「processing tank」を含む例文一覧(931)
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処理液タンク - 特許庁 - PROCESSING LIQUID REPLENISHMENT TANK
処理液補充タンク - 特許庁 - PROCESSING LIQUID STORAGE TANK
処理液貯留タンク - 特許庁 - TANK FOR PROCESSING LIQUID AND PROCESSING APPARATUS
処理液用タンク及び処理装置 - 特許庁 - The processing tank 1 is configured of tank walls 2.
加工槽１は、槽壁２で構成される。 - 特許庁 - PROCESSING TANK OF PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE
感光材料処理装置の処理タンク - 特許庁 - PROCESSING TANK OF APPARATUS FOR PROCESSING PHOTOSENSITIVE MATERIAL
感光材料処理装置の処理タンク - 特許庁 - DEVELOPMENT PROCESSING DEVICE AND PROCESSING LIQUID REPLENISHING TANK
現像処理装置及び処理液補充タンク - 特許庁 - REPLENISHING TANK FOR PROCESSING LIQUID OF PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE
写真処理装置の処理液の補充タンク - 特許庁 - VACUUM PROCESSING TANK, VACUUM PROCESSING APPARATUS, AND METHOD FOR VACUUM PROCESSING
真空処理槽、真空処理装置及び真空処理方法 - 特許庁 - REPLENISHING TANK FOR DEVELOPMENT PROCESSING DEVICE
現像処理装置用補充タンク - 特許庁 - WATER TANK CLEANING DEVICE AND WATER TANK CLEANING PROCESSING SYSTEM
水槽浄化装置及び水槽浄化処理システム - 特許庁 - OVERHEATING PREVENTION DEVICE OF PROCESSING LIQUID TANK
処理液タンクの過熱防止装置 - 特許庁 - The processing tank 1 is filled with processing liquid 2.
処理槽１には、処理液２が満たされている。 - 特許庁 - A lower tank 40 is arranged under a processing tank 10.
処理槽１０の下方に下部タンク４０を設けている。 - 特許庁 - VACUUM DRYER AND PROCESSING TANK THEREOF
真空乾燥機及びその処理槽 - 特許庁 - COATING TANK, AND PROCESSING METHOD THEREFOR
塗料タンクおよびその加工方法 - 特許庁 - PUMPING DEVICE FOR PROCESSING TANK OF DEVELOPMENT PROCESSING DEVICE
現像処理装置における処理槽のポンプ装置 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID TANK FOR WIRE ELECTRIC DISCHARGE MACHINE
ワイヤ放電加工機の加工液タンク - 特許庁 - REPLENISHING TANK FOR PROCESSING SOLUTION USED IN PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING APPARATUS
感光材料処理装置の処理液補充タンク - 特許庁 - In a processing tank 10, the processing liquid is stored.
処理槽１０には、処理液が貯留されている。 - 特許庁 - TREATING TANK FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING APPARATUS
感光材料処理装置の処理タンク - 特許庁 - PROCESSING TANK OF PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSOR
感光材料処理装置の処理タンク - 特許庁 - PROCESS TANK FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE
感光材料処理装置の処理タンク - 特許庁 - GAS STORAGE TANK, GAS PROCESSING FACILITY AND GAS PROCESSING METHOD
ガス貯留タンク、ガス処理設備、およびガス処理方法 - 特許庁 - The processing apparatus 3 is equipped with a washing tank 7, a dyeing tank 8, and a film hardening tank 8.
処理装置３は、洗浄槽７、染色槽８、硬膜槽９を備える。 - 特許庁 - CHEMICAL LIQUID TANK, PRODUCTION OF CHEMICAL LIQUID TANK AND ITS PROCESSING DEVICE
薬液槽および薬液槽の製造方法並びに処理装置 - 特許庁 - LIQUID PROCESSING TANK AND IMAGE FORMATION DEVICE EQUIPPED WITH THE TANK
液体処理タンクおよびこれを搭載した画像形成装置 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING TANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
基板処理槽及びその製造方法 - 特許庁 - BOIL-OFF GAS PROCESSING DEVICE AND LIQUEFIED GAS TANK
ボイルオフガス処理装置及び液化ガスタンク - 特許庁 - PROCESSING LIQUID TANK WALL SURFACE STRUCTURE FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE
感光材料処理装置用処理液槽壁面構造 - 特許庁 - The wet processing device has a processing tank and a carrying means placed in the processing tank to carry the processing materials.
処理槽と、処理槽内に設けられ、被処理物を搬送する搬送手段とを備える湿式処理装置である。 - 特許庁 - EVAPORATED FUEL PROCESSING DEVICE FOR FUEL TANK
燃料タンクの蒸発燃料処理装置 - 特許庁 - The shutter 3 divides the processing tank 1, and forms an accommodation space 4 in the processing tank 1.
シャッタ３は、加工槽１を仕切り、加工槽１に収容空間４を形成する。 - 特許庁 - GRINDING WATER TANK DEVICE AND GLASSES LENS PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH SUCH TANK DEVICE
研削水タンク装置及びこれを備える眼鏡レンズ加工装置。 - 特許庁 - The tank unit 18 has a processing tank 20 for storing developing processing liquid, and the processing tank 20 is provided with a liquid level detection part 32.
タンクユニット１８は現像処理液を収容する処理タンク２０を有し、処理タンク２０には液面検出部３２が設けられる。 - 特許庁 - PROCESSING TANK STRUCTURE FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSOR
感光材料処理装置の処理タンク構造 - 特許庁 - A shutter 3 is provided in the processing tank 1.
加工槽１内にシャッタ３が設けられる。 - 特許庁 - DEVELOPMENT PROCESSING DEVICE AND DEVELOPER REPLENISHING TANK
現像処理装置及び現像液補充タンク - 特許庁 - RACK WITH TRANSPORT MECHANISM OUTSIDE PROCESSING LIQUID TANK OF PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE
写真処理装置の処理液槽外用搬送機構付きラック - 特許庁 - A processing tank 1 is commonly used for the water-jet processing and the wire cut discharge processing.
加工槽１は、ウォータジェット加工とワイヤカット放電加工で共用である。 - 特許庁 - The substrate processing tank includes a tank body 10 and a support frame body 20.
基板処理槽は、槽本体１０と支持枠体２０とを備える。 - 特許庁 - The substrate processing device 12 includes a storage tank 11 for storing the processing liquid, a processing tank 13 for supplying the processing liquid onto the substrate K to process it, a conveying mechanism 14 for conveying the substrate K, and a processing liquid supply mechanism 20 for supplying the processing liquid L to the processing tank 13 to reflux the processing liquid L in the processing tank 13 to the storage tank 11.
基板処理装置12は、処理液を貯留する貯留槽11と、基板K上に処理液を供給して処理する処理槽13と、基板Kを搬送する搬送機構14と、処理液Lを処理槽13に供給し、処理槽13内の処理液Lを貯留槽11に還流させる処理液供給機構20とを備える。 - 特許庁 - When the processing tank 10 is filled up with processing fluid 2, the electromagnetic valve 20 is turned off, and processing fluid 2 is fed to the processing tank 10 out of the processing fluid feeding port 10d.
加工槽１０に加工液２が満たされたら、電磁弁２０をオフし、加工液供給口１０ｄから加工槽１０に加工液２を供給する。 - 特許庁 - The processing liquid is stored in a processing liquid tank 5, and processing liquid supply piping 4 is provided between the processing liquid tank 5 and the processing liquid supply nozzle 3.
処理液は処理液タンク５に貯留され、処理液タンク５と処理液供給ノズル３との間には処理液供給配管４が設けられている。 - 特許庁 - Sewage is processed by a biological processing device such as an activated sludge processing tank or a biofilm processing tank, and the generated excess sludge is returned to the decomposition tank 2.
汚水は、活性汚泥処理槽や生物膜処理槽等の生物処理装置で処理し、発生した余剰汚泥は分解槽２に返送する。 - 特許庁 - A substrate processing device 1 includes a processing tank 3 for processing a substrate W with a processing liquid, a dry processing part 6 arranged above the processing tank 3, and a moving mechanism 8 for moving the substrate W between the processing tank 3 and the dry processing part 6.
基板処理装置１は基板Ｗを処理液によって処理する処理槽３と、処理槽３の上方に配置された乾燥処理部６と、処理槽３と乾燥処理部６との間で基板Ｗを移動させる移動機構８とを備えている。 - 特許庁 - To provide a processing device which can sufficiently stir the liquid in an intermediate tank without increasing the circulating flow rate between a processing tank of the processing device and the intermediate tank when circulating the processing liquid stored in the processing tank through the intermediate tank outside the system and a method for circulating the processing liquid.
処理装置の処理槽に貯留された処理液を系外の中間槽を通して循環するときに、処理槽と中間槽の間の循環流量を上げることなしに、中間槽内の攪拌を十分に行う事のできる処理装置及び処理液の循環方法を提供する - 特許庁 - A pressure recovering means 4 introduces the outside air to the pressure-reduced processing tank 2 to recover the pressure in the processing tank 2.
復圧手段４は、減圧された処理槽２内へ外気を導入して、処理槽２内を復圧する。 - 特許庁 - BELT DRIVE RACK, AND TANK PHOTOGRAPHIC PROCESSING APPARATUS
ベルト伝動式ラック及びタンクを有する処理装置 - 特許庁
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