、伝搬遅延時間変動、及び挿入損失を十分に低減する。 - 特許庁
  • A relief pattern 1' is formed by exposing and developing the resin layer 1 (second resin layer), whereby the objective letterpress printing plate is obtained.
    次いで、樹脂層1(第2の樹脂層)を露光して現像することで凸パターン1’を形成することによって印刷用凸版を得る。 - 特許庁
  • By elongating the radiating pattern in a visible region, discontinuity at a visible region end in Fourier-transform is removed.
    可視領域の放射パターンを不可視領域まで伸長することで、フーリエ変換における可視領域端での不連続を除去する。 - 特許庁
  • To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory resolution, focus margin and exposure margin.
    優れた解像度、フォーカスマージン及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern processing paper which keeps a Japanese paper-like feeling and is excellent in slipping prevention, smoothness and printability.
    和紙調の風合いを保持しつつ、防滑性、平滑度及び印刷適性に優れた模様加工紙の提供を目的とするものである。 - 特許庁
  • The image of the chart pattern and an image of the reticle on the reticle plate 16 are magnified by a projection lens 17 to be imaged on a screen 18.
    レチクルプレート16上のチャートパターンの像及びレチクルの像は、投影レンズ17により拡大されてスクリーン18に写し出される。 - 特許庁
  • To provide a ground component mounting structure small in impedance of a ground line and high in degree of freedom of pattern wiring on a substrate.
    グランドラインのインピーダンスが小さく、かつ、基板におけるパターン配線の自由度が高い接地部品実装構造を提供すること。 - 特許庁
  • The user intuitively knows the present rotational angle of the analyzer 15 from a change in the arrow pattern 411 in the angle display section 41.
    使用者は、角度表示部41での矢印図形411の変化から、検光子15の現在の回動角度を直感的に知る。 - 特許庁
  • The pseudo lock detection circuit detects the pseudo lock of the PLL circuit by detecting a pseudo lock pattern included in the sampled data.
    擬似ロック検出回路は、サンプルドデータに含まれる擬似ロックパターンを検出することによって、PLL回路の擬似ロックを検出する。 - 特許庁
  • To efficiently perform transfer in a transfer system which transfers a fine transfer pattern formed on a sheet-like mold to a molded article.
    シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムにおいて、転写を効率よく行う。 - 特許庁
  • The EUV mask having a multilayer film and an absorber pattern is placed on a mask stage, and the position of a reference mark is detected (step S101).
    多層膜と吸収体パターンとを有するEUVマスクをマスクステージに載置し、基準マークの位置を検出する(ステップS101)。 - 特許庁
  • The detection part detects a pixel included in a halftone pattern used for halftone processing and whose pixel value is within a predetermined range.
    検出部は、ハーフトーン処理で用いられるハーフトーンパターンに含まれる画素であって画素値が所定範囲内の値である画素を検出する。 - 特許庁
  • When a preamble pattern appears in a reception signal, an Acquisition circuit 22 constituting this receiver 1 detects reception of one frame.
    受信機1を構成するAcquisition回路22は、受信信号中にプリアンブルパターンが出現した場合に、一のフレームの受信を検出する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a semiconductor device which forms a UV-cure resin material wherein a satisfactory concave and convex pattern is transferred and hardened.
    良好な凹凸パターンが転写され硬化された紫外線硬化性樹脂材料を形成する半導体装置の製造方法。 - 特許庁
  • On a surface 62a of a template 62, a plurality of openings 65 are formed in positions corresponding to a predetermined pattern of a wafer W.
    テンプレート62の表面62aには、ウェハWの所定のパターンに対応する位置に開口部65が複数形成されている。 - 特許庁
  • To provide a program verification device which can show whether verification of conversion performed by using an instruction pattern is adequately achieved.
    命令パターンを用いて行われた変換の検証が十分にできたか否かを示すことが可能なプログラム検証装置を提供する。 - 特許庁
  • Symbols for each special performance comprising A1 to A4, B1 to B4 and C1 to C4 are shown on each video reel for the first reel pattern.
    第1リールパターンの各ビデオリールには、A1〜A4、B1〜B4及びC1〜C4からなる各特別演出のシンボルが記されている。 - 特許庁
  • To provide a way to perform point-to-multipoint transmission using an adaptive or directional antenna while reducing an antenna array pattern distortion.
    アンテナパターン歪みを低減させながら適応アンテナ又は指向性アンテナを用いてポイントツーマルチポイント送信を行う方法を提供する。 - 特許庁
  • This electrostatic sensor 12 is equalized in the resistance value of the electrode pattern 14 on the right-left of the center line 2 in the vehicle longitudinal direction.
    この静電センサ12は、車両前後方向の中心線2の左右で電極パターン14の抵抗値が同等とされている。 - 特許庁
  • To provide a foamed sheet to which a peculiar design colored in a specified pattern can be easily imparted and also, a method for manufacturing the foamed sheet.
    所定のパターンで着色された独特の意匠を容易に付与することができる気泡シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a droplet ejection head and a droplet ejection device which stably eject ink for forming conductor pattern.
    導体パターン形成用インクを安定して吐出することが可能な液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置を提供すること。 - 特許庁
  • The sub-block is divided into a plurality of retrieval units, and data of different pattern lengths can be stored in an entry of the divided sub-block.
    サブブロックは複数の検索単位に分割され、そのエントリには、互いにパターン長の異なるデータを記憶することが可能である。 - 特許庁
  • Thereafter, a treatment liquid at 3°C is supplied onto the substrate to lower surface tension of the rinse agent on the resist pattern of the substrate (step S5).
    その後、基板上に3℃の処理液を供給して、基板のレジストパターン上のリンス液の表面張力を低下させる(ステップS5)。 - 特許庁
  • To easily and accurately perform OPC even when a pattern formed on a substrate is a complicated two-dimensional shape having a corner part.
    基板上に形成するパターンが角部分を有する複雑な2次元形状である場合でも、OPCを容易且つ正確に行う。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method for a material having low transmittance for alignment light with high alignment accuracy in a fewer number of processes.
    高いアライメント精度、および少ない工程数でアライメント用の光の透過率が低い材料のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • Radiation is delivered to tissue via optical systems designed to pattern the radiation and project the radiation to a particular depth.
    放射は、光学系を介して組織へと送られ、光学系は、放射をパターン化し、特定の深さへと放出するように構成される。 - 特許庁
  • To provide a lighting system which is configured to reduced the cost and size, and which can form an illumination pattern in a form of an N-gon frame with high accuracy.
    低コスト、小型可能で、N角形の枠状の照射パターンを高精度に形成することが可能な照明装置を提供する。 - 特許庁
  • The peripheral region of the pattern is exposed and the identification mark is drawn by reciprocating the substrate (SW) to be exposed only once.
    そして、被露光基板(SW)が1往復のみ移動することで、パターンの周辺領域を露光するとともに識別記号を描画する。 - 特許庁
  • After the correction, photolithography processing and etching processing are carried out to form the predetermined pattern on the film to be processed on the wafer (steps S9, S10).
    補正後、フォトリソグラフィー処理とエッチング処理を行い、ウェハ上の被処理膜に所定のパターンを形成する(ステップS9、S10)。 - 特許庁
  • To prolong a period until wiring formed in outside of an input area is missing or disconnected due to the deterioration of a mask pattern.
    マスクパターンの劣化により、入力領域の外側に形成される配線が欠ける、あるいは、断線するまでの期間を長くする。 - 特許庁
  • Further, the allocated coded pattern of the slide turned to the object of deletion processing in the file of the application is not used for the print of the slide.
    さらに、アプリケーションのファイルにおいて、削除処理の対象となったスライドの割当コード化パターンを、スライドの印刷に使用しない。 - 特許庁
  • To suppress variations in the heat processing temperature between substrates and uniformize the line width of a wiring pattern between the substrates and within a surface of the substrate.
    基板間での熱処理温度のばらつきを抑制し、基板間並びに基板面内における配線パターンの線幅を均一化する。 - 特許庁
  • The contact part 12 of the contact 10 is thereby prevented from coming off the contact part (wiring pattern) on the FPC (or the FFC) 5.
    これにより、コンタクト10の接触部12がFPC(又はFFC)5上の接触部(配線パターン)から外れてしまうことはない。 - 特許庁
  • Then the control unit collates time-series change of the sound detected by the microphone with a sound pattern of a sound generated during the locking (S4).
    次に、制御部は、施錠時に生じる音の音声パターンと、マイクで検出される音の時系列変化とを照合する(S4)。 - 特許庁
  • To provide a technique capable of efficiently manufacturing a thermoplastic resin material wherein a minute pattern is formed on the surface in a thermal imprint method.
    表面に微細パターンが形成された熱可塑性樹脂材を熱インプリント法によって効率よく作製できる技術を提供する。 - 特許庁
  • Since the mask pattern is formed on the amorphous silicon film 21 having no level difference, an occurrence of falling caused by a stress difference can be suppressed.
    マスクパターンは、段差のない非晶質シリコン膜21上に形成されるので応力差に起因した倒れの発生を抑制できる。 - 特許庁
  • To provide a vehicle travel control system and a vehicle travel control method which improve accuracy of reproducing a travel pattern of a vehicle.
    車両の走行パターンを再現する精度が向上する車両走行制御システム、車両走行制御方法を提供すること。 - 特許庁
  • To suppress the degradation of image quality by replacing a bit plane, which is omitted by compressibility adjustment, with prepared pattern data.
    圧縮率調整によって切り捨てられるビットプレーンを予め用意したパターンデータに置き換えることにより、画質劣化を抑えること。 - 特許庁
  • The fluid may be directed to one or more of the stages in a sequencing pattern determined and configured to wash the compressor.
    コンプレッサの洗浄の決定と、構成された順次連続するパターンにおいて、流体をステージのうちの1以上に送ることができる。 - 特許庁
  • To provide a solid cosmetic having a delicate and clear convex-concave pattern formed on the surface thereof and a manufacturing method of the same.
    固形化粧料表面に繊細かつ明瞭な凹凸模様が形成された化粧料及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a pattern having excellent resolution and excellent line edge roughness by using a salt for a resist composition.
    本発明の塩をレジスト組成物に用いることにより、優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive conductive paste capable of forming a thin-film electrode pattern having superior specific resistance value and denseness.
    良好な比抵抗値と緻密性を有する薄膜の電極パターンを形成することが可能な感光性導電ペーストを提供する。 - 特許庁
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