「processing flow」を含む例文一覧(1774)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 .... 35 36 次へ＞- When a semiconductor manufacturing device 2 starts processing a semiconductor wafer, an abnormality detection processing module 6 obtains a chemical flow rate average value, a chemical flow rate maximum value, a chemical flow rate minimum value, and device log information in processing of the semiconductor wafer from a manufacturing management system 4, and determines whether the chemical flow rate average value of the semiconductor manufacturing device 2 is abnormal or not.
半導体製造装置２による半導体ウエハの処理が開始すると、異常検知処理部６は、半導体ウエハの処理時における薬液流量平均値、薬液流量最大値、薬液流量最小値、および装置ログ情報を製造管理システム４から取得し、該半導体製造装置２の薬液流量平均値に異常があるか否かを判定する。 - 特許庁 - An information processor which executes a processing task according to a job flow which defines the order of execution of a plurality of processing tasks, acquires attribute information indicating restriction about a process to be executed by the processing task which is set up about processing target data to be handled by the processing task for each processing task included in the job flow for which execution is indicated.
複数の処理タスクの実行順を定義したジョブフローに従って処理タスクを実行する情報処理装置は、実行が指示されたジョブフローに含まれている処理タスクの各々について、処理タスクが扱う処理対象データに関して設定されている、当該処理タスクによって実行される処理に関する制限を示す属性情報を取得する。 - 特許庁 - To provide a control program, an information processing apparatus and a work flow management system, which can facilitate identification of attachment documents for a processing object carried out by an execution subject of an activity according to the progress of a work flow.
ワークフローの進捗に応じた、アクティビティの実行主体による処理対象の添付文書の特定を容易化することが可能な制御プログラム、情報処理装置及びワークフロー管理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus that sequentially performs plasma processing on substrates while transporting many setters carrying the substrates by arranging the setters in a row and can relieve the influence of another gas flow, such as sucked air etc., exerted upon the blown-off flow of a process gas.
多数のセッタを一列に並べて搬送しながら順次プラズマ処理する装置であって、処理ガスの吹出し流が、吸気等の他のガス流の影響を受けるのを緩和できる装置を提供する。 - 特許庁 - In this processing device, when process gas is supplied into a chamber 30 at a prescribed flow rate and a wafer W is processes in the chamber 30, the flow rate of the process gas is diagnosed at every processing time of the wafer W by the process gas.
本発明の処理方法は、チャンバー３０内にプロセスガスを所定流量で供給し、チャンバー３０内でウエハＷを処理する際、プロセスガスでウエハＷを処理する度毎にプロセスガスの流量を診断する。 - 特許庁 - Since the data needing no update are held in the holding system 77, the processing of the preprocessing data flow 78 can be progressed without stopping even if the data flow 76 is the indefinite frequency loop, and the processing time can be shortened.
保持システム７７で更新不要なデータを保持するので、データフロー７６が不定回数ループであっても、前処理のデータフロー７８の処理を止めずに進めることが可能となり、処理時間を短縮できる。 - 特許庁 - To provide a mass flow rate controller which can fulfil ideal response characteristics having advantages of both analog processing an digital processing.
アナログ処理の利点とデジタル処理の利点とを併せ持った理想的な応答性を発揮することができる質量流量制御装置を提供する。 - 特許庁 - To provide substrate processing equipment in which the flow rate of processing liquid delivered to a substrate can be measured accurately, and the substrate can be processed appropriately.
基板に吐出される処理液の流量を正確に計測することができ、基板に適切な処理を施すことのできる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - More specifically, the image processing apparatus can execute five parallel processing modes of "fastest flow", "high-speed trigger", "2-line random", "non-stop adjustment" and "high-speed logging".
より具体的には、画像処理装置は、「最速フロー」、「高速トリガ」、「２ラインランダム」、「ノンストップ調整」、「高速ロギング」の５つの並列処理モードを実行可能である。 - 特許庁 - Then, the one-stop flow control system 30 instructs all application processing systems 20-A and B corresponding to the specified application destinations to perform the application processing.
そして、ワンストップフロー制御システム３０は、特定した申請先に対応する全ての申請処理システム２０−Ａ，Ｂに申請処理の実行を指示する。 - 特許庁 - The automatic work flow server 1 controls in the each processing whether the processing is conducted certainly or only when a prescribed condition is satisfied.
また、自動ワークフローサーバ１は、必ず処理を進めさせるのか、あるいは所定の条件を満たしたときにのみ処理を進めさせるのかを処理毎に管理する。 - 特許庁 - For the purpose, the flow of the entire business processes is sectioned by every event and processing codes according to results of each processing (process) are allocated in this invention.
そのために、本発明は、全体の事務プロセスの流れをそれぞれのイベント毎に区切り、各処理（プロセス）の結果に応じた処理コードを割り当てる。 - 特許庁 - Nozzle holes on the nozzle plate are formed by a processing step including at least press processing from a surface where the flow channel forming member is jointed on the nozzle plate.
ノズル板のノズル孔が、ノズル板における流路形成部材を接合させる面からのプレス加工を少なくとも含む加工工程により形成される。 - 特許庁 - The manager 130 calculates and displays processing time of each object constituting the processing flow and communication time between the objects by integrating the received performance data.
マネージャ１３０は、受信した性能データを集約して処理フローを構成する各オブジェクトの処理時間及びオブジェクト間の通信時間を算出し、表示する。 - 特許庁 - A flow rate adjusting valve 20 is provided upstream the processing unit 2 while a temperature sensor 21 is provided downstream the processing unit 2.
各個別供給管１１ごとに、処理ユニット２の上流側に流量調節弁２０を設け、処理ユニット２の下流側に温度センサ２１を設けている。 - 特許庁 - The processing parts 2-6 load and execute the programs of the processing of large load from a ROM in the data flow control part 9 corresponding to the reception of the control signal.
処理部２〜６では、制御信号の受信によりデータフロー制御部９内のＲＯＭから負荷が大きい処理のプログラムをロードして実行する。 - 特許庁 - To cope with varieties of processing liquid properties in a wide range of flow rate, and to improve a dispersing property of the processing liquids.
種々の処理液性状に対して広範囲な流量範囲で対応することができ、処理液の良好な分散性を得ることができるようにする。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus that allows a user to verify the execution result of a created cooperation processing flow, and to provide a control method for the apparatus.
作成された連携処理フローの実行結果をユーザに対して検証させることが可能な画像処理装置及びその制御方法を提供する - 特許庁 - To prevent generation of processing defect in a substrate due to an increase of leak flow rate of He gas in a processing device for carrying out dry etching and plasma CVD film deposition.
ドライエッチングやプラズマＣＶＤ膜堆積する処理装置において、Ｈｅガスのリーク流量増大による基板の処理不良が発生するのを防止する。 - 特許庁 - To provide high processing effect without increasing flow of process gas supplied to a discharge space of counter electrodes in remote-type plasma processing.
リモート方式のプラズマ処理において、対向電極の放電空間に供給する処理ガスの流量を多くしなくても高い処理効果が得られるようにする。 - 特許庁 - To construct a work flow system only by a database management system without using groupware and to perform not only sequential processing but parallel processing.
グループウエアを使わずに、データベース管理システムだけでワークフローシステムを構築できるようにし、かつ、順処理だけでなく、並列処理ができるようにすること。 - 特許庁 - A device processing organic matter to generate energy includes a reaction vessel water thermally processing the organic matter with water and generating flow out matter.
有機物質を処理してエネルギーを生成する装置は、水と共に有機物質を水熱的に処理し流出物を生成する反応容器を含む。 - 特許庁 - To prevent overload on a device and granulation of incineration ash to perform an efficient processing in carrying out a mixing/agitating processing of an incineration ash while making carbon dioxide flow through the incineration ash.
焼却灰に炭酸ガスを通気しながら混合攪拌処理するに当たり、装置への過負荷、焼却灰の造粒を防止して、効率的な処理を行う。 - 特許庁 - To realize mute processing to an invalid signal input and that to a decode disable data by a simple circuit configuration and through exactly the same processing flow.
簡単な回路構成で、無効信号入力に対するミュート処理と、デコード不能データに対するミュート処理を全く同じ処理フローにより実現する。 - 特許庁 - To share processing flow definition information and perform processing different for each application program in a plurality of application programs executed by an application execution device.
アプリケーション実行装置が実行する複数のアプリケーションプログラムにおいて、処理フロー定義情報を共有し、かつ、アプリケーションプログラムごとに異なる処理を行う。 - 特許庁 - PACKET TRANSFER CONTROL METHOD, ROUTING CONTROLLER, FLOW PROCESSING CONTROLLER, TERMINAL MANAGEMENT APPARATUS, TRANSFER APPARATUS, PROCESSING SERVER APPARATUS, TERMINAL EQUIPMENT, AND PACKET TRANSFER SYSTEM
パケット転送制御方法、経路制御装置、フロー処理制御装置、端末管理装置、転送装置、処理サーバ装置、端末装置及びパケット転送システム - 特許庁 - Particles in the processing tank 10 are circulated, entrained by a flow of the processing solution together with the air bubbles and are removed with the air bubbles in the air bubble removal parts 61, 62.
処理槽１０内のパーティクルは、気泡とともに処理液の流れに乗って循環され、気泡除去部６１，６２において気泡とともに除去される。 - 特許庁 - Dew point measurement processing reads humidified gas mass flow rate Qwpv of a thermal type mass flowmeter 6, and calculates a humidified steam flow rate Qw, by subtracting the dry gas mass flow rate Qpv from the humidified gas mass flow rate Qwpv.
露点温度計測処理は熱式質量流量計６の加湿ガス質量流量Ｑｗｐｖを読み込み、加湿ガス質量流量Ｑｗｐｖから乾燥ガス質量流量Ｑｐｖを減算して加湿蒸量流量Ｑｗを算出する。 - 特許庁 - The plasma is generated from the processing gas with flow ratio of C_6F_6 gas to oxygen gas (oxygen gas flow/C_6F_6 gas flow: 2.8 to 3.3) using C_6F_6 gas, rare gas and oxygen gas for the plasma etching.
プラズマエッチングには、Ｃ_6Ｆ_6ガスと、希ガスと、酸素ガスとを含み、Ｃ_6Ｆ_6ガスに対する酸素ガスの流量比（酸素ガス流量／Ｃ_6Ｆ_6ガス流量）が２．８〜３．３の処理ガスを用い、この処理ガスからプラズマを生成する。 - 特許庁 - To reduce the restriction in accuracy in dimension in designing and processing, in a refrigerant flow divider provided with a refrigerant whirling passage from a refrigerant distributing chamber to a refrigerant flow dividing port, and to improve the flow dividing performance.
冷媒分配室から冷媒分流口に至る間に冷媒旋回通路を設けた冷媒分流器における設計、加工上の寸法精度の制約を小さくし、かつ分流性能の向上を図る。 - 特許庁 - To provide an extracorporeal circulation device which can use a centrifugal pump with a sufficiently large flow rate without being restricted by the maximum use flow rate of a blood processing device while maintaining a blood feeding flow rate in a desired range.
送血流量を所望の範囲に維持しながら、血液処理装置の最大使用流量で制限されることなく、遠心ポンプを十分に大きな流量で使用可能な体外循環装置を提供する。 - 特許庁 - A task flow table stipulating the timing of activating the plurality of the tasks for the respective tasks is stored in a task flow table storage part 11 and an activation processing part 13 activates the respective tasks according to the stored task flow table.
複数のタスクを起動するタイミングをタスクごとに規定したタスクフローテーブルをタスクフローテーブル記憶部１１に記憶しておき、起動処理部１３が記憶されたタスクフローテーブルにしたがって各タスクを起動する。 - 特許庁 - To provide a technique which keeps fairness among kinds of data flow and enhances the tolerance to instantaneous flow increase of data flow with respect to congestion control of a various input volume change type multi- stage common FIFO processing mechanism.
多種入力量変化型複数段共通ＦＩＦＯ処理機構の輻輳制御に係り、データ流の種類間の公平性を保ち、更にデータ流の瞬間的流量増大への耐性を増す技術に関する。 - 特許庁 - The control section 50 calculates the flow volume of the processed gas based on the processed result processing the semiconductor wafer W on the process condition and the gas film thickness-flow volume relational model, controls the flow adjustment portion 21-25, and processes the semiconductor wafer W while changing the flow volume of processed gas into the calculated flow volume of processed gas.
制御部５０は、プロセス条件で半導体ウエハＷを処理した処理結果と、膜厚流量関係モデルとに基づいて、処理ガスの流量を算出し、流量調整部２１〜２５を制御して、処理ガスの流量を算出した処理ガスの流量に変更して半導体ウエハＷを処理する。 - 特許庁 - Since the substrate processing system 40 for processing a substrate 12 is provided with a gas supply system requiring a short control time, before the flow rate is settled in place of a mass flow rate controller normally employed in gas supplying, substrate processing rate is enhanced.
被処理基板１２を処理する基板処理装置４０において、ガス供給の際に通常用いられる質量流量コントローラに換えて流量安定までの制御時間が短いガス供給系を具備することで、基板処理速度を向上させた。 - 特許庁 - Accordingly, the average processing can be performed by using all of the flow digital data in the flow measurement device 1, thereby improving accuracy of the average processing as compared with a case where the average processing is performed in an ECU 17 by taking data in the ECU 17.
これによれば、流量測定装置１内で、流量デジタルデータの全てを用いて平均化処理ができるため、ＥＣＵ１７に取り込んでＥＣＵ１７内で平均化処理する場合と比較して、平均化処理の精度を向上させることができる。 - 特許庁 - The quantity of circulating refrigerant is controlled by the flow control valve 20 according to the temperature of the refrigerant made to flow out of the condenser 2, that is the status processing capacity of the condenser 2.
この流量制御弁２０により、コンデンサ２から流出される冷媒温度、つまりコンデンサ２の現状処理能力に応じて、冷媒の循環量を制御する。 - 特許庁 - To overcome the problem that, when a liquid chamber is formed by press working on a flow channel plate by a narrow pitch, warpage or waving is generated on the flow channel plate, while the processing accuracy and the part accuracy are deteriorated.
流路板に狭小ピッチで液室をプレス加工で形成するときに流路板に反りやうねりが発生して加工精度や部品精度が低下する。 - 特許庁 - To provide: a flow deciding method that can simplify processing needed for flow decision using a template definition system; a communication device; and a program.
テンプレート定義方式を用いたフロー判定において、フロー判定に必要な処理を簡略化することが可能なフロー判定方法、通信装置およびプログラムを提供する。 - 特許庁 - An operation flow management part 11 starts a design server 14 according to the storage contents of an operation flow storage part 61 after the order processing ends to calculate a route.
オペレーションフロー管理部１１はオーダ処理が終了するとオペレーションフロー記憶部６１の記憶内容に基づいて設計サーバ１４を起動させ、ルートの計算を行う。 - 特許庁 - In a snow melting system, target circulation flow rate setting processing of antifreeze is executed so as to circulate the antifreeze at an optimum flow rate according to a change in an outside air temperature.
融雪装置では、外気温の変化に応じて最適な流量で不凍液を循環させるために、不凍液の目標循環流量設定処理が実行される。 - 特許庁 - To keep a gas flow to a substrate constant while controlling a current of a processing gas in a vacuum container by adjusting exhaust flow rates of a plurality of exhaust paths.
複数の排気路の排気流量を各々調整することにより、真空容器内における処理ガスの気流を制御して基板へのガス流れを一定に保つこと。 - 特許庁 - Correlation processing is operated between the read pictures and an already existing template is operated so that an optical flow can be detected, and the obstacle can be estimated from the flow vector and the already existing template (S30).
一方、読み込み画像と既存テンプレートとの間で相関処理を行ってオプティカルフローを検出し、そのフローベクトルと既存テンプレートとから障害物を推定する（S30）。 - 特許庁 - Thus, management based upon the flow of data and whether or not there is the access right for the processing is performed to strictly prevent information from leaking owing to the flow of the data.
このように、データの流れや処理に対するアクセス権の有無による管理を行うことによって、データの流れによる情報の漏洩を緻密に防止することができる。 - 特許庁 - When a concerned line receives an incoming call, the virtual process processing to be conducted next from a current flow state in the concerned line is discriminated from the flow definition.
そして、該当回線が着信中であれば、該当回線における現在のフロー状態から次に行うべき仮想プロセス処理をフロー定義から判定する。 - 特許庁 - The flow measuring processing part 20 acquires the temperature data through a LON network 10 and calculates accurate flow data by using the temperature data and the pressure data.
流量計測処理部２０は、ＬＯＮネットワーク１０を介して温度データを取得し、この温度データおよび圧力データを用いて正確な流量データを算出する。 - 特許庁 - In this slag flow-down state evaluation device 20, the solidification sound in dropping the flow-down slag 11 into the water is measured by an underwater camera 21, and its signal is processed by a signal processing circuit 30.
スラグ流下状態評価装置２０では、流下スラグ１１の水中落下凝固音が水中カメラ２１で計測され、信号処理回路３０で信号処理される。 - 特許庁 - Flow rate of N2 gas supplied to a chamber 2 is switched to a high flow rate, and wafers 100 held in a carrier 4 are introduced to a processing vessel 3 and are cleaned with deionized water.
チャンバ２内に供給するＮ_2 ガスの流量を高流量に切り替え、キャリア４に保持されたウエハ１００を処理槽３内に導入し、純水で洗浄する。 - 特許庁 - A business flow extraction means 13 generates flow information wherein the data set name of the data set updated by the data update processing are arranged in order of early update time.
業務フロー抽出手段１３は、データ更新処理によって更新されたデータ集合のデータ集合名を、更新時刻の早い順に並べたフロー情報を生成する。 - 特許庁 - In a processing part 4, an order difference calculation accumulating means 5 calculates order difference data by using traffic flow data from a sensor 3 and accumulates them in a traffic flow data base 10.
処理部４において、階差算出蓄積手段５は、感知器３からの交通流データを用いて階差データを算出し交通流データベース10に蓄積する。 - 特許庁
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