「point diffraction interferometer」を含む例文一覧(11)

  • POINT DIFFRACTION INTERFEROMETER
    点回折干渉計 - 特許庁
  • POINT DIFFRACTION INTERFEROMETER AND ALIGNER
    ポイントディフラクション干渉計及び露光装置 - 特許庁
  • PINHOLE MASK, MANUFACTURING METHOD OF PINHOLE MASK AND POINT DIFFRACTION INTERFEROMETER
    ピンホールマスク、ピンホールマスクの製造方法、及び点回折干渉計 - 特許庁
  • POINT DIFFRACTION INTERFEROMETER, AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME
    点回折干渉計、並びに、それを利用した露光装置及び方法 - 特許庁
  • POINT DIFFRACTION INTERFEROMETER, METHOD OF MAKING REFLECTOR, AND PROJECTING EXPOSURE DEVICE
    点回折干渉計、反射鏡の製造方法及び投影露光装置 - 特許庁
  • PINHOLE UNIT, POINT DIFFRACTION INTERFEROMETER, AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM
    ピンホールユニット、点回折干渉計、及び投影光学系の製造方法 - 特許庁
  • To reduce the intensity unevenness of the spherical waves formed by a pinhole used for a point diffraction interferometer or the like.
    点回折干渉計などに用いられるピンホールが生成する球面波の強度斑を低減する。 - 特許庁
  • To provide a point diffraction interferometer enabling development of relatively high-intensity radiation, utilization of an interferometer analysis, and also use of an extended source emitting spatially-incoherent radiation.
    比較的高強度の放射線の達成を可能にし、干渉計分析を利用可能にし、また空間的に非干渉性の放射線を放出する分散光源の使用も可能にする。 - 特許庁
  • To provide a point diffraction interferometer that measures the optical performance of an optical system to be inspected with high accuracy, by reducing errors with respect to the ideal spherical waves of an emitted wave front from a pinhole, and to provide an exposure apparatus and a method therefor which use the point diffraction interferometer and a manufacturing method of devices thereof.
    ピンホールからの射出波面の理想球面波に対する誤差を低減して、被検光学系の光学性能を高精度に測定することが可能な点回折干渉計、それを利用した露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁
  • HIGH-ORDER HARMONIC X-RAY GENERATING APPARATUS AND ITS GENERATING METHOD, AS WELL AS POINT-DIFFRACTION INTERFEROMETER USING HIGH-ORDER HARMONIC X-RAY
    高次高調波エックス線発生装置及びその発生方法、並びに高次高調波エックス線を利用したエックス線干渉計測装置 - 特許庁
  • To provide a point-diffraction interferometer capable of inspecting surface quality of an extreme ultraviolet lithography optical system using a high-order harmonic X-ray source with excellent coherence.
    干渉性が優秀な高次高調波エックス線光源を利用して超紫外線リソグラフィー用光学系の表面品質を検査できるエックス線干渉計測装置を提供する。 - 特許庁

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