「program mask」を含む例文一覧(282)
1 2 3 4 5 6 次へ＞- MASK PROCESSING APPARATUS, MASK PROCESSING METHOD, PROGRAM, AND MASK
マスク処理装置、マスク処理方法、プログラム、およびマスク - 特許庁 - MASK INSPECTION METHOD, MASK INSPECTION DEVICE AND MASK INSPECTION PROGRAM
マスク検査方法、マスク検査装置及びマスク検査プログラム - 特許庁 - MASK PATTERN ALLOCATING METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD AND PROGRAM, AND MASK
マスクパターン配置方法、マスク作製方法、プログラムおよびマスク - 特許庁 - MASK CORRECTION PROGRAM, MASK CORRECTION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK
マスク補正プログラム、マスク補正方法およびマスク製造方法 - 特許庁 - MASK LAYOUT EDITOR DEVICE AND MASK LAYOUT EDITOR PROGRAM
マスクレイアウトエディタ装置及びマスクレイアウトエディタプログラム - 特許庁 - He appeared in the TV program "Pot of Beauty" 's "Noh Mask " edition.
美の壷「能面」出演。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - MASK EVALUATION METHOD, MASK EVALUATION SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND PROGRAM
マスク評価方法、マスク評価システム、マスク製造方法およびプログラム - 特許庁 - MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM AND MASK PATTERN CORRECTION SYSTEM
マスクパターン補正プログラムおよびマスクパターン補正システム - 特許庁 - MASK PATTERN DATA GENERATION METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD, MASK AND MASK PATTERN DATA GENERATION PROGRAM
マスクパターンデータ生成方法、マスクの製造方法、マスク及びマスクパターンデータ生成プログラム - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING MASK DATA, PROGRAM, PROXIMITY EFFECT CORRECTION MASK
マスクデータ補正方法、プログラム及び近接効果補正マスク - 特許庁 - INTERRUPTION MASK CONTROL METHOD AND INTERRUPTION MASK CONTROL PROGRAM
割込マスク制御方法および割込マスク制御プログラム - 特許庁 - MASK DEFECT INSPECTION APPARATUS AND MASK DEFECT INSPECTION PROGRAM
マスク欠陥検査装置およびマスク欠陥検査プログラム - 特許庁 - MASK PATTERN PROCESSING APPARATUS, MASK PATTERN PROCESSING METHOD, AND PROGRAM
マスクパターン処理装置、マスクパターン処理方法、およびプログラム - 特許庁 - MASK, MASK CONTAMINATION MONITOR METHOD, PROGRAM AND EXPOSURE METHOD
マスク、マスクコンタミネーションモニタ方法、プログラムおよび露光方法 - 特許庁 - MASK ORDERING SUPPORT SYSTEM AND MASK ORDERING SUPPORT PROGRAM
マスク発注支援システム及びマスク発注支援プログラム - 特許庁 - MASK DATA PREPARING METHOD AND PROGRAM
マスクデータ作成方法およびプログラム - 特許庁 - METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING MASK
マスクパターンの作成方法、マスクの製造方法およびプログラム - 特許庁 - MASK PATTERN VERIFICATION METHOD AND PROGRAM
マスクパターン検証方法およびプログラム - 特許庁 - VERIFYING METHOD FOR MASK PATTERN, PROGRAM FOR VERIFYING MASK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK
マスクパターン検証方法、マスクパターン検証用プログラム、及びマスク製造方法 - 特許庁 - PROGRAM FOR CREATING DATA OF MASK
マスクのデータを作成するためのプログラム - 特許庁 - DEVICE FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK
マスクパターン補正装置、マスクパターン補正プログラムおよび露光用マスクの製造方法 - 特許庁 - VERIFICATION METHOD OF MASK PATTERN DATA, MANUFACTURING METHOD OF MASK, AND VERIFICATION PROGRAM OF MASK PATTERN DATA
マスクパタンデータの検証方法、マスクの製造方法、マスクパタンデータの検証プログラム - 特許庁 - MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE AND PROGRAM THEREFOR
マスクパターン補正方法，マスクパターン補正装置およびそのプログラム - 特許庁 - PROGRAM FOR DESIGNING SEALING MASK AND METHOD FOR DESIGNING THE SEALING MASK
封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法 - 特許庁 - MASK PREPARATION METHOD, IMAGE PROCESSOR, SOFTWARE PROGRAM AND MASK DATA
マスク作成方法、画像処理装置、ソフトウェアプログラム、並びにマスクデータ - 特許庁 - MASK PATTERN DATA PREPARATION METHOD, MASK PATTERN DATA PREPARATION PROGRAM, MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクパターンデータ作成方法、マスクパターンデータ作成プログラム、マスク、半導体装置の製造方法 - 特許庁 - MASK DATA CREATION METHOD, MASK DESIGNING APPARATUS, MASK, PROGRAM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクデータ作成方法、マスク設計装置、マスク、プログラム及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING MASK, STORAGE MEDIUM STORED WITH MASK PATTERN LAYOUT PROGRAM, AND APPARATUS FOR PRODUCING MASK
マスク製造方法、マスクパターンレイアウトプログラムを記憶した記憶媒体、及びマスク製造装置 - 特許庁 - DESIGN METHOD OF APERTURE MASK, GENERATING METHOD OF APERTURE MASK, AND PROGRAM
アパーチャマスクの設計方法、アパーチャマスクの作成方法およびプログラム - 特許庁 - METHOD FOR COMPRESSING MASK PATTERN DATA AND PROGRAM THEREFOR
マスクパターンデータ圧縮方法及びプログラム - 特許庁 - MASK DATA PREPARATION APPARATUS, MASK DATA PREPARATION METHOD, EXPOSURE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MASK DATA PREPARATION PROGRAM
マスクデータ作成装置、マスクデータ作成方法、露光マスク、半導体装置の製造方法及びマスクデータ作成プログラム - 特許庁 - MASK REGION DETERMINER, METHOD AND PROGRAM
マスク領域決定装置、方法、およびプログラム - 特許庁 - SOFTWARE MASK CALCULATION PROGRAM AND PROJECTION SYSTEM
ソフトウェアマスク算定プログラムおよび投影システム - 特許庁 - DOCUMENT GROUP MASK DEVICE, DOCUMENT GROUP MASK METHOD, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM
文書群マスク装置、文書群マスク方法、プログラムおよび記録媒体 - 特許庁 - MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND PROGRAM, AND PHOTOMASK USING MASK PATTERN CORRECTION METHOD
マスクパターンの補正方法、プログラム及び該補正方法を用いたフォトマスク - 特許庁 - MASK PATTERN DIVIDING METHOD, MASK PATTERN DIVIDING PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクパターン分割方法、マスクパターン分割プログラム、露光用マスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁 - CORRECTING METHOD OF MASK PATTERN AND RECORDING MEDIUM RECORDING MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM
マスクパタ—ン補正方法及びマスクパタ—ン補正プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁 - PRODUCING METHOD OF MASK MANUFACTURING DATA, AND PRODUCING APPARATUS FOR PROGRAM AND MASK MANUFACTURING DATA
マスク製造データ作成方法、プログラム及びマスク製造データ作成装置 - 特許庁 - EXPOSURE MASK, METHOD AND PROGRAM FOR DESIGNING EXPOSURE MASK
露光用マスク、露光用マスクの設計方法および露光用マスクの設計プログラム - 特許庁 - FORMING METHOD OF ETCHING MASK, CONTROL PROGRAM, AND PROGRAM STORAGE MEDIUM
エッチングマスクの形成方法、制御プログラム及びプログラム記憶媒体 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING UNIT, MASK GENERATION METHOD, AND PROGRAM
画像処理装置、マスク作成方法及びプログラム - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN
マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム - 特許庁 - METHOD FOR DIVIDING MASK PATTERN, PROGRAM FOR DIVIDING MASK PATTERN, EXPOSURE MASK, AND PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクパターン分割方法、マスクパターン分割プログラム、露光用マスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁 - MASK PATTERN APPEARANCE INSPECTION METHOD, PROGRAM THEREFOR, AND MASK PATTERN APPEARANCE INSPECTION APPARATUS
マスクパターン外観検査方法及びそのプログラム及びマスクパターン外観検査装置 - 特許庁 - MASK DESIGN DEVICE, MASK DESIGN METHOD, PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
マスク設計装置、マスク設計方法、プログラムおよび半導体装置製造方法 - 特許庁 - COMPLEMENTARY DIVIDING METHOD, MASK FORMATION METHOD, AND PROGRAM
相補分割方法、マスク作製方法およびプログラム - 特許庁 - METHOD FOR AUTOMATICALLY CORRECTING MASK-PATTERN DATA AND ITS PROGRAM
マスクパターンデータ自動補正方法及びそのプログラム - 特許庁 - LINE PRINTER, HALFTONE PROCESSING METHOD, PROGRAM AND DITHER MASK
ラインプリンタ、ハーフトーン処理方法、プログラム及びディザマスク - 特許庁 - PROCESS FOR PRODUCING MASK, METHOD FOR MANAGING MASK BLANK, PROGRAM FOR MANAGING MASK BLANK, SYSTEM FOR MANAGING MASK BLANK AND PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクの製造方法、マスクブランクスの管理方法、マスクブランクスの管理プログラム、マスクブランクスの管理装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - MASK PATTERN VERIFICATION METHOD, MASK PATTERN GENERATION METHOD, PATTERN DATA PROCESSOR, AND PROGRAM
マスクパターン検証方法、マスクパターン作成方法、パターンデータ処理装置、およびプログラム - 特許庁
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