「phase diffraction grating」を含む例文一覧(127)
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回折格子作製用位相マスク - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING DIFFRACTION GRATING USING PHASE MASK FOR MANUFACTURING DIFFRACTION GRATING
回折格子作製用位相マスクを用いた回折格子作製方法 - 特許庁 - The first diffraction grating and the second diffraction grating match in phase with each other.
そして、これら第１回析格子と第２回析格子とは、位相が一致している。 - 特許庁 - PHASE DIFFRACTION GRATING TYPE OPTICAL LOW-PASS FILTER
位相回折格子型光低帯域通過フィルター - 特許庁 - CRYSTALLIZATION APPARATUS, CRYSTALLIZATION METHOD, DIFFRACTION GRATING PHASE SIFTER, AND REFLECTIVE DIFFRACTION GRATING PHASE SHIFTER
結晶化装置、結晶化方法、回折格子型の位相シフタおよび反射回折格子型の位相シフタ - 特許庁 - PHASE GRATING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT, AND OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT
位相格子マスク、光導波路型回折格子素子製造方法および光導波路型回折格子素子 - 特許庁 - To provide a diffraction grating mask applicable even to the transfer of a phase shifted diffraction grating pattern.
位相がシフトした回折格子パターンの転写にも適用可能な回折格子マスクを提供する。 - 特許庁 - PHASE MASK FOR FORMING DIFFRACTION GRATING, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR FORMING DIFFRACTION GRATING
回折格子形成用の位相マスクとその製造方法、および回折格子の形成用方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING DIFFRACTION GRATING AND PHASE MASK FOR MANUFACTURING FIBER GRATING
ファイバ・グレーティング製造用の回折格子および位相マスクの作成方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR X-RAY PHASE TYPE DIFFRACTION GRATING AND AMPLITUDE TYPE DIFFRACTION GRATING USED FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER
Ｘ線タルボ干渉計に用いられる位相型回折格子と振幅型回折格子の製造方法 - 特許庁 - PHASE GRATING MASK AND METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT
位相格子マスクならびに光導波路型回折格子素子製造方法および装置 - 特許庁 - PHASE MASK TO FORM BRAGG DIFFRACTION GRATING AND OPTICAL FIBER MANUFACTURED BY USING THE PHASE MASK
ブラッグ回折格子形成用位相マスク及びそれを用いて製造した光ファイバ - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE TYPE DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER
Ｘ線タルボ干渉計用位相型回折格子の製造方法 - 特許庁 - PHASE MASK FOR FORMING DIFFRACTION GRATING, OPTICAL FIBER AND OPTICAL WAVEGUIDE PROVIDED WITH DIFFRACTION GRATING DUPLICATED BY USING THE MASK
回折格子形成用位相マスク及びこのマスクを用いて複製した回折格子を備えた光ファイバー、光導波路 - 特許庁 - PHASE GRATING MASK, METHOD FOR FORMING DIFFRACTION GRATING, DIFFRACTION GRATING ELEMENT, MULTIPLEXER AND DEMULTIPLEXER MODULE, EXTERNAL RESONATOR TYPE LASER MODULE, AND WAVELENGTH DIVISION MULTIPLEXING TRANSMISSION SYSTEM
位相格子マスク、回折格子の形成方法、回折格子素子、合分波モジュール、外部共振器型レーザモジュール及び波長分割多重伝送システム。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a phase type diffraction grating and/or an amplitude type diffraction grating constituting an X-ray Talbot interferometer.
Ｘ線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び／又は振幅型回折格子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a phase type diffraction grating and an amplitude type diffraction grating constituting an X-ray Talbot interferometer.
Ｘ線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び振幅型回折格子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING X-RAY TALBOT DIFFRACTION GRATING, X-RAY TALBOT DIFFRACTION GRATING, X-RAY TALBOT INTERFEROMETERS AND X-RAY PHASE IMAGING APPARATUS
Ｘ線タルボ回折格子の製造方法、Ｘ線タルボ回折格子、Ｘ線タルボ干渉計及びＸ線位相イメージング装置 - 特許庁 - The diffraction grating 5 is provided with at least one set of phase shift unit 6.
回折格子５は、少なくとも１つの位相シフト部６を有している。 - 特許庁 - The diffraction optical element has the diffraction grating and at least one element part provided with a phase compensation part, made of a material A different from the material G of the grating part constituting the diffraction grating and causing a phase shift, at a tip part of the grating part.
回折格子と、該回折格子を構成する格子部の先端部に、該格子部の材料Ｇとは異なる材料Ａより成り、位相変化を生ずる位相補償部が設けられている素子部を少なくとも１つ有すること。 - 特許庁 - To provide manufacturing methods for an X-ray phase type diffraction grating and an X-ray amplitude type diffraction grating used for an X-ray Talbot interferometer.
Ｘ線タルボ干渉計に用いられるＸ線位相型回折格子及びＸ線振幅型回折格子の製造方法を提案する。 - 特許庁 - Further, an absorbing diffraction grating 10 is provided along an optical waveguide, and a phase shift structure 11 is provided on the diffraction grating.
さらに、光導波路に沿って吸収型の回折格子１０が設けられ、この回折格子に位相シフト領域１１を設けた構造とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for stably supplying a phase diffraction grating constituting an X-ray Talbot interferometer and an amplitude diffraction grating.
Ｘ線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び振幅型回折格子を安定的に供給可能な製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a shape evaluation method of a diffraction grating capable of evaluating with high accuracy the shape of the diffraction grating that has a phase shift part.
位相シフト部を有する回折格子の形状評価を高い精度でおこなうことができる回折格子の形状評価方法を提供する。 - 特許庁 - The diffraction grating is formed with a phase modulation pattern designed so that the diffraction lights in a plurality of wavelengths is separated at angles that each of the diffraction lights needs.
複数の波長における回折光が、各々必要とされる角度に分離するよう設計された位相変調パターンにて形成した。 - 特許庁 - The stray light interference fringe produced on a light receiving surface of the optical detector 17 by phase modulation operation of the diffraction grating 12 is subdivided by the diffraction operation by the diffraction grating 20.
回折格子１２の位相変調作用によって光検出器１７の受光面上に生じる迷光干渉縞は、回折素子２０による回折作用によって細分化される。 - 特許庁 - The phase grating 1 is equipped with a plurality of phase grating elements 1a-1c comprising a plurality of aligned diffraction gratings 9a-9c, wherein tilt angles of the diffraction gratings 9a-9c in the plurality of phase grating elements 1a-1c are different from one another.
複数の回折格子９ａ〜９ｃが配列された位相格子素子１ａ〜１ｃを複数備えてなる位相格子１であって、複数の位相格子素子１ａ〜１ｃは、回折格子９ａ〜９ｃの傾斜角度が互いに異なっている。 - 特許庁 - To provide a phase grating or the like used for X-ray phase imaging which makes it possible to narrow pitches by using a diffraction grating of a low aspect ratio.
アスペクト比の低い回折格子を用い、挟ピッチ化を図ることが可能となるＸ線位相イメージングに用いられる位相格子等を提供する。 - 特許庁 - DIFFRACTION GRATING FOR RECEIVING DIFFERENTIAL PHASE SHIFT MODULATION LIGHT, AND LIGHT RECEIVING DEVICE USING THE SAME
差動位相偏移変調光受光用回折格子及びそれを用いた光受信装置 - 特許庁 - PHASE-ADJUSTING MASK FOR ARRAY WAVEGUIDE-TYPE DIFFRACTION GRATING AND MANUFACTURING METHOD OF ARRAY WAVEGUIDE-TYPE DIFFRATION GRATING BY USE OF THE MASK
アレイ導波路型回折格子の位相調整用マスク及びそれを用いたアレイ導波路型回折格子の製造方法 - 特許庁 - Since the interference fringe changes on the phase shift part, in the shape evaluation method of the diffraction grating, the shape of the diffraction grating having the phase shift part can be evaluated with high accuracy.
この干渉縞は、位相シフト部において変化するため、この回折格子の形状評価方法においては、位相シフト部を有する回折格子の形状評価を高い精度でおこなうことができる。 - 特許庁 - A phase plate 3 is inserted into an optical path of monochromatic light extracted from a spectrograph 2 including the diffraction grating.
回折格子を含む分光器２から取り出された単色光の光路に位相板３を挿入する。 - 特許庁 - DOUBLE REFRACTION PERIODIC STRUCTURE, PHASE PLATE, DIFFRACTION GRATING TYPE POLARIZING BEAM SPLITTER AND THEIR MANUFACTURE
複屈折性周期構造体、位相板、回折格子型の偏光ビームスプリッタ及びそれらの作製方法 - 特許庁 - A specific diffraction grating is used which is divided into three regions in each of which grating grooves are provided periodically so that the phase of the grating grooves is successively shifted at every 90 degree.
本発明では、３分割され、その各領域において周期的に設けられた格子溝の位相を順次９０度ごとにずらせた特殊回折格子を用いる。 - 特許庁 - To prevent adhesion of organic decomposition products, dusts or the like on a grating face of a phase grating used in forming a diffraction grating in an optical fiber or a plane optical waveguide.
光ファイバ又は平面光導波路に回折格子を形成するに当たって使用する位相格子の格子面への有機分解物、塵埃等の付着を防止する。 - 特許庁 - At this time, the distribution of the irradiating quantity of the refractive index change inducing light to the phase grating 15 is set, so as to offset the distribution of diffraction efficiency of the phase grating 15.
このとき、位相格子１５に対する屈折率変化誘起光の照射量の分布は、位相格子１５の回折効率分布を相殺するよう設定される。 - 特許庁 - The phase shifter (1) comprises a group of reflection diffraction gratings (10) having a first grating pitch (p), and one reflection diffraction grating (11) that is formed in the group of reflection diffraction gratings to have a second grating pitch (p') different from the first grating pitch.
位相シフタ（１）は、第１の格子ピッチ（ｐ）を有する一群の反射型回折格子（１０）と、これらの一群の反射型回折格子の中に形成されて第１の格子ピッチと異なる第２の格子ピッチ（ｐ’）を有する１つの反射型回折格子（１１）とを備えている。 - 特許庁 - The phase type diffraction grating 11 is constituted to a thickness t1 of 1 to 5 μm and the amplitude type diffraction grating 12 is constituted to a thickness t2 of 25 to 100 μm.
位相型回折格子１１の厚みｔ１を１μｍ以上５μｍ以下に構成し、振幅型回折格子１２の厚みｔ２を２５μｍ以上１００μｍ以下に構成する。 - 特許庁 - To provide a method and a device, capable of manufacturing an optical waveguide type diffraction grating having desired characteristics, even if diffraction efficiency of a phase grating is ununiform within the surface.
位相格子の回折効率が面内において不均一であっても所望の特性を有する光導波路型回折格子を製造することができる方法および装置を提供する - 特許庁 - The diffraction grating 5 in the center-distributed feedback active region 102 has a phase shift 6 formed.
そして、中央分布帰還型活性領域１０２中の回折格子５には、位相シフト部６が形成されている。 - 特許庁 - The phase pattern is constituted by superposing the blazed grating pattern for optical diffraction and the phase pattern having the predetermined phase modulation distribution, and its phase modulation range is equal to or more than 2π.
この位相パターンは、光回折の為のブレーズドグレーティングパターンと、所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなり、位相変調範囲が２π以上である。 - 特許庁 - To properly position an area of interest of a test object within a narrow field-of-view range restricted by a size of a diffraction grating when capturing a phase-contrast image by using the diffraction grating.
回折格子を用いて位相コントラスト画像を撮影する際に、回折格子のサイズにより制限される狭い撮影視野範囲に被検体の関心領域を適切に収められるようにする。 - 特許庁 - The diffractive optical device has a first diffractive optical part 2 having a phase type diffraction grating 6 and a second diffractive optical part 3 having a phase type diffraction grating 7 made of a different material from that of the first diffraction optical part 2, and the surface of the second diffractive optical part 3 has a structure of minute recesses and projections which is smaller than the wavelength to be used.
位相型の回折格子６を備えた第１の回折光学部２と、第１の回折光学部２とは異なる材料より成る位相型の回折格子７を備えた第２の回折光学部３の表面に、使用波長より小さい微小凹凸構造を有する構成とする。 - 特許庁 - This is because the medium functions as a phase grating by characteristics as compressional waves of the supersonic waves (Raman-Nath diffraction).
これは、超音波の疎密波としての性質により、媒質が位相格子として機能したためである（ラマン・ナス回折）。 - 特許庁 - The inspection system (10) includes a light source (20), a diffraction grating (23), a phase shift unit, an imager (30), and a processor (11).
検査システム（１０）が、光源（２０）と、回折格子（２３）と、位相シフトユニットと、イメージャ（３０）と、プロセッサ（１１）とを備える。 - 特許庁 - To provide an optical pickup device in which adjustment of an assembling position of a phase shift diffraction grating having directivity is extremely easily performed.
方位性を有する位相シフト回折格子の組立位置調整が極めて容易な光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁 - The phase pattern is constituted by superposition of a blazed grating pattern for optical diffraction whose phase modulation range is equal to or less than 2π and a phase pattern having the predetermined phase modulation distribution whose phase modulation range is equal to or less than 2π.
この位相パターンは、位相変調範囲が２π以下である光回折の為のブレーズドグレーティングパターンと、位相変調範囲が２π以下である所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる。 - 特許庁 - This work is performed every time phase of the structured illumination is changed to determine the amount of phase change of the image for the step movement of a diffraction grating 3.
この作業を構造化照明の位相を変化させるたびに行い、回折格子３のステップ移動量に対する、画像の位相変化量を求める。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE MASK FOR PROCESSING OF OPTICAL FIBER AND OPTICAL FIBER WITH BRAGG DIFFRACTION GRATING MANUFACTURED BY USING THAT PHASE MASK FOR PROCESSING OF OPTICAL FIBER
光ファイバー加工用位相マスクの製造方法及びその光ファイバー加工用位相マスクを使用して作製されたブラッグ回折格子付き光ファイバー - 特許庁 - To obtain an optical element in which diffraction grating can be made in a short time and in which phase errors (spot deterioration) hardly occurs even when a cross-sectional shape is linearly machined in a diffraction face of the diffraction grating, and to obtain an optical scanner using the same.
短時間で回折格子を作製することができると共に、回折格子の回折面の断面形状を直線で加工しても位相誤差（スポット劣化）の発生が少ない光学素子及びそれを用いた光走査装置を得ること。 - 特許庁
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