「positive pattern」を含む例文一覧(1213)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 .... 24 25 次へ＞- To prevent residues from remaining in the pattern upper parts of a positive type photoresist at the time of development.
現像時にポジ型フォトレジストのパターン上部に残渣が残留しないようにすること。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、半導体装置及び電子デバイス - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR PRODUCING THICK FILM RESIST PATTERN
厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMERIC COMPOUND
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition having high sensitivity and improved edge roughness of a pattern.
高感度で、パターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - HIGH POLYMER AND POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - VISIBLE LIGHT SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME
ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁 - CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN
厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN FOR PRODUCTION OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY
ポジ型ホトレジスト組成物及び液晶表示素子製造用レジストパターンの形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
液晶表示素子製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE BASE MATERIAL, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND POSITIVE RESIST COMPOSITION
感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - HIGH MOLECULAR COMPOUND AND POSITIVE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern having an excellent shape.
形状に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive composition having high sensitivity and improved edge roughness of a pattern.
高感度で、パターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - HIGH MOLECULAR COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE RESIST MATERIAL
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING THIN FILM RESIST PATTERN FOR OBLIQUE IMPLANTATION PROCESS
ポジ型ホトレジスト組成物および傾斜インプランテーションプロセス用薄膜レジストパターンの形成方法 - 特許庁 - DEVELOPING SOLUTION FOR POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
ポジ型感光性樹脂組成物用現像液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a lift-off positive resist composition capable of forming a fine lift-off pattern.
微細なリフトオフ用パターンを形成できるリフトオフ用ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN AND POLYMERIZABLE COMPOUND, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型レジスト組成物、樹脂および重合性化合物、それを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, MULTILAYER RESIST MATERIAL USING THE SAME AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ポジ型レジスト組成物、それを用いた多層レジスト材料及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE VISIBLE LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME
ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型感光性組成物、それに用いる化合物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN FORMING METHOD AND ACID DECOMPOSABLE KETOESTER COMPOUND
ポジ型化学増幅レジスト材料、パターン形成方法及び酸分解性ケトエステル化合物 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW, RESIST PATTERN FORMING METHOD, HIGH MOLECULAR COMPOUND AND POSITIVE RESIST COMPOSITION USING THE HIGH MOLECULAR COMPOUND
サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition which gives an insulating film having little deformation of a pattern when the composition is thermally cured to form the pattern.
熱硬化してパターン形成する際にパターンの変形が少ない絶縁膜を与えるポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for an electron beam capable of forming a high-resolution resist pattern, and a resist pattern forming method.
高解像性のレジストパターンを形成できる電子線用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for forming a fine resist pattern in good shape and a resist pattern forming method.
微細なレジストパターンを良好な形状で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition capable of forming a high resolution resist pattern with good rectangularity and reduced LER, and to provide a pattern forming method using the positive resist composition.
矩形性が良好で、ＬＥＲが低減された、高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a high sensitivity photosensitive resin composition comprising a polyimide precursor, developable with an aqueous alkali solution and having positive pattern forming ability and to provide a new positive pattern forming method.
アルカリ水溶液にて現像が可能でポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体からなる高感度の感光性樹脂組成物と新規なポジ型パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which can be suitably used when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, excels in line edge roughness, and causes neither pattern collapse nor problem of development defects, and a pattern forming method using the same, and to further provide a positive resist composition excellent in pattern profile and exposure latitude and a pattern forming method using the same.
ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a polymeric compound useful for a positive resist composition, a positive resist composition including the polymeric compound, and a resist pattern-forming method using the positive resist composition.
ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMERIZABLE COMPOUND FOR USE IN PRODUCTION OF THE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される樹脂、該樹脂の製造に使用される重合性化合物及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMER COMPOUND USED FOR POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a polymeric compound useful for a positive resist composition, a positive resist composition including the polymeric compound, and a resist pattern forming method using the positive resist composition.
ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - In the process of forming a pattern with a design tool, a desired pattern to be formed on a photomask and a circular pattern in the size corresponding to a wafer diameter with reversed positive/negative images are prepared.
設計ツールでのパターン作成時に、フォトマスク上に形成したいパターンと、ウエハ径に相当する大きさの円形パターンをポジ・ネガ反転させたパターンを用意する。 - 特許庁 - The measurement pattern consists of a line pattern of which shape changes when the focus shifts to the positive side and a space pattern of which shape changes when the focus shifts to the negative side.
この測定パターンはフォーカスがプラス側にシフトしたときに形状が変化するラインパターンと、フォーカスがマイナス側にシフトしたときに形状が変化するスペースパターンからなる。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition having preferable resolution even for a contact hole pattern and a trench pattern and low dependence on the pattern density in the manufacture of semiconductor devices.
半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターンやトレンチパターンについても良好な解像性を有し、疎密依存性も小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - Among those, the black matrix pattern layer has a low reflection factor, and the black matrix pattern layer is equipped with a first matrix pattern mutually corresponding to the insulating region, or is also equipped with a second matrix pattern corresponding to the positive electrode pattern layer.
そのうち、該ブラックマトリクスパターン層は低反射率を有し、且つ該ブラックマトリクスパターン層は該絶縁領域と相互に対応する第１マトリクスパターンを具えるか、或いは更に陽極パターン層と対応する第２マトリクスパターンを具えている。 - 特許庁 - Since a pattern of the graphite 53 and a pattern or the like imprinted on the metal mold have a positive- negative relation, the pattern or the like of the positive can be reproduced as it is on a surface of the synthetic resin container 1 molded by the metal mold.
グラファイト（５３）の文様と金型に刻まれる文様等とは陽画と陰画の関係が成り立つので、この金型によって成形された合成樹脂製容器（１）の表面に陽画の文様等がそのまま再現される。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING POSITIVE RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE COMPOSITION
ポジ型感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた感光性エレメント、ポジ型レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁 - To obtain a new polymer compound and a positive type resist composition and to provide a method for forming a resist pattern using the positive type resist composition.
新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING NOVEL SULFONIUM COMPOUND, PATTERN-FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND NOVEL SULFONIUM COMPOUND
新規なスルホニウム化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び新規なスルホニウム化合物 - 特許庁 - To obtain a new polymer compound and a positive-type resist composition and to provide a method for forming a resist pattern using the positive-type resist composition.
新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified positive resist composition that gives a pattern with an excellent exposure margin.
露光マージンに優れるパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD USING THE COMPOSITION AND RESIN USED IN THE COMPOSITION
ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂 - 特許庁 - RESIN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION EMPLOYING IT, AND PATTERN FORMING METHOD
樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
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