「photomask」を含む例文一覧(3421)
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フォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK MATERIAL AND PHOTOMASK
フォトマスク材料、及びフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK CASE
フォトマスクケース - 特許庁 - PHOTOMASK SUBSTRATE
フォトマスク基板 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK
フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、及びフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK
フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK
フォトマスクブランク用基板、フォトマスクブランク及びフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK, GLASS SUBSTRATE FOR PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK
フォトマスクブランク、フォトマスクブランク用ガラス基板及びフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK AND METHOD OF SELECTING PHOTOMASK BLANK
フォトマスクブランク、フォトマスク及びフォトマスクブランクの選定方法 - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK
フォトマスクブランクおよびフォトマスク並びにフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK AND MANUFACTURE APPARATUS OF PHOTOMASK
フォトマスク、フォトマスクの製造方法、およびフォトマスクの製造装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, APPARATUS FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND PHOTOMASK
フォトマスクの製造方法、フォトマスクの製造装置およびフォトマスク - 特許庁 - PELLICLE FOR PHOTOMASK
フォトマスク用ペリクル - 特許庁 - PHOTOMASK WITH PELLICLE
ペリクル付きフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK FOR EXPOSURE
露光用フォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK AND LENS
フォトマスク及びレンズ - 特許庁 - To reutilize a photomask.
ホトマスクを再利用する。 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR PHOTOMASK
フォトマスク用基板 - 特許庁 - STORAGE RACK FOR PHOTOMASK
フォトマスク用保管棚 - 特許庁 - PHOTOMASK INSPECTION SYSTEM
フォトマスク検査システム - 特許庁 - PHOTOMASK FILM
フォトマスクフィルム - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK
フォトマスクブランクス - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK
フォトマスクブランク - 特許庁 - PHOTOMASK STORAGE CONTAINER
フォトマスク収納容器 - 特許庁 - METHOD FOR MAKING PHOTOMASK
フォトマスク作成方法 - 特許庁 - PHOTOMASK DESIGN METHOD
フォトマスク設計方法 - 特許庁 - MANUFACTURE OF PHOTOMASK
フォトマスク作製方法 - 特許庁 - PHOTOMASK WASHING DEVICE
フォトマスク洗浄装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK
フォトマスク製造方法 - 特許庁 - PHOTOMASK INSPECTION METHOD
フォトマスク検査方法 - 特許庁 - MULTI-LEVEL GRADATION PHOTOMASK
多階調フォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK CORRECTION METHOD
フォトマスク修正方法 - 特許庁 - REFLECTIVE PHOTOMASK
反射型フォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK SEPARATION METHOD
フォトマスク剥離方法 - 特許庁 - SYNTHETIC QUARTZ GLASS-MADE PHOTOMASK SUBSTRATE AND PHOTOMASK
合成石英ガラス製フォトマスク基板およびフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK
フォトマスクブランク及びフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK
フォトマスクブランクス及びフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK AND PHOTOMASK BLANK
フォトマスクおよびフォトマスクブランクス - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK
フォトマスクブランクスおよびフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK
フォトマスクブランクおよびフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK
フォトマスクブランクス、及びフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK
フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - LOW REFLECTION TYPE PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK
低反射型フォトマスクブランクスおよびフォトマスク - 特許庁 - METHOD FOR DESIGNING PHOTOMASK, PHOTOMASK AND PROGRAM
フォトマスクの設計方法、フォトマスク及びプログラム - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PHOTOMASK
フォトマスクブランク、その製造方法及びフォトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK PRODUCING METHOD AND PHOTOMASK BLANK
フォトマスクの製造方法およびフォトマスクブランク - 特許庁 - PHOTOMASK AND EXPOSURE APPARATUS HAVING PHOTOMASK
フォトマスク及びフォトマスクを備えた露光装置 - 特許庁 - BLANK FOR PHOTOMASK AND PHOTOMASK
フォトマスク用ブランクス及びフォトマスク - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING PHOTOMASK, PHOTOMASK AND EXPOSURE METHOD
フォトマスクの作成法、フォトマスク、並びに露光方法 - 特許庁 - PHOTOMASK AND METHOD OF CORRECTING TRANSMISSIVITY OF PHOTOMASK
フォトマスク及びフォトマスクの透過率補正方法 - 特許庁
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