「processing temperature」を含む例文一覧(2995)
＜前へ 1 2 .... 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 次へ＞- When the scanner motor 25 reaches a first reference speed Sp1 smaller than the target rotation speed Spd within a first period T1 (S100:Yes), it can be determined that the scanner motor 25 operates at a normal temperature and, therefore, the conveyance of a form 3 and image forming processing is immediately started.
スキャナモータ２５が第１期間Ｔ１内に目標とする回転速度Ｓｐｄより小さい第１基準速度Ｓｐ１に達した場合（Ｓ１００：Ｙｅｓ）には、スキャナモータ２５が常温で動作していると判断できるため、直ちに用紙３の搬送や画像形成処理を開始する。 - 特許庁 - A laminated film formed by providing PET-G films 10 and 12 on both the surfaces of an antenna sheet film 1 and PET films 11 and 13 outside the PET-G films 10 and 12 is softened by being held at specified temperature for a certain time without being applied with pressure to perform preheating processing.
アンテナシートフィルム１の両面にはＰＥＴ−Ｇフィルム１０、１２が設けられ、該ＰＥＴ−Ｇフィルム１０、１２の外側にはＰＥＴフィルム１１、１３が設けられて構成された積層フィルムを所定の温度で圧力をかけずに一定時間保持しフィルムを軟化させ、予熱処理を行う。 - 特許庁 - To provide a binder for a heat developable photosensitive material capable of ensuring superior adhesiveness between layers constituting a multilayer heat developable photosensitive material when used in the heat developable photosensitive material, and capable of improving adhesiveness particularly in high temperature processing in a developing step.
積層型の熱現像感光材料に用いた場合、熱現像感光材料を構成する各層間の接着性に優れるものとすることができ、特に現像工程における高温処理時での接着性を向上させることが可能な熱現像感光材料用バインダーを提供する。 - 特許庁 - Since the pressure of the heated air inside the processing tank 1 is lower than pressure of open air, and low temperature open air can be introduced inside a duct 22 through open air feed pipes 61, 62 so that a nichrome wire 23a can be prevented from overheating and breaking.
これにより、処理槽１の内部の加熱空気の圧力は処理槽１の外の空気の圧力よりも低いから、外気供給管６１，６２を介して温度の低い外気をダクト２２の内部に導入することができ、ニクロム線２３ａの過熱を防止してその断線を防止できる。 - 特許庁 - To provide a fixing device, an image forming device and a fixing method in which the excessive rise of temperature at both ends of a fixing roller is restrained even in the case of consecutively processing transfer material whose size is smaller than the heating width of the fixing roller, and by which high fixing performance is realized.
定着ローラ上の加熱幅に対して小さなサイズの転写材を連続的に処理している場合でも、定着ローラ上の両端部における温度が過剰に上昇することを抑制し、且つ、定着性能も高い定着装置、画像形成装置および定着方法。 - 特許庁 - To provide a plasma melting furnace capable of suppressing the discharge of an exhaust gas including harmful asbestos dust ash, discharging only slag after completely melting asbestos, and surely detoxifying asbestos in processing equipment for melting and detoxifying the waste including asbestos at a high temperature of about 1,500°C.
アスベストを含む廃棄物を１５００℃程度の高温により溶融無害化する処理設備において、有害なアスベスト塵灰を含む排ガスの排出量を抑えると共に、アスベストが完全に溶融したスラグのみを排出し、アスベストを確実に無害化することができるプラズマ溶融炉を提供する。 - 特許庁 - To provide an image reader that can prevent reduction in read processing speed at mode changeover, cost increase due to addition of a circuit in order to change a luminous quantity of a light source lamp at the mode change, increase in a gain of an amplifier at the mode change and deterioration in image quality due to a change in a temperature of the light source lamp.
モード切換時の読取処理速度の低下、モード切換時に光源ランプの光量を変更するための回路の追加によるコストの上昇、並びに、モード切換時にアンプのゲインを大きくすること及び光源ランプ温度の変化による画像品質の劣化を防止する。 - 特許庁 - To obtain a fragrant rubber composition emitting a fragrance by adding an oil type perfume in which ≥90% mixed perfume remains even at 170-180°C tire processing temperature in a tire production process and a tire containing the same.
タイヤの製造工程において、タイヤの加工温度である１７０〜１８０℃においても、混合された香料の９０％以上の香気成分が残存するオイルタイプの香料をタイヤ用ゴムに添加して香気を発散させるタイヤ用香気ゴム組成物、及びこれを含むタイヤを提供する。 - 特許庁 - This method for controlling the circulation fan of the banana maturity processing chamber comprises periodically changing the blowing directions of the circulation fan 3 in a chamber during maturation of bananas 5 and extremely reducing a flesh temperature difference between both ends in the ventilation direction of the bananas 5 in the box.
バナナ５の熟成中に於いて、室内に設けた循環ファン３の吹出し方向を周期的に切換えて、箱中にあるバナナ５の通気方向に於ける略両端の果肉温度差が極めて小さく出来るバナナ熟成加工室の循環ファン制御方法と成す。 - 特許庁 - Subsequently, the controller 100 controls the heater 16 to heat the inside of the reaction tube 2 to a predetermined temperature, and then controls the MFC control unit to supply ethylene into the heated reaction tube 2 from a processing gas introduction tube 17, so that amorphous carbon films are formed on the semiconductor wafers W.
そして、制御部１００は、昇温用ヒータ１６を制御して、反応管２内を所定の温度に加熱し、ＭＦＣ制御部を制御して、加熱された反応管２内に処理ガス導入管１７からエチレンを供給することにより、半導体ウエハＷにアモルファスカーボン膜を形成する。 - 特許庁 - To suppress generation of a product having a low molecular weight in the period from the latter half to the end of a polymerization reaction since with a conventional method of solution polymerization, adiabatic polymerization in particular, the temperature range becomes wide and the molecular weight distribution of a water soluble (co)polymer obtained becomes wide, large flocks are not easily formed when processing sludge or the like.
従来の水溶液重合、とくに断熱重合法では、重合温度幅が広くなることから得られる水溶性（共）重合体の分子量分布が広く、該（共）重合体からなる高分子凝集剤では、汚泥等の処理の際に粗大フロックが形成されにくい。 - 特許庁 - In an electronic part having lead terminal with an Ni film formed on the surface, when an Sn-0.75Cu plated film for the lead terminal is formed by a dip forming method, the plating processing temperature by the method is set at nearly 20-40°C higher than the melting point of the plating material.
表面にＮｉ被膜が形成されたリード端子を有する電子部品において、当該リード端子に対しＳｎ−０.７５Ｃｕメッキ膜をディップ形成法により形成するにあたり、ディップ形成によるメッキ処理温度をメッキ材料の融点より、略２０〜４０℃高く設定した。 - 特許庁 - To easily enable information processing closer to tactile sensation which a human being has for various uses in different fields, such as the surface conditions of paper, various uneven patterns, etc., an input device to an information apparatus, etc., concerning various tactile information, such as temperature, pressure, etc., without damaging the device.
温度や圧力等の各種触覚情報について、各種の凹凸パターン、紙などの表面状態、情報機器への入力デバイスなど、異なる分野の幅広い用途に人間の持つ触覚により近い情報処理を安易にデバイスを損ねることなく可能とする。 - 特許庁 - When the sensor 20b detects a person, for example, the control device 24 performs a control for unwinding curtains 12a and 12b to form the partitioning space 10b, and controls air conditioning processing of at least one of air blowing quantity, speed and temperature/humidity by a fan coil unit 14b according to the partitioning.
制御装置２４によって、例えばセンサ２０ｂが人を検知した際に、カーテン１２ａ，１２ｂを伸ばす制御により間仕切り空間１０ｂを形成し、この際の間仕切りに応じてファンコイルユニット１４ｂによる送風の量、速度及び温湿度の少なくとも１つの空調処理を制御する。 - 特許庁 - To provide a processing liquid which is excellent in safety, sanitation and economical efficiency and which can efficiently process carbon material/acid anhydride-curing epoxy resin composite material at or below temperature necessary for usual pyrolysis, thereby reutilizing the carbon material and a resin cured material.
安全衛生上および経済性に優れ、なおかつ通常熱分解に必要とされる温度以下で効率的に炭素材料／酸無水物硬化エポキシ樹脂複合材料を処理することのできる処理液を提供することで、炭素材料と樹脂硬化物を再利用する。 - 特許庁 - To provide catalytic combustion equipment for lengthening the service life of a catalyst, and always performing processing of combustible organic compound at an optimal reaction temperature while sufficiently purifying the combustible organic compound by easily monitoring a purification state of the combustible organic compound.
可燃性有機化合物の浄化状態を簡易にモニタリングし、可燃性有機化合物を十分に浄化しつつ触媒の高寿命化を図ることができる最適反応温度で可燃性有機化合物の処理を常時行うことが可能な触媒燃焼装置を提供する。 - 特許庁 - The image processing part 30 then detects whether or not the pedestrian is detected, ends pedestrian detection since there is no decline in contrast in the affirmative judgement, and detects the pedestrian on the basis of the thermal image of the substrate temperature Tb (Tb<Ta, for instance) in the negative judgement.
そして、画像処理部３０は、歩行者を検出できたか否かを検出し、肯定判定のときはコントラストの低下がなかったので歩行者検出を終了し、否定判定のときは基板温度Ｔｂ（例えばＴｂ＜Ｔａ）の熱画像に基づいて歩行者を検出する。 - 特許庁 - In a method for heating and/or drying a flowable bulk material, synthetic resin granule in particular, wherein the material is supplied to a processing machine, an injection molding machine in particular, a high- temperature air flow 18 runs through transversely to the flowing direction of the flowable bulk material.
ばら物が加工機械、特に射出成形機に供給される、流動可能なばら物、特に合成樹脂顆粒を加熱およびまたは乾燥するための方法において、高温空気流１８は流動するばら物４をその流動方向に対して横方向に流通する。 - 特許庁 - To provide a heat developable photosensitive material having low fog and high Dmax (maximum density), less liable to increase fog even after long-term storage and after short-term storage at high temperature and less liable to increase fog even after long-term storage after processing.
カブリが低く、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、かつ感光材料を長期間保管したり、高温で短期間保管したりしてもカブリの上昇が少なく、さらに処理後の感光材料を長期間保管してもカブリの上昇が少ない熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁 - To obtain a conductive ink composition with a high PCT resistance variance magnification, excellent processability, and excellent mechanical property or durable stability after processing together with a plane heating element that is not destroyed with an abrupt temperature change, and maintains its mechanical and electrical properties stably for a long time.
ＰＣＴ抵抗変化倍率が高く、加工性に優れ、かつ加工後の機械的特性や長期安定性に優れた導電性インキ組成物を得、急激な温度変化においても破損することがなく、その機械的特性、電気的特性が長期に安定して保たれる面状発熱体を得る。 - 特許庁 - In the processing method of optical element, compression forming is performed by using a free curved plane die having the surface roughness Ra ≤6 nm and the shape precision PV ≤1 μm in the superplasticity flow temperature region of the amorphous metal thin film and the surface roughness and shape precision of the free curved plane die is applied.
加工方法において、非晶質金属薄膜の超塑性流動温度域で、面粗度Ｒａ≦６ｎｍ及び形状精度ＰＶ≦１μｍ以下の自由曲面型を用いて圧縮成形し、自由曲面型の表面粗度及び形状精度を付与させる。 - 特許庁 - The surface of a fuel cell separator material A produced by subjecting a material consisting of graphite powder and a resin to a molding process or machining is contacted with flames B from a burner C and subjected to a flame processing at a temperature of 500-1200°C for a period between 0.5-30 sec so that the fuel cell separator equipped with hydrophilic property is accomplished.
黒鉛粉と樹脂からなる材料を成形又は機械加工をして得られる燃料電池セパレータ材Aの表面を、バーナCからの火炎Bと接触させて500〜1200℃の火炎温度で、0.5〜30 secの処理時間でフレーム処理することにより親水性が付与された燃料電池セパレータとする。 - 特許庁 - After a source region, a drain region, and a channel region are formed by doping a dopant to a polysilicon film and activating the dopant by heat treatment, a substrate temperature is maintained within a range of 350°C to 420°C, and a substrate is exposed to hydrogen gas plasma for a processing time of 3 to 60 minutes.
ポリシリコン膜にドーパントを注入し、加熱処理によって注入したドーパントを活性化し、ソース領域及びドレイン領域、及びチャネル領域を形成した後、基板温度を、３５０℃〜４２０℃の範囲内に保って、３分〜６０分の処理時間、基板を水素ガスによるプラズマに晒す。 - 特許庁 - To provide acceleration electrode structure, which prevents adhering of an insulating substance to an acceleration electrode when processing a high temperature insulation substance, and stabilizes acceleration of an electron beam for a long time, in electron beam excitation plasma generating equipment, which has the acceleration electrode installed in a process room.
プロセス室内に加速電極を設置した電子ビーム励起プラズマ発生装置において、高温絶縁性物質の処理を行うときに加速電極に絶縁性物質が付着することを防ぎ電子ビームの加速を長時間安定化する加速電極構造を提供する。 - 特許庁 - A sensitivity correction standard 110 is designed to radiate three or more infrared rays each having uniform reference temperature, a multi pixel infrared detector 130 is designed to perform photoelectric conversion after detecting an infrared ray, and an sensitivity correction processing unit 140 is designed to perform sensitivity correction and the determination of the defective pixel using three or more electronic signals.
感度補正基準１１０が３つ以上の均一な基準温度の赤外線を放射し、多画素赤外線検知器１３０が赤外線を検知して光電変換を行い、感度補正処理部１４０が３つ以上の電気信号を用いて感度補正および欠陥画素判定を行う。 - 特許庁 - The inside of an interface station S3 located between a processing station S2, at which a development process is carried out and an exposure system S4 is cooled down to a temperature of 10 to 15°C at which a resolution reaction hardly proceeds, and a heating section 31 promoting a resolution reaction in resist is provided inside the interface station S3.
現像処理等を行う処理ステ−ションＳ２と露光装置Ｓ４との間のインターフェイスステーションＳ３内をレジストの解像反応の進行を抑える程度の温度例えば１０〜１５℃程度に冷却すると共に、ここにレジストの解像反応を促進させる加熱部３１を設ける。 - 特許庁 - To equalize heating temperature in the peripheral direction of a substrate to be processed, and effect uniform processing for the substrate to be processed by a method wherein, in a single wafer heater, a container housing to be processed is made to have the same degree of insertion port of the substrate as the inner peripheral face, excluding it in the degree of heat absorption.
枚葉式の加熱装置において、被処理基板を収納する容器の、基板挿入口とそれを除く内周面との熱吸収度を同程度にすることによって、被処理基板の周方向での加熱温度を等しくし、被処理基板に対して均一な処理を行うこと。 - 特許庁 - The failure diagnosing device is equipped witch a measuring device 40 having at least a first to a third temperature sensor and a rate-of-flow sensor and an analytical processing device 43 to specify the rate-of-flow varying factor of a seal fluid and perform judgement whether any failure exists in the seal.
また、異常診断装置においては、少なくとも第１〜第３の温度センサ及び流量センサを有する測定装置４０と、シール流体の流量変動要因の特定及び漏洩限定型軸シールの異常有無の判定を行う解析処理装置４３とを備えた構成を採用した。 - 特許庁 - Before start of a process for supplying the ultraviolet light and the ozone-containing gas to the substrate 10, the ozone-containing gas is introduced intermittently into the ozone processing furnace 2, and the temperature of the substrate 10 before start of the process is detected based on the ozone concentration measured by the ozone concentration measuring part 3 in each introduction.
基板１０に紫外光及びオゾン含有ガスを供するプロセスの開始前にオゾン処理炉２はオゾン含有ガスを間欠的に導入し、この導入毎にオゾン濃度測定部３によって測定されたオゾン濃度に基づきプロセス開始前の基板１０の温度を検出する。 - 特許庁 - The actual valve clearance quantity can be estimated in response to an operation condition by calculating the actual valve clearance quantity by being associated with the exhaust gas temperature just after being exhausted from a combustion chamber, and an arithmetic operation load and memory capacity can also be reduced by simplifying arithmetic processing.
燃焼室から排出されて直ぐの排気ガス温度に関連付けて実バルブクリアランス量を算出することにより、運転条件に応じた実バルブクリアランス量の推定を可能とし、さらに、演算処理を簡略化して演算負荷及びメモリ容量の軽減を実現することができる。 - 特許庁 - To provide a piezo-electric vibrator and its manufacturing method that can realize structural processing of a piezo-electric substrate required for energy confinement with high accuracy, excellent reproducibility and most suitable mass-productivity and prevent such problems as dispersion in resonance characteristics, temperature characteristics of frequency and equivalent circuit constants of the piezo-electric vibrator due to deterioration in chamfering processing size accuracy of a small-sized piezo-electric substrate.
小型の圧電基板の面取り加工寸法精度の低下による圧電振動子の共振特性や周波数温度特性のバラツキ、等価回路定数値のバラツキ等の問題を防止することを可能とするエネルギー閉じ込めに必要な圧電基板の構造的な加工を高精度に再現性良く実現し、且つ、量産においても好適な圧電振動子及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A protective film 107 of a carbon polymer is formed on a sidewall of a polysilicon film 105 with plasma containing carbon after the polysilicon film 105 is etched to prevent side etching and sidewall roughening of the polysilicon film 105 even when the metal material 104 forming a lower-layer film is subjected to etching processing with plasma of halogen-based gas under etching conditions of volatility increased by keeping a wafer at higher temperature and processing pressure lower.
ポリシリコン膜１０５をエッチングした後に、カーボンを含むプラズマによりポリシリコン膜１０５の側壁にカーボンポリマの保護膜１０７を形成させることで、ウェハの高温化や処理圧力の低圧力化により揮発性をあげたエッチング条件下で、ハロゲン系ガスのプラズマにより下層膜である金属材料１０４のエッチング処理を行っても、ポリシリコン膜１０５のサイドエッチ及び側壁荒れを防止することができる。 - 特許庁 - The processing method for the radioactive waste liquid containing phosphate ester includes an oxidative decomposition processing process of adding a solution containing copper salt capable of producing copper ions or copper ions produced from copper salt and hydrogen peroxide to the radioactive waste liquid, and oxidatively decomposing the phosphate ester within a temperature range of 20-60°C in the presence of the copper ions produced from the copper salt.
本発明の放射性廃液の処理方法は、リン酸エステルを含む放射性廃液の処理方法であって、前記放射性廃液に、銅イオンを生成し得る銅塩または銅塩から生成した銅イオンを含む溶液と過酸化水素とを添加し、前記銅塩から生成した銅イオンの存在下、２０〜６０℃の温度範囲で、前記リン酸エステルを酸化分解する酸化分解処理工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The processing circuit 50 has a coil voltage detection circuit 59 for detecting the magnet temperature correlation value correlated to the temperature of the magnet 40, a first inversion amplifier 64 for correcting the voltage generated in the coil 41 by the operation of the needle valve 36 based on the correlation value detected by the circuit 59, and an integrator 56 for detecting the operational state of the needle valve 36 from the voltage corrected by the amplifier 64.
処理回路５０には、磁石４０の温度に相関する磁石温度相関値を検出するコイル電圧検出回路５９と、この回路５９にて検出された当該相関値に基づいてニードル弁３６が動作することによりコイル４１に発生する電圧を補正する第一反転増幅器６４と、この増幅器６４にて補正された電圧からニードル弁３６の動作状態を検出する積分器５６とが設けられる。 - 特許庁 - To provide a silver halide emulsion from which a silver halide photosensitive material is obtained, the material having suitability to digital exposure such as laser scanning exposure and suitability to rapid processing, having high sensitivity and excellent in exposure temperature dependence and to provide a silver halide photosensitive material (particularly a silver halide photographic sensitive material) obtained by using the same.
レーザー走査露光のようなデジタル露光適性および迅速処理適正を持ち、高感度で、露光温度依存性に優れたハロゲン化銀感光材料を得ることができるハロゲン化銀乳剤、およびそれを用いたハロゲン化銀感光材料（特にハロゲン化銀写真感光材料）を提供すること。 - 特許庁 - The adhesive sheet for processing use is essentially composed of a substrate and an adhesive layer, wherein the adhesive layer contains a radiation-polymerizable compound, and there is an intermediate layer based on an acrylic polymer 20°C or higher in glass transition temperature in between the substrate and the adhesive layer.
少なくとも基材および粘着剤層を有する加工用粘着シートであって、前記粘着剤層は放射線重合性化合物を含み構成されており、前記基材と粘着剤層との間には、ガラス転移温度が２０℃以上のアクリル系ポリマーを主成分とする中間層が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁 - When a space 105 is opened by a battery pack holding part 104 capable of contacting the confronted faces of a battery pack 103 and the main body of device tightly or while having a gap, in a main body 101 of device, heat is hardly propagated to the battery pack 103 so that the temperature elevation of a central processing unit(CPU) 109 is more allowed.
装置本体１０１が、電池パック１０３と装置本体が対向する面を密着させるあるいは間隙を持たせることのできる電池パック保持部１０４によって、空間１０５を開くと、電池パック１０３に熱が伝導しにくくなるので、中央処理装置１０９の温度上昇は、より許容される。 - 特許庁 - To provide a copper foil for a printed wiring board, which is free of locally eroded recesses on a glossy face side thereof during soft etching processing and is not discolored even by high-temperature treatment at 300°C for 30 minutes and has an excellent solubility in acid solution, and to provide a manufacturing method thereof.
圧延銅箔の光沢面側において、ソフトエッチング処理の際、局部的に侵食された凹みが生じることがなく、また３００℃、３０分の高温処理でも変色を起こさず更に酸溶液に対する溶解性が良好なプリント配線板用銅箔およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - In this information processing display device, a display part has a thin display device, and the processor for the reversible recording medium capable of executing rewriting of the recording medium by heating the sheet-like reversible recording medium allowing recording and erasure of a visible image to a specific temperature is disposed on the rear face of the display part.
情報処理表示装置において、表示部に薄型表示装置を備え、可視画像の記録及び消去が可能なシート状の可逆性記録媒体に対し、特定温度に加熱することで記録媒体の書き換えを実施可能な可逆性記録媒体用処理装置を、表示部の背面に配設する。 - 特許庁 - To provide a technology for performing film deposition with high in-plane uniformity by solving the problem of temperature stability of a stage heater based on low thermal conductivity of a pressure withstanding vessel, when a film is deposited on a substrate by supplying processing fluid containing supercritical fluid and film deposition material into the pressure withstanding vessel.
超臨界流体と成膜原料とを含む処理流体を耐圧容器内に供給して基板に対して成膜を行うにあたり、耐圧容器の熱伝導率が小さいことに基づく、ステージヒータの温度安定性の課題を解決し、面内均一性の高い成膜処理を行うことができる技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of producing a retort food, such as sweet red-bean soup or thick sweet red-bean soup with rice cake or dumpling like ingredients having a smooth and chewy texture, which maintains the firmness and has a good shape retention property even when the food is kept in bouillon or soup for a long time after retort processing in which pressure sterilization is performed at high temperature.
高温で加圧殺菌を行なうレトルト処理後に汁またはスープ類中に長期間保持しても、煮崩れ等がなく保形性がよく、食感も滑らかで歯応えのある餅様または団子様の具材を含有するお汁粉やぜんざい等のレトルト食品の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a lead-free glass material for sealing which melts at a low temperature, has no toxicity unlike lead-based glass, has a low coefficient of thermal expansion and good thermal stability to facilitate sealing processing, exhibits excellent water resistance enabling the material to be converted to ultrafine particles by wet milling, and has a high aptitude as a sealant for an organic EL display panel.
低融性で鉛系ガラスのような毒性がなく、熱膨張係数が低く、熱的安定性がよく封着加工を行い易く、耐水性に優れて湿式粉砕による超微粒化が可能であり、有機ＥＬディスプレイパネル用のシール材として高い適性を備える封着用無鉛ガラス材を提供する。 - 特許庁 - Additionally, as the resin or rubber material of the mask base part 3, the silicone-based resin material without stickiness on the surface, whose steam resistance is ≥100°C and JIS A rubber hardness is set between 1 and 10, is used, and the high temperature sterilization processing at about 110°C is easily executed even in the case of repeatedly using it.
またマスクベース部３の樹脂またはゴム材料として、表面にベタ付きがないシリコーン系樹脂材料で、耐スチーム性が１００℃以上で、かつかつJIS A ゴム硬度が、１〜１０の間に設定したものを使用し、これにより繰返し使用する場合でも、１１０℃前後の高温減菌処理を容易に行うことが出来る。 - 特許庁 - The image forming apparatus is provided with the image carrier 1, a charging member 2 for contact-charging the image carrier 1, a bias power source 8 which generates bias by superposing DC voltage and AC voltage and applies the bias to the charging member 2, a sensor 9 for sensing temperature and humidity, and CPU (central processing unit) 11 for controlling the bias power source 8.
像担持体１と、像担持体１を接触帯電させる帯電部材２と、直流電圧及び交流電圧が重畳されてなるバイアスを生成して帯電部材２に印加するバイアス電源８と、温度及び湿度を検出するセンサ９と、バイアス電源８を制御するＣＰＵ１１と、を備える。 - 特許庁 - After a start of an engine or the like, in a condition in which the temperature of exhaust gas is relatively low, if desorption of HC is determined in the HC processing devices 10, 11, the lean degree of air-fuel ratio is temporarily increased upon initiation of the desorption, and thereafter, the air-fuel ratio is controlled to a small lean degree corresponding to the density of HC during desoprtion.
機関の始動後など、排気温度の比較的低い状態において、ＨＣ処理装置１０、１１でのＨＣの脱離を判定したら、脱離開始時に一時的に空燃比のリーン度合いを大きくし、その後は脱離中のＨＣ濃度に対応したより小さなリーン度合いに空燃比を制御する。 - 特許庁 - Those optical circuits are composed of a semiconductor waveguide (for example, silicon Si, indium phosphate InP, gallium arsenide GaAs, etc.), and defect increasing processing by impurity doping, low-temperature growth, ion implantation, etc., is performed on the first arm waveguide 103 to increase the absorption coefficient of the first arm waveguide 103.
これらの光回路を半導体導波路（例えばシリコンＳｉ、リン化インジウムＩｎＰ、ヒ素化ガリウムＧａＡｓ等）で構成し、第１アーム導波路１０３に不純物ドーピング、低温成長やイオン注入等による欠陥増大を行うことによって第１アーム導波路１０３における吸収係数を高める。 - 特許庁 - To provide a method for producing an acid-curing resol resin that has a pot life enough to conduct an impregnation or cast molding is rapidly cured after the processing, and has good mechanical strength, and therefore is molded at ordinary temperature even if to a large product.
含浸、注型作業等が円滑に行えるのに充分な可使時間を与え、且つ、前記作業時間の経過後には、速やかに硬化し、良好な機械強度が得られる性能を持つことで、大型の成形体であっても、常温で成形できる酸硬化型レゾール樹脂の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - Detection precision and discrimination for a micro-wave type are enhanced since a threshold value is set not to affect a comparison result even when the output of the FM detection circuit 8 is varied by the temperature of the circuit 8 in the case where the output of the circuit 8 is compared with the threshold value in a detection-processing process.
すると、ＦＭ検波回路８の出力を検出処理過程においてしきい値と比べる際に回路の温度によってＦＭ検波回路８の出力が変化しても比較結果に影響が出ないようなしきい値に設定できるので検出精度並びにその受信したマイクロ波のタイプの識別が良好になる。 - 特許庁 - In the production of the oriented electromagnetic steel plate by using as a raw material a steel slab having a predetermined component composition and using cold rolling two or more times, heat processing for between 10 minutes and 480 hours at a temperature range of 500°C to 750°C is performed before one of the cold rollings, except the final cold rolling.
所定の成分組成になる鋼スラブを素材とし、２回以上の冷延を利用して方向性電磁鋼板を製造するに際し、最終冷間圧延を除くいずれかの冷間圧延に先立って、５００℃以上７５０℃以下の温度範囲で、１０分以上４８０時間以下の熱処理を行う。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a near IR absorption filter having large and wide absorption in a near IR region, high transmittance in the visible light region, no large absorption at a specified wavelength in the visible light region, preferable processing property and productivity, and stable performance in a long time even in a high temperature or high humidity environment.
近赤外域に大きく且つ巾の広い吸収を有し、さらに可視領域の光透過性が高く、且つ可視領域に特定波長の大きな吸収がなく、加工性および生産性が良好で、高温または高湿下でも長時間性能的に安定な近赤外線吸収フィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁
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