「permittivity」を含む例文一覧(1160)
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 23 24 次へ＞- PERMITTIVITY MEASURING METHOD
誘電率測定方法 - 特許庁 - HIGH RELATIVE PERMITTIVITY PREPREG
高比誘電率プリプレグ - 特許庁 - GLASS CLOTH HAVING LOW PERMITTIVITY
低誘電率ガラスクロス - 特許庁 - HIGH PERMITTIVITY GLASS FIBER
高誘電率ガラス繊維 - 特許庁 - LOW PERMITTIVITY FILLER, AND LOW PERMITTIVITY COMPOSITION AND LOW PERMITTIVITY FILM USING THIS
低誘電率フィラーと、これを用いた低誘電率組成物および低誘電率膜 - 特許庁 - HIGH-PERMITTIVITY RESIN COMPOSITION, HIGH-PERMITTIVITY RESIN FILM AND CAPACITOR
高誘電樹脂組成物、高誘電樹脂フィルムおよびコンデンサー - 特許庁 - FLAME RETARDANT HIGH-PERMITTIVITY RESIN COMPOSITION, FLAME RETARDANT HIGH-PERMITTIVITY PREPREG AND FLAME RETARDANT HIGH-PERMITTIVITY LAMINATED SHEET
難燃性高誘電率樹脂組成物、難燃性高誘電率プリプレグ及び難燃性高誘電率積層板 - 特許庁 - HIGH-PERMITTIVITY FLEXIBLE WIRING BOARD
高誘電率フレキシブル配線基板 - 特許庁 - EPOXY RESIN COMPOSITION HAVING LOW PERMITTIVITY
低誘電性エポキシ樹脂組成物 - 特許庁 - LOW PERMITTIVITY MATERIAL AND PROCESS
低比誘電率材料及びプロセス - 特許庁 - To suppress the change of a relative permittivity by ashing in a low permittivity film.
アッシングによる低誘電率膜の比誘電率の変化を抑制する。 - 特許庁 - RELATIVE PERMITTIVITY/CONDUCTIVITY MEASURING APPARATUS
比誘電率・導電率測定装置 - 特許庁 - DEVICE FOR MEASURING PERMITTIVITY NEAR ANTENNA
アンテナ近傍誘電率測定装置 - 特許庁 - SCANNING NONLINEAR PERMITTIVITY MICROSCOPE FOR MEASURING HIGHER ORDER NONLINEAR PERMITTIVITY
高次非線形誘電率を計測する走査型非線形誘電率顕微鏡 - 特許庁 - MEASURING METHOD FOR RELATIVE PERMITTIVITY OF CONCRETE
コンクリ—トの比誘電率測定方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING HIGH PERMITTIVITY THIN FILM
高誘電率薄膜の形成方法 - 特許庁 - FILM FORMATION METHOD OF HIGH-PERMITTIVITY MATERIAL
高誘電率材料の成膜方法 - 特許庁 - The low permittivity insulating material is of relative permittivity from 1.1 to below 3.0.
低誘電率絶縁材料の比誘電率が１．１から３．０未満までである。 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR MEASURING COMPLEX PERMITTIVITY
複素誘電率測定装置及び方法 - 特許庁 - ETCHING AGENT COMPOSITION FOR THIN FILM HAVING HIGH PERMITTIVITY
高誘電率薄膜エッチング剤組成物 - 特許庁 - HIGH-HEAT-RESISTANCE LOW-PERMITTIVITY THERMOSETTING RESIN
高耐熱低誘電率熱硬化性樹脂 - 特許庁 - COATING LIQUID FOR FORMING LOW PERMITTIVITY INSULATING FILM
低誘電率絶縁膜形成用塗布液 - 特許庁 - To manufacture multilayer films having a low permittivity.
比誘電率の低い多層膜を製造する。 - 特許庁 - The substrate characteristics include a permittivity and permeability.
基板特性は誘電率と透磁率を含む。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF LOW-PERMITTIVITY SILICON CARBIDE FILM
低誘電率炭化珪素膜の製造方法 - 特許庁 - CAPPING LAYER FOR EXTREME LOW PERMITTIVITY FILM
極限低誘電率膜のためのキャッピング層 - 特許庁 - To provide a low permittivity filler for forming a low permittivity film having an excellent permittivity characteristic, low surface roughness, a low thermal expansion coefficient, and high tearing strength, and a low permittivity composition and a low permittivity film using this.
誘電率特性に優れ、表面粗さおよび熱膨張係数が低く、破断強度が高い低誘電率膜を形成するための低誘電率フィラーと、これを用いた低誘電率組成物および低誘電率膜を提供する。 - 特許庁 - To provide a high permittivity insulation sheet with satisfactory flexibility, heat resistance and permittivity.
良好な可撓性、耐熱性、および誘電率を備えた高誘電率絶縁シートを提供する。 - 特許庁 - LOW-PERMITTIVITY CERAMIC DIELECTRIC COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE BURNING, AND LOW-PERMITTIVITY CERAMIC DIELECTRIC BODY
低温焼成用低誘電率セラミック誘電体組成物及び低誘電率セラミック誘電体 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FILM HAVING LOW PERMITTIVITY, FILM HAVING LOW PERMITTIVITY AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
低誘電率膜用組成物、低誘電率膜及びその製造方法、並びに、半導体装置 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH LOW-PERMITTIVITY SILICA FILM, AND METHOD FOR FORMING THE LOW-PERMITTIVITY SILICA FILM
低誘電率シリカ系被膜付半導体基板および低誘電率シリカ系被膜の形成方法 - 特許庁 - The semiconductor device provided has the film having low permittivity.
該低誘電率膜を有する半導体装置。 - 特許庁 - To provide a silicon oxide film which is reduced in permittivity.
低誘電率シリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁 - HIGH PERMITTIVITY EPOXY RESIN PASTE AND ELECTRONIC PART
高誘電率エポキシ樹脂ペーストおよび電子部品 - 特許庁 - LOW-PERMITTIVITY SIDEWALL SPACER
ノッチ・ゲート・プロセスを使用する低誘電率側壁スペーサ - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR OF NANOPARTICLE FILM WITH LOW PERMITTIVITY
誘電率が低いナノ粒子膜の製造方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING HIGH PERMITTIVITY INSULATING FILM
高誘電率絶縁膜を有する半導体装置 - 特許庁 - VERY LOW PERMITTIVITY PLASMA-ENHANCED CVD FILM
非常に低い誘電率プラズマ強化ＣＶＤ膜 - 特許庁 - COMPOSITION FOR FORMING HIGH PERMITTIVITY FILM, METHOD FOR FORMING THE SAME, HIGH PERMITTIVITY FILM AND ELECTRONIC PART EQUIPPED WITH HIGH PERMITTIVITY FILM
高誘電率被膜形成用組成物、該高誘電率被膜形成用組成物の製造方法、高誘電率被膜、および該高誘電率被膜を備えた電子部品 - 特許庁 - The relative permittivity ε3 of the solid component 120 is set on a relative permittivity ε2 of the case 102 or more, or on a relative permittivity ε1 of the substrate 110 or less.
この固形部材１２０の比誘電率ε３は、筐体１０２の比誘電率ε２以上、基体１１０の比誘電率ε１以下に設定される。 - 特許庁 - DRY-ETCHING METHOD OF LOW-PERMITTIVITY INTERLAYER INSULATING FILM
低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁 - After a high-permittivity insulating film is formed, the surface of the high-permittivity insulating film is subjected to a plasma treatment.
高誘電率絶縁膜の形成後に、この高誘電率絶縁膜の表面にプラズマ処理を施す。 - 特許庁 - In each unit structure, the positive permittivity part and negative permittivity part are arranged in the periodic direction.
単位構造の各々において正誘電率部及び負誘電率部が周期方向に配列される。 - 特許庁 - LOW-PERMITTIVITY MATERIAL FOR MANUFACTURE OF INTEGRATED CIRCUIT
集積回路製造のための低誘電率材料 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING LOW PERMITTIVITY INTERLAYER INSULATION FILM
低誘電率層間絶縁膜を形成する方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PERMITTIVITY
誘電率の測定方法及び誘電率測定装置 - 特許庁 - MODIFIER FOR LOW-PERMITTIVITY FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD
低誘電率膜の改質剤及び製造方法 - 特許庁 - (b) Permittivity ε of the composition is at least 1000.
（ｂ）その誘電率εが１０００以上である。 - 特許庁 - HIGH PERMITTIVITY INSULATION SHEET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
高誘電率絶縁シートおよびその製造方法 - 特許庁 - The substrate properties include permittivity and permeability.
基板特性は、誘電率及び透磁率を包含する。 - 特許庁
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