「processing liquid」を含む例文一覧(4296)

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  • Drying processing is required after applying a cloudiness preventing application liquid to the polystyrene resin sheet, and uses the drying method of two stages for performing heat treatment by an infrared heater in the first place, and performing drying processing by a hot air circulating drying method in the next place, and comprises infrared heater equipment required for these drying methods, and specific drying equipment of a hot air circulating drying furnace.
    ポリスチレン樹脂製シートに防曇性塗布液を塗布した後に必要な乾燥処理を、まず赤外線ヒーターによる加熱処理を行い、次に熱風循環乾燥法による乾燥処理する2段の乾燥方法を用いること、並びにこれらの乾燥方法に必要な赤外線ヒーター設備及び熱風循環乾燥炉の特定の乾燥設備を備えること。 - 特許庁
  • In the ink-jet recording sheet, which is manufactured through a re-wetting cast processing under the condition that at least one ink receiving layer is provided on a gas permeable support, its manufacturing is executed through the re-wetting cast processing under the condition that a re-wetting liquid containing polyolefine particles or silicone particles with a particle diameter of ≥3 μm but ≤22 μm.
    透気性の支持体上に少なくとも1層以上のインク受理層を設け、再湿法キャスト処理をして製造されてなるインクジェット記録シートにおいて、粒子径3μm以上22μm以下のポリオレフィン粒子またはシリコーン粒子を含有する再湿液を用いて再湿法キャスト処理を行って製造されることを特徴とするインクジェット記録シート。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing device and a substrate processing method which can suppress formation of a water mark in a surface of a substrate to be processed and corrosion of a copper interconnection exposed in a surface of the substrate to be processed when the substrate to be processed such as a semiconductor wafer is subjected to cleaning treatment by cleaning liquid containing hydrofluoro ether.
    半導体ウエハ等の被処理基板に対してハイドロフルオロエーテルを含む洗浄液により洗浄処理を行う際に、当該被処理基板の表面にウォーターマークが形成されたり、あるいは被処理基板の表面で露出している銅配線が腐蝕してしまったりすることを抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
  • The test kit shown in Figure 1, which is a test kit used for the lateral flow type membrane assay method, is equipped with a test container 1 for containing samples; a testing implement 4 for membrane assays which is used by inserting from an end side 4a into the test container 1; and an analyte processing vessel 14 containing analyte processing liquid 15 for preparing measuring sample by blending with analyte.
    図1に示される試験キットは、ラテラルフロー式メンブレンアッセイ法に用いられる試験キットであって、試料を収容するための試験容器1と、一端側4aから試験容器1に挿入されて用いられるメンブレンアッセイ用試験具4と、検体と混合することによって測定試料を調製するための検体処理液15を収容した検体処理容器14とを備える。 - 特許庁
  • To provide an economical waste water treatment method by which high concentration colored organic waste water containing at least one of dye and pigment is cleaned and decolored to be discharged to public water or to be recycled as recycled waste water while dispensing with the liquid waste processing commission to a waste-disposal vendor to reduce the quantity of the waste processing commission.
    染料または顔料の少なくともいずれか一方を含み着色している高濃度有機系排水について、廃棄物処理専門業者への液状廃棄物の処理委託をなくし廃棄物処理委託量を減少させ、公共用水域に放流または中水再利用ができるまで浄化し脱色する、経済的な排水処理方法を提供する。 - 特許庁
  • It is preferable to continuously supply to the front tank 12 electroanalyzed liquid prepared by electroanalyzing sea water containing at least an organic acid, and to continuously supply the acidic processing agent to the backside tank 13 followed by treating by soaking treatment or scattering treatment.
    前部処理槽12には、少なくとも有機酸を含有した海水を電気分解で調製した電気分解液を連続的に供給し、後部の処理槽13には、酸処理剤を連続的に供給して、浸漬処理又は散布処理で処理することが好ましい。 - 特許庁
  • In order to select the polarity of liquid crystal impression voltage for driving a spatial light modulation element 25r, the driving polarity selection circuit 23 generates a control signal A for a change-over switch (SW) 25c for switching a video signal processing circuit 25a and a polarity inversion circuit 25b.
    駆動極性選択回路23で、空間光変調素子25rを駆動する液晶印可電圧の極性を選択するために、映像信号処理回路25aと極性反転回路25bとの切り換えSW25cの制御信号Aを生成するようにする。 - 特許庁
  • To provide a coat application processor and a coat application processing method, whereby the film thickness of he coat film can be made uniform and the spattering of the coating liquid can be surely prevented from the start to the end, even when adopting a dynamic coat application method.
    塗布膜の膜厚を均一に形成することができ、ダイナミック塗布方式を採用する場合であっても、塗布開始時から終了時まで塗布液の飛散を確実に防止することができる塗布処理装置および塗布処理方法を提供すること。 - 特許庁
  • In the graphic display processing 2 conducted in a sub control circuit 82 based on the bonus ending command, a slump graph G4 for showing the current number of medals in terms of difference between the medals put in and those put out is so arranged as to be displayed in an enlarged scale over the whole of the liquid crystal display device 31.
    ボーナス終了コマンドに基づき副制御回路82で行われるグラフ表示処理2において、現在の差枚数の状況を表すスランプグラフG4を液晶表示装置31の全体に渡って拡大して表示するように構成する。 - 特許庁
  • A transparent electrode 3 of an ITO film is formed on a surface of a liquid crystal 4 side of a transparent substrate 1 made of a polyolefin resin and having a blaze shape (depth of blaze is approximately 3μm) of a concentric circle type on the surface, a polyimide film 2 is formed on the transparent electrode 3 and rubbing processing is performed.
    ポリオレフィン樹脂からなり表面に同心円状のブレーズ形状(ブレーズ深さ約3μm)を有する透明基板1の液晶4側の面にITO膜の透明電極3を形成し、その上にポリイミド膜2を形成しラビング処理した。 - 特許庁
  • Polishing is executed by allowing a slider bar 37 to travel on a sheet 30 formed of a foamed material by using a slurry composed of liquid which does not corrode the thin-film element and abrasive gains in the final stage of production of the slider bar subjected to height control processing and crowning.
    ハイト出し加工及びクラウン加工が施されたスライダバーの製造最終工程で、薄膜素子を腐食しない液体と砥粒とで構成されるスラリーを用い、発泡材料で形成されたシート30上で、スライダバー37を走行させてポリッシング加工を施す。 - 特許庁
  • When the pump 56 is driven and the switching valve 52 is closed, the gas in the chamber 10 and a processing liquid contained in the chamber 10 are discharged out of the substrate processor 1 via the exhaust port 15, the first exhaust tube 51 and the second exhaust tube 54.
    ポンプ56が駆動させられるとともに、切換弁52が閉鎖されると、チャンバ10内の気体およびチャンバ10内に含まれる処理液は、排出口15、第1排出管51、および第2排出管54を介して基板処理装置1外部に排出される。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a member with plasma resistance, which improves corrosion resistance to plasma, and can be suitably used for members such as a chamber, a chamber liner, a shower plate, a baffle plate, and an electrode, which are used for a dry processing apparatus for manufacturing a semiconductor or a liquid crystal.
    プラズマに対する耐食性の向上を図り、半導体または液晶製造のためのドライプラセス装置に用いられるチャンバー、チャンバーライナー、シャワープレート、バッフル板、電極等の部材に好適に用いることができる耐プラズマ性部材の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a liquid-cooled structure which is suitable for attaining size and thickness reductions while compensating necessary and satisfactory strength for an increase in heating value of a heating element accompanying with an improvement in processing performance of an electronic device, and to provide an electronic device endurable for a long-time use.
    電子装置の処理性能向上に伴う発熱素子の発熱量増大に対して、必要かつ十分な強度を補償する、小型化、薄型化に適した液冷構造を提供するとともに、長期間の使用に耐え得る電子装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a gelling agent capable of easily thickening and gelling a liquid organic material of an organic solvent or the like which is used in a processing field or the like of a paint, an ink, a lubricant, an electronic part, a machinery part, metal, an automobile, a pharmaceutical, an agricultural product, a fishery product, fiber, polymer, rubber, perfumery or the like.
    塗料、インク、潤滑油、電子、機械、金属、自動車、医薬品、農業、水産、繊維、高分子、ゴム、香料等の加工分野等で利用される有機溶剤類等の液体有機物を容易に増粘、ゲル化することができるゲル化剤を提供する。 - 特許庁
  • Washing, dyeing and a functional processing can be carried out by utilizing a specific coexisting effect for exhibiting an extremely high dissolving power only when a mixture of supercritical, critical or liquid carbon dioxide and a polar solvent such as ethanol, acetic acid, etc., is blended.
    超臨界、亜臨界または液体二酸化炭素とエタノールや酢酸などの極性溶媒の混合物が混合時のみに極めて大きな溶解力を示す特異的共存効果を利用することによって、洗浄、染色、機能性加工を可能にする。 - 特許庁
  • Aluminum sulfate electrolysis waste liquid discharged from an aluminum product processing plant is reused to manufacture water insoluble basic aluminum sulfate, and it is mixed and kneaded with the fly ash and the burned ash together with water without being mixed with other inorganic compounds or the like as a single product.
    アルミニウム製品加工工場より排出される硫酸アルミニウム電解廃液を再利用して、水不溶性塩基性硫酸アルミニウムを製造し、単一製品で他の無機化合物などと混合することなく、水と共に飛灰や焼却灰と混合混練する。 - 特許庁
  • When Li^+ and Na^+ existing in the vicinity of the surface of the glass substrate 11 are contained in the processing liquid 14, Li^+ and Na^+ is ionically exchanged for monovalent metal ions having larger ionic radius than that of Li^+ or Na^+, thereby the glass substrate 11 is chemically strengthened.
    そして、ガラス基板11中の表面近傍に存在するLi^+及びNa^+が、化学強化処理液14に含有され、Li^+又はNa^+よりもイオン半径の大きい一価の金属イオンにイオン交換され、ガラス基板11は化学強化処理される。 - 特許庁
  • To provide a measuring and displaying device for perm hairdressing time, etc., capable of accurately measuring various sorts of data including the applying quantity and time of a perm liquid agent, winding time, total time, etc., and stabilizing the performance of perm processing on the basis of the obtained data.
    パーマ液剤の塗布量及び塗布時間、巻き付け時間、総体時間等の各種データを正確に計測することができ、それらのデータに基き良好なパーマ加工を安定して施すのに役立つパーマ作業時間等の計測表示装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a Faraday rotor by using a magnetic garnet single crystal film grown by a liquid-phase epitaxial method, wherein the occurrence of cracks in the single crystal during growing and processing can be prevented.
    本発明は、液相エピタキシャル法により育成した磁性ガーネット単結晶膜を用いたファラデー回転子の製造方法に関し、育成時及び加工時の単結晶の割れの発生を抑制できるファラデー回転子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To release a dynamic pressure generated in a grinding liquid supplied to a contact face, enhance processing accuracy of a workpiece, and improve grinding efficiency by forming at least one inclined groove upward and downward through a contact face where a grinding wheel contacts a workpiece.
    少なくとも1本の傾斜溝を、砥石と工作物とが接触する接触面を上下に貫通させることにより、接触面に向けて供給された研削液に発生する動圧を開放し、工作物の加工精度を高めて研削能率を向上させる。 - 特許庁
  • To prevent a temperature of an oxidation catalyst from being lowered below an activation temperature due to liquid fuel supplied for S-poisoning recovery processing when the temperature of the oxidation catalyst carried by a NOx storage and reduction catalyst device is equal to or higher than the activation temperature and lower than a set temperature.
    NO_X吸蔵還元触媒装置に担持された酸化触媒の温度が活性温度以上設定温度未満である時に、S被毒回復処理のために供給された液状燃料によって酸化触媒の温度が活性温度未満となることを防止する。 - 特許庁
  • In the membrane separation device 14 which includes separation membranes 5 (membrane elements) immersed in a liquid to be treated in a processing tank 15 and an aeration means 2 for diffusing bubbles 6 for cleaning the separation membranes 5, a bubble entrapment plate 3 is provided between the aeration means 2 and the separation membranes 5.
    処理槽15内の被処理液中に浸漬される分離膜5と(膜エレメント)、分離膜5を洗浄するための気泡6を散気する散気手段2と、を備えた膜分離装置14において、散気手段2と分離膜5との間に気泡滞留板3を備える。 - 特許庁
  • A substrate is prepared wherein the surface of an embedded wiring formed inside an interlayer dielectric is selectively covered with a wiring protective film, the surface of the substrate is pre-cleaning by wet processing using a cleaning liquid, and then an insulation film is formed on the surface of the pre-cleaned substrate.
    層間絶縁膜の内部に形成した埋込み配線の表面を配線保護膜で選択的に覆った基板を用意し、洗浄液を用いたウェット処理で基板の表面を前洗浄し、前洗浄後の基板の表面に絶縁膜を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method for controlling development in an automatic developing device for a photosensitive lithographic printing plate that can minimize variation in liquid developer sensitivity with change of development processing conditions while making the constitution of a development section of the automatic developing device simple and low-cost.
    自動現像装置の現像部を簡易で安価な構成としながら、現像処理条件の変化に対する現像液感度の変動を最小限に抑えることができる、感光性平版印刷版用自動現像装置の現像制御方法を提供する。 - 特許庁
  • The processing apparatus using a rotating drum is provided with a transmission mechanism on a peripheral wall surface around the rotary axis of the rotating drum so as to transmit the driving power of a motor to the transmission mechanism to rotate the rotating drum in the treatment liquid tank.
    本発明では、上記した課題を解決するため、回転ドラムを用いた処理装置で、回転ドラムの回転軸周りの周壁面上に伝達機構を設け、該伝達機構にモータの駆動力を伝達して、回転ドラムを処理液槽内で回転させることとした。 - 特許庁
  • To provide a polishing tool capable of realizing efficient polishing by introducing polishing liquid and abrasive grains leaking in the direction perpendicular to the tool rotary direction by providing obstacles near a side face of a minimum spacing part as a processing area.
    加工領域部である最小隙間部の側面近傍に障害物を設けて工具回転方向と直交する方向に漏れていた研摩液及び砥粒を最小隙間部に導くことで、効率良く研磨することができる研磨工具を提供すること。 - 特許庁
  • The processing liquid discharge device further includes: a horizontal drive member for adjusting an interval between the injection nozzle and the suction nozzle; a lifting member for adjusting the level of a discharge port of the injection nozzle; and a pressure adjusting means for adjusting the injection pressure at the discharge port of the injection nozzle.
    更に、噴射ノズルとサクションノズルとの間隔を調節するための水平駆動部材や、噴射ノズルの吐出口の高さを調節するための昇降部材や、噴射ノズルの吐出口の噴射圧力を調節するためにの圧力調節手段を設ける。 - 特許庁
  • To provide a digital still camera which can realize reduction of power consumption and processing time required for exposure compensating process and focusing provided without deteriorating the quality of display image, during liquid-crystal display of images of subjects during the zooming drive.
    本発明の課題は、ズーム駆動中に被写体の撮像画像を液晶表示する際、表示画面の見栄えを悪くすることなく、露出補正処理、及びフォーカス処理に要する消費電力や処理時間の低減化が可能なデジタルスチルカメラを提供することである。 - 特許庁
  • To provide a thin phase difference film capable of improving display characteristics and display uniformity of a liquid crystal display device by making use of an oriented film of a polymer film demonstrating the small absolute value of a photoelastic coefficient, exhibiting reverse wavelength dispersion characteristics, and being superior in molding processing properties.
    光弾性係数の絶対値が小さく、且つ、逆波長分散特性を示し、成形加工性に優れる高分子フィルムの延伸フィルムを用いて、液晶表示装置の表示特性や表示均一性を改善し得る薄型の位相差フィルムを提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for processing a photographic material by an easy method which minimizes a discharged liquid and reliably removes oxidizable organic chemicals such as a color developing agent and peroxides which may alter an image with the lapse of time.
    液体排出物を最小限にすると同時に、発色現像主薬等の酸化性の有機薬剤、及び時間の経過と伴に画像を改変する場合がある過酸化物を確実に除去する簡単な方法で写真材料を処理する方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method capable of detecting optically and simply the existence of sample liquid in a measuring cell of an optical analyzer, while preventing enlargement of the measuring cell, complication of a structure of the measuring cell, or complication of processing on the measuring cell.
    測定セルが大型化したり、測定セルの構造が複雑になったり、測定セルの加工が煩雑になったりすることを防止しつつ、光学式分析計の測定セル内における試料液の有無を光学的に簡単に検知することができる方法を提供する。 - 特許庁
  • To well dry a substrate surface while preventing a watermark from occurring on the substrate surface in an apparatus and a method of processing the substrate for drying the substrate surface wetted with a process liquid by means of a solvent with low surface tension such as IPA.
    処理液で濡れた基板表面をIPAなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生するのを防止しながら基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁
  • To display a video signal with high image quality according to various characteristics of a display device by applying a video signal processor and a video signal processing method, for example, to the generation of the driving signal for a liquid crystal display panel.
    本発明は、映像信号処理装置及び映像信号の処理方法に関し、例えば液晶表示パネルの駆動用信号の生成に適用することで、ディスプレイ装置の種々の特性に応じて、高画質により映像信号を表示することができるようにする。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a liquid crystal polyester resin which by making a good dispersion form, suppresses bumping and the generation of foreign matter and exhibits excellent characterisitics at the time of the polymerization, at the time of the subsequent processing, and also at the time of the use.
    良好な分散形態を作り出すことによって、突沸や異物の生成を抑制し、かつ、重合時およびその後の加工時、また、使用時においても、優れた特性を発揮する液晶ポリエステル樹脂の製造方法を提供せんとするものである。 - 特許庁
  • The invention refers to the ink set which includes coloring agent, resin particles, water-soluble organic solvent, and ink composition containing water, a flocculant which makes composition in the ink composition cohere, and a processing liquid containing water-soluble polymer which does not cause cohesion of composition in ink composition.
    着色剤、樹脂粒子、水溶性有機溶剤、及び水を含むインク組成物と、インク組成物中の成分を凝集させる凝集剤、及びインク組成物中の成分の凝集を起こさない水溶性ポリマーを含む処理液と、を含むインクセットである。 - 特許庁
  • Wiring lengths between TFT sensors 31 of photosensors 3a and 3b disposed on a liquid crystal panel 1 and capacitors 32 are nearly equally formed and respective wiring lengths between the capacitors 32 and a signal processing part 4 are nearly equally formed.
    液晶パネル1に配置された光センサ3a、3bのTFTセンサ31及びコンデンサ32間のそれぞれの配線長さを略同一となるように形成し、且つ、コンデンサ32と信号処理部4との間のそれぞれの配線長さを略同一となるように形成する。 - 特許庁
  • The device is provided with a display processing part for performing waveform display by making the luminance change, by time-sharing waveform display of one screen portion with a frame unit, corresponding to the frequency of duplication of digital data after compression in each pixel of the liquid crystal monitor.
    本装置は、1画面分の波形表示を、液晶モニタの各画素における圧縮後のデジタルデータの重複頻度数に応じてフレーム単位で時分割して輝度を変化させて波形表示させる表示処理部を設けたことを特徴とするものである。 - 特許庁
  • Also the method for producing a planographic printing plate including at least a step to expose a photosensitive planographic printing plate equipped with a photosensitive layer on a hydrophilic support, and subsequently a developing step to process the photosensitive layer with the processing liquid for developing is provided.
    また、親水性支持体上に感光層を備える感光性平版印刷版を露光する工程と、その後、該感光層を上記現像用処理液で処理する現像工程とを少なくとも含んでなる平版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the postcard comprises: coating and drying the recording layer on one surface of the paper substrate of 170-300 g/m^2 basis weight; coating and drying a processing liquid, which is mainly composed of starch and contains polyvinyl alcohol and a surface sizing agent, on the other surface; and thereafter, cutting.
    坪料170〜300g/m^2の紙基材の片面に、記録層を塗工、乾燥した後、他面に澱粉を主成分とし、ポリビニルアルコール及び表面サイズ剤を含有する処理液を塗工し、乾燥した後、断裁する葉書の製造方法。 - 特許庁
  • After writing of the image information to the PC card 10 by the release operation, the image information by one or two or more frames is reproduced and displayed on an LCD(liquid crystal display device) 30 only for a prescribed setting time under time limit control by a CPU (central processing section).
    レリーズ操作によるPCカード10への画像情報の書込み後、CPU(中央処理部)21の限時制御によって所定の設定時間についてのみ、1フレームまたは2フレーム以上の該画像情報をLCD(液晶ディスプレイ)30に再生表示させる。 - 特許庁
  • A substantially anhydrous alkoxycarboxylate liquid precursor is prepared, which is spun on the first electrode after performing solvent exchange processing immediately before use, dried at 400°C, and annealed at the temperature between 600°C and 850°C to form a ferroelectric 22 for a BST capacitor.
    実質的に無水のアルコキシカルボキシレート液状先駆体を準備し、使用直前に溶媒交換工程を行った後に、先駆体を第1電極上にスピンオンし、400℃で乾燥し、600℃〜850℃でアニールしてBSTキャパシタ強誘電体22を形成する。 - 特許庁
  • To solve the problem that impurities may be eluted when being brought into contact with a liquid crystal layer, because heat resistance of a retardation control layer obtained by photopolymerization is deteriorated, due to high-temperature in the later processing or because chemical resistance or the like is insufficient.
    従来、光重合により得られる位相差制御層の耐熱性が後加工での高温で劣化したり、耐薬品性等が不充分であるために、液晶層と接触すると、不純物が溶出する恐れがあった点を解消することを課題とする。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing apparatus capable of preventing a process liquid from flowing around the surface of a substrate to be processed and of easily maintaining the product quality of the substrate, and to provide a highly reliable semiconductor substrate, a semiconductor component, and a semiconductor device.
    処理液の基板の非処理面への回り込みを防止することができ、基板の製造品質維持を容易にすることができる基板処置装置を提供すること、信頼性の高い半導体基板、半導体部品および半導体装置を提供することにある。 - 特許庁
  • A control unit 61 heats one part of the substrate W below the liquid level of HFE by a heating unit 55 when moving the substrate W in the HFE from a processing position to an upper position by a lower holding mechanism 29 and an upper holding mechanism 43.
    制御部61は、HFE中の基板Wを処理位置から上方位置へ下部保持機構29及び上部保持機構43により移動させる際に、HFEの液面よりも下方にある基板Wの一部位を加熱ユニット55により加熱する。 - 特許庁
  • The display controller 122 alternately inputs from a 3D image processing unit 110 an image from either a left eye frame or right eye frame to output it to a liquid crystal panel 131 per one line of a frame in synchronization with horizontal synchronization signals and vertical synchronization signals.
    表示コントローラ122は、3D映像処理部110から左目フレームまたは右目フレームの画像を交互に入力すると、水平同期信号及び垂直同期信号と同期を取りながらフレームの1ライン分毎に液晶パネル131に出力する。 - 特許庁
  • Vertical alignment processing of inside flanks of the pores is carried out and the level and frequency of the AC voltage applied between the electrodes are varied to switch the liquid crystal 35 to one of the two stable orientation states.
    そして、細孔の内側側面に垂直配向処理を施すと共に、電極間に印加される交流電圧の大きさ及び交流電圧の周波数を変化させることにより、液晶35を二つの安定な配向状態の何れか一方に切り換える。 - 特許庁
  • A second processing liquid 2 is prepared in another vessel 12 so as to contain 300-400 cc of the mixture of the absolute ethanol and isopropanol, not greater than 1 g each of an amino acid and citric acid and 5 wt.% of a titanium white (titanium dioxide).
    別の容器12には、無水エタノールおよびイソプロパノールの混合物300cc〜400ccに対して、アミノ酸、およびクエン酸をそれぞれ1g以下、チタニウムホワイト(二酸化チタン)を5重量%含有するように作成した第2の処理液2を用意する。 - 特許庁
  • The surface treatment agent is applied for the liquid crystal display element using the vertical alignment layer consisting of the oblique deposition film of the inorganic oxide, and hydroxyl groups of the surface of the oblique deposition film are subjected to chemical reaction processing with a steroid compound having a hydroxyl group.
    無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、ヒドロキシル基を有するステロイド化合物で化学反応処理されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • In a slot machine 1, when win is earned by an image acquisition lottery processing (S3), by the operation of a select operation part 210A (S22:YES), an image data representing the display aspect on a lower liquid crystal display 4 is stored into a memory area of an image data memory area 52A (S23).
    スロットマシン1では、画像取得抽選処理(S3)に当選し、選択操作部210Aを操作すると(S22:YES)、下部液晶ディスプレイ4の表示態様を示す画像データが画像データ記憶領域52Aの記憶領域に記憶される(S23)。 - 特許庁
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