「patterned up」を含む例文一覧(22)

  • The block pattern is arranged so that unit patterns UP patterned identically are repeated in the tire circumferential direction.
    ブロックパターンは、同じパターンを有するユニットパターンＵＰがタイヤ周方向に繰り返して配置される。 - 特許庁
  • Then, the second conductor film 32 is patterned, so as to form a second gate electrode provided with a pick-up part in a pick-up area R.
    その後、第２導体膜３２をパターニングすることにより、取り出し領域Ｒにおいて、取り出し部を備える第２ゲート電極を形成する。 - 特許庁
  • If the patterned photoresist layer has defects, such as gaps etc, the patterned photoresist layer is subjected to for instance an ink jet printing method for filling up the gaps.
    パターン化されたフォトレジスト層が間隙などのような欠陥を有する場合には、間隙を充填するためにパターン化されたフォトレジスト層に例えばインクジェット印刷方法が実行される。 - 特許庁
  • ARRANGEMENT-CONTROLLED PATTERNED SINGLE-LAYER INSULATING PARTICULATE FILM, INSULATING PARTICULATE BUILT UP FILM, AND FORMING METHOD THEREOF
    配置制御されたパターン状の単層絶縁性微粒子膜と絶縁性微粒子累積膜およびそれらの製造方法 - 特許庁
  • The hard mask material 2 is patterned in the form of thick film wiring 6, and the aluminum alloy film 3 is etched up to halfway as it is made a mask.
    ハードマスク材２を厚膜配線６の形にパターニングし、これをマスクとしてアルミ合金膜３を途中までエッチングする。 - 特許庁
  • This at least one first laser beam heats the patterned surface up to non-melting temperature T_nonmelt, which is within 400°C from melting temperature T_melt.
    この少なくとも一つの第１レーザービームは、溶融温度Ｔ_meltから４００℃以内にある非溶融温度Ｔ_nonmeltまでパターン付き表面を加熱する。 - 特許庁
  • While homongi (semi-ceremonial kimono) and tsukesage have patterns placed so that shoulder side is up, komon is patterned regardless of the direction.
    訪問着、付け下げ等が肩の方が上になるように模様付けされているのに対し、小紋は上下の方向に関係なく模様が入っている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a method for producing a decolored pattern of a denim cloth, without damaging the cloth, and capable of floating up the patterned part deep in dyed color even if the cloth is easily stretchable one, and a decolor-patterned denim product formed by the method.
    布地を傷つけず、例え伸びやすい布地であっても模様部を染色の色に濃く浮きだたせるデニム布地の脱色模様形成方法と、それにより形成した脱色模様デニム製品を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • Subpixel electrodes 20a are patterned in a matrix formation on a surface of a transistor array panel 50, and metal barrier ribs W are grown up between the subpixel electrodes 20a.
    トランジスタアレイパネル５０の表面にサブピクセル電極２０ａをマトリクス状にパターニングし、サブピクセル電極２０ａの間に金属隔壁Ｗを成長させる。 - 特許庁
  • The at least one second laser beam is a pulsed form and heats the patterned surface up to the melting temperature from the non-melting temperature prepared by the at least one first laser beam.
    少なくとも一つの第２レーザービームは、パルス状であり、かつ、少なくとも一つの第１レーザービームによって準備された非溶融温度から溶融温度までパターン付き表面を加熱する。 - 特許庁
  • The photograph vending machine accepts a selected result on the pattern and the coloring from the user 9 and controls a take-up device 25 so that the patterned curtain 24 and the colored curtain 24 are installed in a housing 3.
    そして写真自動販売機は、ユーザ９から、模様と色彩との選択を受付け、該当する模様のカーテン２４と色彩のカーテン２４とが筐体３内に設置されるように巻取装置２５を制御する。 - 特許庁
  • The automatic photograph vending machine accepts a selected result on the pattern and the coloring from the user 9 and controls a take-up device 25 so that the patterned curtain 24 and the colored curtain 24 are installed in a housing 3.
    そして写真自動販売機は、ユーザ９から、模様と色彩との選択を受付け、該当する模様のカーテン２４と色彩のカーテン２４とが筐体３内に設置されるように巻取装置２５を制御する。 - 特許庁
  • To provide a toasted laver sheet with patterned openings, capable of being widely applied to up-to-date cooking styles composing a food culture, by completely changing an orthodox image, which is brought about by conventional toasted laver sheets, as a food material, and capable of still more increasing cooking novelties in which the toasted laver is used.
    従来の焼き海苔の持つ、食材としてのオーソドックスなイメージを一新して、食文化である今風の料理に広く活用を求め、焼き海苔を利用したアイデア料理をいっそう推進する、焼き海苔（Ａ）を提供する。 - 特許庁
  • A mask 11 having an aperture part patterned equally to a pattern of a hole transport layer is arranged on a substrate 1 upper face, and from the upper face of the mask 11, a solution or a dispersion liquid of a material constituting the hole transport layer is sprayed and dried up for forming the hole transport layer.
    正孔輸送層のパターンと同一パターンの開口部を有するマスク１１を基板１上面に配置し、マスク１１上面より正孔輸送層を構成する材料の溶液または分散液を噴霧し、乾燥して前記正孔輸送層を形成する。 - 特許庁
  • The inside of the through hole 5 which is formed in a recessed type wherein the copper foil 3 is made to be a bottom is filled with filling resin 7, the copper foil 3 is so patterned that a region in the copper foil 3 is positioned immediately above the filling resin 7 remains, a surface side wiring layer 8 is formed, and a build-up layer BU is formed.
    次に、銅箔３を底部とする凹状に形成されたスルーホール５内に充填樹脂７を充填したのち、、銅箔３の充填樹脂７直上の領域が残留するように、銅箔３をパターニングして表面側配線層８として、ビルドアップ層ＢＵを形成する。 - 特許庁
  • By this method, the patterned composite resin molded object containing the substance having the refractive index different from that of the resin, different in the concentration and/or size of the substance in parts at every pattern and having the pattern in the direction right-angled to the extrusion direction so as to reach up to the depth direction is obtained.
    このような方法により、樹脂と屈折率の異なる物質を含み、模様毎の部分で該物質の濃度及び／又は大きさが異なると共に、押出方向に対して直角方向に模様があり、かつ該模様が深さ方向にまで及んでいる模様付複合樹脂成形体が得られる。 - 特許庁
  • In the curving mat, curving is formed on the surface of a mat by shrinking a tuft synthetic fiber in at least either one of boundary parts of a ground part and a patterned part, while shrinking a single fiber synthetic material napping up tuft synthetic fiber bundles made from the base cloth with a curving agent containing shrinkage chemicals.
    基布から立設されたタフト用合成繊維束を起毛した単繊維状の合成繊維を収縮薬剤を含んだカービング剤で収縮させることによりグランド部分と模様部分の少なくとも一方の境界部分のタフト合成繊維を収縮させてマットの表面部分にカービングを形成した。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive resin composition capable of ensuring adequate shape follow-up properties and peelability when a cured product layer is formed on a patterned surface resin layer of a circuit-formed substrate equipped with the surface resin layer, to provide a photosensitive element using the same, and to provide a method for manufacturing a printed wiring board using these.
    パターニングされた表面樹脂層を備える回路形成済基板の表面樹脂層上に硬化物層を形成させる際に、十分な形状追従性及びはく離性を得ることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びこれらを用いたプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Disclosed is a photomask comprising a patterned substrate, a pellicle membrane stretched in such a way that it confronts the surface of the substrate at a prescribed interval and a frame which holds the pellicle membrane and encloses the space between the pellicle membrane and the photomask substrate, wherein the frame has an opening and this opening is provided with a lid capable of blocking up the opening.
    パターンの形成された基板と、基板の表面に対向し、表面と所定の間隔をおいて張設されたペリクル膜と、ペリクル膜を保持し、ペリクル膜とフォトマスク基板との間を封じるフレームとを備えるフォトマスクにおいて、フレームには、開口を有し、開口には、前記開口を塞ぐことのできる、蓋部を備える。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of an array substrate for a liquid crystal displaying apparatus that can form a low molecular organic semiconductor material with very weak moisture resistance, without using a shadow mask, by a micro pattern that is adjustable up to several μm, and then utilizes the low molecular organic semiconductor material without damaging a micro patterned low molecular organic semiconductor layer.
    本発明は、水分に非常に弱い特性を有する低分子有機半導体物質をシャドーマスクを利用しないで数μｍまで調節可能な微細パターンで形成することができ、微細パターンされた低分子有機半導体層の損傷なしに低分子有機半導体物質を利用した液晶表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a patterned composite resin molded object having a pattern formed by a material itself, not losing a flat grain pattern even if a surface is abraded because the pattern is formed in the direction right-angled to an extrusion direction to reach up to a depth direction and imparting appearance near to that of natural wood, and a method for manufacturing the same.
    材料自体によって模様が形成されていると共に、押出方向に対して直角方向に模様があり、さらには該模様が深さ方向にまで及ぶため、表面が摩耗しても板目模様が消去せず、天然の木材に近い外観を与える模様付複合樹脂成形体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • By an imaging method using the lithography system, a desired pattern printed onto a substrate is decomposed into at least two constituting subpatterns that can be decomposed optically by the lithography system, and the piled-up body of two sacrifice hard masks is applied onto the substrate at the upper portion of a target layer patterned by a desired dense line pattern.
    リソグラフィ・システムを使用するイメージング方法は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィ・システムによって光学的に分解することが可能な少なくとも２つの構成サブパターンに分解すること、所望の密なライン・パターンでパターニングされる標的層の上部において、２つの犠牲ハード・マスクの積重体を基板にコーティングすることを含む。 - 特許庁

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