「processing surface」を含む例文一覧(7705)

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  • To seal an opening of a panel type member having the opening formed without sticking a sealant on a surface of the panel type member during sealing processing for the opening.
    開口が形成されたパネル状部材の開口の封止処理において、パネル状部材の表面に封止材を付着させずにその開口を封止する。 - 特許庁
  • To provide a surface-coated cermet cutting tool with a hard coating layer exerting excellent chipping and abrasion resistance in high-speed intermittent cutting processing.
    硬質被覆層が高速断続切削加工ですぐれた耐チッピング性および耐摩耗性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。 - 特許庁
  • To effectively perform a pre-process of electroless plating and a subsequent rinse process (cleaning process) or the like while preventing re- contamination of the substrate processing surface.
    無電解めっきの前処理や、それに続くリンス処理(洗浄処理)等を、基板処理面の再汚染を防止しつつ、効率よく行うことができるようにする。 - 特許庁
  • The surface height of the object is determined by processing the light receiving intensity of each line beam using a background removal level of the light receiving intensity.
    物体表面の高さは、各ラインビームの受光強度が当該受光強度についての背景除去レベルを用いて処理されることにより求められる。 - 特許庁
  • To reduce the mounting space for a surface acoustic wave device, an impedance matching element and a signal processing device, and to ensure and facilitate an impedance matching among the devices.
    弾性表面波デバイスとインピーダンス整合素子および信号処理デバイスの実装スペースを削減でき、しかもデバイス間のインピーダンスマッチングを確実、容易にする。 - 特許庁
  • To provide a processing machine with a cleaning device that can securely remove dust etc., sticking on a hold surface of a chuck table holding a workpiece.
    被加工物を保持するチャックテーブルの保持面に付着している塵埃等を確実に除去することができる清掃装置を備えた加工機を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a GaN-based semiconductor substrate, which can improve productivity by sharply shortening time required for surface processing treatment.
    表面加工処理の所要時間を大幅に短縮化して生産性を向上できるGaN系半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Thereafter, a main transport robot transports the substrate W from the rear surface processing section to a first turn over unit 23 disposed above a second turn over unit.
    その後、メイン搬送ロボットにより裏面処理部から第2反転ユニットの上方に配置された第1反転ユニット23へ基板Wを搬送する。 - 特許庁
  • A cavity is formed between the electric wiring and the substrate at a part of the wiring in a length direction by removing a surface layer part of the substrate with wet processing.
    基板の表層部をウェット処理で除去することにより、配線の長さ方向の一部において、配線と基板との間に空洞を形成する。 - 特許庁
  • The feature point detection processing unit detects a feature point to constitute the shape of the object using the shape data and the virtual surface.
    特徴点検出処理ユニットは、前記形状データ及び前記仮想面を使用して、前記物体の形状を構成するための特徴点を検出する。 - 特許庁
  • To apply uniform plasma processing to the surface of a substrate by controlling the quantity of plasma and radical so as to uniformly supply the radical to a chamber.
    プラズマやラジカルの量を制御することによって、チャンバに均一にラジカルを供給して、基板表面に対する均一なプラズマ処理を可能とする。 - 特許庁
  • The movable micromirrors 1a to 1d each have a mirror surface 2 formed by processing a silicon substrate 30 and a core part 12 formed of a magnetic body.
    可動マイクロミラー1a〜1dは、シリコン基板30を加工することにより形成されたミラー面2と、磁性体から形成されたコア部12とを有している。 - 特許庁
  • (b) Data pertaining to processing by diffusion bonding of super alloys or titanium alloys, and to the surface treatment, deformation rate, temperature or pressure of processed materials
    ロ 超合金又はチタン合金の拡散接合による加工に係るものであって、加工材料の表面処理、温度又は圧力に係るもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • To correct magnification chromatic aberration caused by a scanning lens by a diffraction surface and to prevent diffraction efficiency from being lowered due to a processing error.
    走査レンズにより発生する倍率色収差を回折面により補正することができ、かつ、加工誤差による回折効率の低下を防ぐこと。 - 特許庁
  • METAL SURFACE PROCESSING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING MULTILAYER CIRCUIT SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR CHIP MOUNTING SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR PACKAGE AND SEMICONDUCTOR PACKAGE
    金属表面処理方法、多層回路基板の製造方法、半導体チップ搭載基板の製造方法、半導体パッケージの製造方法及び半導体パッケージ - 特許庁
  • A computer processing system detects etching depths formed in the surface of the wafer W based on spectrum signals outputted from the infrared spectroscope 5.
    この赤外分光器5が出力するスペクトル信号に基づき、コンピュータ処理システムは、ウエハWの表面に形成されたエッチング溝の深さを検出する。 - 特許庁
  • The nitrogen introduction layer 7 is formed by implanting ion on the entire surface of the substrate, and then by thermally processing the substrate 1 to activate nitrogen.
    窒素導入層7は、基板1の全面に窒素をイオン注入し、続いて基板1を熱処理して窒素を活性化することによって形成される。 - 特許庁
  • To provide a susceptor manufacturing method in which no deflection is generated in the susceptor after its surface is coated, and a substrate processing device using the susceptor by the method.
    表面コーティング後もサセプタに撓みを発生させないサセプタの製造方法およびその方法によるサセプタを使用した基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • The dried coating renders the external surface of the chocolate more resistant to abrasion or scuffing during processing, packaging, storage, and/or transport.
    乾燥したコーティングは、加工、包装、貯蔵、および/または輸送中に、チョコレートの外表面を擦り傷または磨り減りに対してより抵抗性にする。 - 特許庁
  • The surface glass 1 and the back face glass 3 use non-alkali glass, low alkali glass, or soda lime glass with which alkali- elution prevention processing has been performed.
    表面ガラス1及び背面ガラス3は無アルカリガラスまたは低アルカリガラス若しくはアルカリ溶出防止処理が施されたソーダライムガラスを用いる。 - 特許庁
  • To provide a tape for semiconductor processing using a plastic film whose surface is embossed as a separator without coating a release agent such as polydimethylsiloxane (PDMS).
    ポリジメチルシロキサン(PDMS)等の離型剤を塗布することなく、表面をエンボス加工したプラスチックフィルムをセパレータとした半導体加工用テープを提供する。 - 特許庁
  • The semiconductor layer 16 is subjected to plasma processing using gas containing a dopant to increase an impurity concentration of a surface layer 18 of the semiconductor layer 16.
    半導体層16に対して、ドーパントを含有するガスによるプラズマ処理を行って、半導体層16の表層18の不純物濃度を高める。 - 特許庁
  • The processing refuse adhering to the inside of the filter 9 is washed out with the washing liquid, dropped on the liquid surface in the filter, and discharged to the outside of the filter 9.
    フィルタ9の内側に付着している加工屑は洗浄液に表れてフィルタ内の液面に落とされてフィルタ9の外側に排出される。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing equipment which is capable of reducing consumption of an organic solvent and efficiently evaporating droplets of the organic solvent on the surface of a substrate.
    有機溶剤の消費量を削減でき、かつ基板表面の有機溶剤の液滴を効率よく気化できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of processing a hot stamp hologram which is capable of forming a hologram image with good accuracy on the surface of a material to be processed at a low cost.
    コストが安く被加工材料の表面にホログラム画像を精度がよく形成できるホットスタンプホログラムの加工方法を提供することにある。 - 特許庁
  • The image processing computer 6 searches and displays the biopsy object position out of the surface image of the subject 10 observed with the endoscope 3.
    画像処理コンピュータ6は、内視鏡3により観察された被検体10の表面像の中から生検目標位置を検索して表示させる。 - 特許庁
  • The ASIC 22 carries out a specified image processing, and monochromatic data on the surface and rear of the original are stored in parallel from the PCI bus 22g to a second memory 12.
    ASIC22は所定の画像処理を実行し、PCIバス22gから第2のメモリ12に原稿の表面と裏面のモノクロデータを並行して格納する。 - 特許庁
  • To reduce alignment unevenness of an alignment film by making an angle of deflection uniform on a light receiving surface of a substrate, when alignment processing is carried out by light irradiation.
    光照射により配向処理を行う際に、基板の受光面における偏向角を均一にして、配向膜の配向むらを低減する。 - 特許庁
  • To raise uniformity of a discharge amount of processing liquid supplied onto a surface of a substrate from a supply nozzle in a coating apparatus of, for example, resist liquid.
    例えばレジスト液の塗布装置において、供給ノズルから基板表面に供給される処理液の吐出量の均一性を高めること。 - 特許庁
  • Also, the electrophotographic transfer paper comprises applying a coating liquid composed of a pigment as a principal component to the surface of the base paper after the polishing processing with the abrasive material.
    また、原紙の表面を砥材で研削処理した後に顔料を主成分とする塗液を塗布してなることを特徴とする電子写真用転写紙。 - 特許庁
  • To provide a grinding method of a small diametrical pipe inner peripheral surface for uniform grinding in the pipe axial direction and the circumferential direction by sand blasting processing.
    サンドブラスト処理により管軸方向および円周方向に均一に研削することができる細径管内周面の研削方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a rubber composition for a pneumatic tire capable of improving work efficiency and heat generation characteristics during rubber processing while maintaining satisfactory grip performance and improving stability in vehicle steering on a dry road surface.
    グリップ性能を維持したまま、ゴム加工の作業性、及び発熱特性を改良し、更に、乾燥路面における操縦安定性を改良する。 - 特許庁
  • To provide a recording medium processing apparatus used when visible information is printed on a non-recording surface of a recording medium, and to provide a printing method and a computer program.
    記録媒体の非記録面に可視情報を印刷する際に用いる記録媒体処理装置,印刷方法およびコンピュータプログラムを提供すること。 - 特許庁
  • To provide a lens frame member having high antireflection function, wherein the frame member is easily formed and is physically beautiful; and to provide a method of processing the surface of the lens frame member.
    反射防止機能が高く、成形が容易であり、しかも見た目が美しい鏡枠部材、及び、鏡枠部材の表面加工方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing method and an apparatus which can securely carry out a pre-treatment in order to perform a plating treatment that enables uniform plating in the necessary area of the surface of a substrate.
    基板表面の必要な範囲に均一なめっき処理を行うためのめっき前処理を確実に行うことができるようにする。 - 特許庁
  • To enable an air flow flowing toward an exhaust vent to be uniformly formed in a processing chamber so as to make a substrate such as a wafer or the like uniform in heating temperature distribution throughout its surface.
    排気口へと流れる気流が処理室内において均等に形成されるように制御し,ウェハ等の基板面内の加熱温度を均一にする。 - 特許庁
  • A protective member 35 of the same material as that of a target 15 is fixed to the periphery of the target 15 on the inner surface of the processing chamber S in a sputtering system 1.
    スパッタリング装置1の処理室Sの内側表面であってターゲット15の周辺に,ターゲット15と同じ材質の保護部材35が取り付けられる。 - 特許庁
  • In this acquisition method, the conditions of accident processing, disabled vehicle, falling objects, construction work and a road surface, etc., and the situation of congestion are photographed by an electronic camera 21 from an air moving body such as a helicopter.
    事故処理・故障車・落下物・工事作業・路面等の状況と渋滞の様子をヘリコプター等の空中移動体から電子カメラで撮影する。 - 特許庁
  • Then, a background surface that becomes a processing reference for interpolating three-dimensional shape data from the three-dimensional model whose position has been specified is determined (S20).
    そして、ステップS20では、位置が特定された立体モデルから3次元形状データの補間するための処理基準となる背景面を決定する。 - 特許庁
  • To provide a vacuum processing apparatus having a function for removing particles on the surface of the sample stage in order to improve the yield of the sample being processed.
    処理対象の被処理試料の歩留まりを向上させるため、試料台表面の異物除去機能を備えた真空処理装置を提供する。 - 特許庁
  • The convex part is formed by making granule materials with a particle size of ≤1.0 μm adhere to it or is formed by grinding the applied surface by blast processing for projecting a grinding material.
    この凸部は、1.0μm以下の粒径の粒体を被着させて形成し、あるいは、研削材を投射するブラスト処理で被塗布面を研削して形成する。 - 特許庁
  • The triboelecltricfication of two-component developer is accelerated by the developer stirring processing, so that the surface staining at the non- image part of the photoreceptive drum is reduced.
    この剤攪拌処理においては、二成分現像剤のトナーの摩擦帯電が助長され、感光体ドラム1の非画像部における地肌汚れが低減される。 - 特許庁
  • To provide a method for processing an image capable of suitably color reproducing even when a color of a projecting surface is changed, an image display unit and a recording medium.
    投影面の色が変化しても適切な色再現が可能な画像処理方法、画像表示装置および記録媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁
  • To realize an aqueous lubricating agent not containing oil and capable of forming a lubricating oil necessary for a heavy processing of a metal by only applying it on the metal surface.
    金属表面に塗布するだけで、金属の重加工に必要な潤滑膜を形成する、油を含まない水系潤滑剤を実現する。 - 特許庁
  • A coating processing part 10 applies a coating liquid of an active material to a second principal surface 5b of a base material 5 with a first coating film 6 of the active material being formed.
    塗布処理部10は、活物質の第1塗布膜6が形成された状態で、基材5の第2主面5bに活物質の塗布液を塗布する。 - 特許庁
  • The recess is provided in the center of the surface facing a gas introducing means 12, which is provided in the close vicinity of the antenna section 7 and which introduces a gas into the plasma processing chamber.
    この凹部は、アンテナ部7に近接して設けられプラズマ処理室1にガスを導入するガス導入手段12と対向する面の中央部に設ける。 - 特許庁
  • In addition, the covering member 220 has at least one notch 310 formed at the end on a slide surface 223 of a fitting part 222 fitting with the processing unit 31.
    また、被覆部材220は、プロセスユニット31との嵌合部222の摺動面223における端部に形成される切欠部310を少なくとも一つ有する。 - 特許庁
  • The signal processing part 2 judges that a vehicle 11 is present on the road surface 10 when a part of the scattered light 6 disappears based on the reception light data 9.
    信号処理部2は、受光データ9に基づいて、散乱光6の一部が消滅した時、路面10に車両11があると判定する。 - 特許庁
  • A decorative part 35 provided with various color tone and various patterns such as a wood grain like pattern is provided on the outer surface of the decorative member 23 by lamination processing or the like.
    化粧部材23の外側表面には、種々の色調や、木目調等の様々な模様が施された装飾部35がラミネート加工等されている。 - 特許庁
  • A display processing part 53 displays an operating image and a target image which denotes an objective of the operating image on a display surface 30 in the training mode.
    表示処理部53は、訓練モードにおいて、操作図像と操作図像の追尾の対象となる目標図像とを表示面30に表示させる。 - 特許庁
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