「profile development」を含む例文一覧(68)
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Personal Profile (Nokia、Sony Ericsson) はスマートフォン開発のもっとも一般的なプロファイルです (詳細情報)。 - NetBeans - To generate a color profile for color processing according to development parameters of a photographed image.
撮影画像の現像パラメータに応じた色処理用のプロファイルを作成する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having excellent profile and which is less liable to cause development defects.
プロファイルに優れ、現像欠陥の問題が少ないポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having favorable development defect performance and a square resist profile.
良好な現像欠陥性能、矩形なレジストプロファイルを有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a profile simulation method which enables profile prediction and dimensionality prediction which reflect actual development behavior with high precision.
実際の現像挙動を反映した形状予測及び寸法予測を精度よく行うことができる形状シミュレーション方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having excellent sensitivity and resolution, hardly generating development residue or development defect and exhibiting excellent shape of pattern profile.
感度、解像力が優れ、現像残査又は現像欠陥の発生が抑制され、更にパターンプロファイルの形状も優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - For development biases in a predetermined range, an image evaluating section 19 evaluates the quality of an image based upon a contrast between the latent image profile and the development bias.
画像評価部１９は、所定範囲の現像バイアスについて、潜像プロファイルと現像バイアスとの間のコントラストに基づいて画像の品質を評価する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which significantly decreases development defects and gives an excellent square profile.
現像欠陥の発生を著しく低減し、優れた矩形のプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type resist composition excellent in sensitivity and resolving power, suppressing the occurrence of development residue and development defects and excellent also in shape of pattern profile.
感度、解像力が優れ、現像残査又は現像欠陥の発生が抑制され、更にパターンプロファイルの形状も優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which significantly decreases the occurrence of development defects and with which an excellent square profile can be obtained.
現像欠陥の発生を著しく低減し、優れた矩形のプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - A CPU 3 acquires a development amount matrix where the logarithmic values of the development amounts of gene development profile data are arranged, and estimates the parameter of a stochastic main component analytic model where each gene vector is interrupted as an independent sample in the development amount matrix by repeating Bayes estimation like a variational method under ARD preliminary probability distribution to estimate the missing value of the gene development profile data.
ＣＰＵ３は、遺伝子発現プロファイルデータの発現量の対数値を並べた発現量行列を取得し、この発現量行列において各遺伝子ベクトルが独立サンプルであると解釈した確率的主成分分析モデルのパラメータを、ＡＲＤ事前確率分布のもとで変分法的ベイズ推定を繰り返すことにより推定することにより、遺伝子発現プロファイルデータの欠測値を推定する。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition excellent in developability (particularly reduction of residue on development and development defects) and excellent also in sensitivity, resolving power and the shape of pattern profile.
現像性が優れており（特に現像残さの発生、現像欠陥の発生の軽減）、更に感度、解像力、パターンプロファイルの形状も優れたポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - This document guides you through the basic steps of using NetBeans IDE to create a Java Platform, Micro Edition (Java ME platform),Mobile Information Device Profile (MIDP) application and is designed to get you started with mobile application development as quickly as possible.
このドキュメントでは、NetBeans IDE を使用した、Java Platform Micro Edition (Java ME プラットフォーム) の MIDP (Mobile Information Device Profile) アプリケーションの作成について、概説します。 このチュートリアルは、できるだけすばやく作業を進められるように作られています。 - NetBeans - To create a profile with which desired color reproduction is made possible while taking into account exposure characteristics, development characteristics and the like, in a color image output device.
カラー画像出力装置において、露光特性や現像特性を考慮して所望の色再現が可能なプロファイルを作成する。 - 特許庁 - Color bars for estimating color development are printed on profile forming pattern printed matter and commercial printed matter and the color coordinates value of a profile forming color chart is estimated on the basis of the measuring results of the color bars for estimating the color development of both printed matters to calculate first and second estimated color coordinates values.
プロファイル作成用絵柄印刷物と商業印刷物に発色予測用カラーバーを印刷し、両印刷物の発色予測用カラーバーの計測結果を基にプロファイル作成用カラーチャートの色座標値を推定して第１と第２の推定色座標値を算出する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which improves edge roughness of a pattern, remedies the problem of development defects and gives an excellent resist pattern profile.
パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥の問題も改善された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The development of the control environment for legal compliance by Financial Instruments Business Operators shall be examined in light of their business profile with due consideration of the following points, for example.
金融商品取引業者のコンプライアンス態勢の整備については、その業容に応じて、例えば以下のような点に留意して検証することとする。 - 金融庁 - To provide a positive type resist composition which ensures improved edge roughness of a pattern, solves the problem of development defects and gives excellent resist pattern profile.
パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥の問題も改善された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition which permits removal of the photosensitive composition in its exposed part upon development with an alkaline aqueous solution and can obtain a patterned film excellent in pattern profile.
アルカリ水溶液で現像したときに、露光部の感光性組成物を除去することができ、パターン形状に優れたパターン膜を得ることができるポジ型の感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition using electron beams or X rays having high resolution and capable of forming a rectangular and excellent pattern profile and improving development defects.
高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥か改善されたポジ型電子線またはＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To obtain a resin concrete composition that provides a molded article having low contraction and no crack development, has high strength of its hardened molded article and eliminates the need for a low profile additive and its molding.
低収縮でクラックの発生が無い成形品が得られ、またその硬化物の強度が高い、低収縮剤が不要であるレジンコンクリート組成物及びその成形品を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin that even if developing time exceeds the optimum time in a development step, a good pattern profile can be formed, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist upper layer antireflection film which achieves a high antireflection effect, can be removed simultaneously with development of a resist to ensure high process easiness, and does not cause mixing with the resist so that resist profile is not varied.
高い反射防止効果を達成し、かつレジストの現像と共に除去可能でプロセス簡便性が高く、レジストとミキシングを起こさずにレジストの形状を変化させないレジスト上層反射防止膜を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method, a chemically amplifying resist composition and a resist film, which are excellent in all of sensitivity, reduction in development defects and a pattern profile in the formation of a negative pattern using a developing solution containing an organic solvent.
有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive resin composition excellent in residual film ratio and resist profile and not causing the problem of development defects even when deep UV, particularly ArF excimer laser light is used as a light source for exposure.
露光光源として、深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、残膜率、レジストプロファイルが優れるとともに、現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - Development information consisting of the line segment data to regulate the locus followed by the laser beams and the laser control data is generated from set information including the printing line width C and the profile adjustment value D, and the deflection control and the ON/OFF control of the laser beams are performed according to development information following the printing starting command.
印字線幅Ｃ及び輪郭調整値Ｄを含む設定情報からレーザー光がたどるべき軌跡を規定する線分データ及びレーザー制御データからなる展開情報を生成し、印字開始指令に伴って展開情報にしたがってレーザー光の偏向制御及びオン・オフ制御を行う。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition improved in thickness reduction of a resist film after pattern development and deterioration of a pattern profile in normal exposure, and further improved in elution of a resist component into a immersion solution, pattern collapse or deterioration of a profile after immersion exposure in liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.
通常露光時に於ける、パターン現像後のレジスト膜厚減少、及び、パターンプロファイル劣化が改善され、更には、液浸露光時に於ける、液浸液へのレジスト成分の溶出が改善され、液浸露光後のレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a preferable profile of resist pattern and to prevent residue present on a substrate even when a developer comprising a tetramethylammonium hydroxide aqueous solution having a weight concentration lower than 2.38 wt.% is used for development.
２．３８ｗｔ％よりも重量濃度が小さいテトラメチルアンモニウムハイドロキサイド水溶液よりなる現像液を用いて現像を行なうにも拘わらず、レジストパターンの形状が良好になると共に基板上に残渣が存在しないようにする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resist composition for a color filter excellent in sensitivity, adhesion in development and pattern profile, to enhance the reliability of a color filter and a liquid crystal display device, to boost yield and to reduce the cost of manufacturing.
感度、現像時の密着性、パターン形状に優れたカラーフィルター用感光性レジスト組成物を提供し、カラーフィルターおよび液晶表示装置の信頼性を高く、かつ歩留まりを向上させ製造コストを削減することにある。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material having good strippability, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and ensuring little change in resist line width, profile, etc., irrespectively of a change in development time (large development latitude), and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.
剥離性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、現像時間が変化してもレジストの線幅、プロファイルなどの変化が少ない（現像ラチチュードの広い）パターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - Preferably, in order to profile a multi-thread grinding worm 4 for continuous development grinding of small-sized gear wheel teeth, a stripping zone 6, a preliminary profiling zone 7, and a finish profiling 8 are provided in a rotary dressing tool coated with abrasive grains.
好適には小型歯車歯の連続発生研削のための多条研削ウォーム（４）をプロファイリングするため砥粒で塗布される回転ドレッシング工具（２）においてストリッピング帯域（６）、予備プロファイリング帯域（７）及び仕上プロファイリング（８）が提供される。 - 特許庁 - To obtain a positive photosensitive resin compsn. excellent in the rate of a residual film, resist profile and dry etching resistance and not causing the problem of development defects when far UV, in particular ArF excimer laser light is used as a light source for exposure.
露光光源として、深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、残膜率、レジストプロファイル及びドライエッチング耐性が優れるとともに、現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser light, high sensitivity and high resolution, and high affinity with an alkali and giving a pattern with a preferable pattern profile and preferable dry etching durability and adhesion property by a paddle development system.
ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透明性が高く、高感度で高解像度、アルカリに対して高い親和性、パドル現像によりパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性の良好なパターンが得られるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - Next, it is necessary to make effective use of the limited resources according to the disaster risk profile of each country. Combining physical infrastructure development and knowledge-oriented measures such as establishing evacuation warning systems and related education is also needed.
その上で、各国の災害リスク等に応じて、限られたリソースを有効活用し、インフラ等のハード面での施策と避難警戒態勢の構築や防災教育等のソフト面での施策を有効に組み合わせ、対策を講じることが必要です。 - 財務省 - To provide a chemical amplification positive type resist composition having superior in sensitivity and resolution and rectangular profile and also having superior stability for PCD/PED, resistance to development defects, capability of coating (e.g. uniformity within a plane), and solubility in solvent.
感度、解像力に優れ、矩形状の優れたパターンプロファイルを有し、しかもＰＣＤ、ＰＥＤの安定性、更には、現像欠陥、塗布性（面内均一性）、溶剤溶解性に優れた特性を有するポジ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition excellent in sensitivity, resolution, adhesion in development and heat resistance, capable of being developed with an alkaline aqueous solution, and giving a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and electronic components.
感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which can be used suitably in a process using ArF excimer laser light as an exposure light source, which is superior in line edge roughness and free of pattern collapses, will cause no problem regarding development defects, and is superior in a pattern profile and exposure latitude, and to provide a method for forming a pattern that uses the composition.
ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for an ArF excimer laser which excels in basic physical properties as a resist, such as transparency, sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern profile, in particular, excels in solubility in a resist solvent, and reduces the roughness on a pattern side wall after development.
透明性、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減するＡｒＦエキシマレーザー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which can be suitably used when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, excels in line edge roughness, and causes neither pattern collapse nor problem of development defects, and a pattern forming method using the same, and to further provide a positive resist composition excellent in pattern profile and exposure latitude and a pattern forming method using the same.
ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition that has excellent resolution, can suppress the occurrence of a defect after development, and shows good lithographic characteristics and a pattern profile, to provide a method for forming a resist pattern, and to provide a polymer compound useful for the above resist composition and a method for producing the polymer compound.
解像性に優れると共に、現像後のディフェクトの発生を抑制でき、かつ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物及びその製造方法の提供。 - 特許庁 - In a second exposure step following a first exposure and development step, the luminous intensity of irradiation light R2 is decreased to such a degree that a region d' with saturation exposure in the area irradiated with the irradiation light R2 in a second photoresist film 3' to be dissolved and removed in the succeeding second development step has a trapezoidal converged profile in the cross section as shown in the figure.
第１の露光、現像工程に引き続くの第２露光工程において、照射光Ｒ2の光度を、第２フォトレジスト膜３´の照射光Ｒ2により照射されたエリアにおいて後順の第２現像工程で溶解除去され得る程度に感光した飽和感光領域ｄ´が、図示されるような断面が台形の先窄み形状となるまで低減させる。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which can be suitably used, when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, which is superior in resist profile, sensitivity, resolution and line edge roughness, and which is free from pattern collapse and of the problems of development defects, and to provide a pattern forming method that uses the composition.
ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、レジスト形状、感度、解像力、ラインエッジラフネスが優れるとともに、パターン倒れのなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In a region/variety profile table 11 (X city-rice variety A), a daily mean temperature (mean temperature of 24 temperatures on the hour) of the X city in a normal year, an effective temperature (daily mean temperature-10°C) and a DVR value (development rate; growth rate of rice (rice variety A) to daily mean temperature) are described.
地域・品種プロファイル表１１（Ｘ市—稲品種Ａ）には、Ｘ市の平年日平均気温（毎正時２４回の平均）、有効温度（日平均気温—１０℃）及びＤＶＲ値（Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｒａｔｅ；日平均気温に対する稲（稲品種Ａ）の発育速度）が記述されている。 - 特許庁 - To provide a new dosage regiment for amoxicillin/clavulanate giving optimized pharmacokinetic profile for amoxicillin while not compromising the bioavailability of clavulanate, so that therapy is maximized, particularily against more resistant bacteria while the (further) development of resistance is minimized.
特に耐性の強い菌に対する治療を最大とし、その一方で耐性の（さらなる）発展を最小とする、最も効果的な薬物速度論的プロフィールを与える一方クラブラン酸塩の生物学的利用能を低下させないアモキシシリン／クラブラン酸塩に関する新規の投与方法の提供。 - 特許庁 - The dimensions of the electrodes 11, 21 and 12 are set so that the plasma paths for development may have a path length until a processing profile in the flowing direction of the process gas becomes a prescribed range, and so that the plasma paths for the selected area may have a path length corresponding to the prescribed part (selected area).
助走用プラズマ通路部が、プロセスガスの流れ方向の処理プロファイルが所定の範囲になるまでの路長を有し、前記選択領域用プラズマ通路部が、前記所定部分（選択領域）に対応する路長を有するように、電極１１，２１，１２を寸法設定する。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.
感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、ｉ線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.
感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られると共に、ｉ線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin as to form a good pattern profile even in a developing time exceeding the optimum developing time in a developing step, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.
高い放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, reduction of a skirt-like pattern profile, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.
広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To ensure high sensitivity to a short wavelength light source, to suppress the occurrence of development defects and to obtain a superior pattern profile by using a compd. having a specified structure besides an acid decomposable resin and a photo-acid generating agent.
遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することで、短波長光源に対して高い感度を有し、更に現像欠陥の発生が軽減され、優れたパターンプロファイルが得られる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
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