The reaction distillation device having 3 plates and with a heater for heating a liq. reactant provided to at least one plate A among the reaction plates except the bottom plate and the plate supplied with the feed is used to bring about an equilibrium reaction while heating the reactant on the plate A. 段数が3段以上で、塔底と原料を供給する供給段とを除いた反応段のうちの少なくとも一つの段(A)に、反応液を加熱する加熱装置が設けられている反応蒸留装置を用いて、該段(A)に存在する反応液を加熱しながら平衡反応を行う。 - 特許庁
To provide a reactant gas supply method of a dry etching device which can prevent a gas composition from altering by the generation of H_2, when HF or a gas containing HF is used as a reactant gas, and can prevent reaction of an etching process from altering, to conduct etching of high accuracy. 反応ガスとしてHFやHFを含むガスを用いる場合に、H_2の発生によりガス組成が変化するのを防ぎ、エッチングプロセスの反応が変化するのを防いで精度の良いエッチング処理を行うことが可能になるドライエッチング装置の反応ガス供給方法を提供する。 - 特許庁
The hydrogen generating device generates hydrogen by the reaction of a solid reactant 1 and an aqueous solution 2 for the reaction, wherein the device includes a heat supply unit 40 supplying heat to a residual product produced by the reaction of the solid reactant 1 and the aqueous solution 2 for the reaction. 固体反応物1と反応用水溶液2とが反応することにより水素を生成する水素生成装置であって、固体反応物1と反応用水溶液2とが反応することにより生成される残留生成物に対して熱を供給する熱供給部40を備える。 - 特許庁
In the fluorine crystallization technology which crystallizes a fluorine compound on a seed crystal, an agitator is installed in a reaction tank for mixing fluorine-containing water and a reactant, and the fluorine-containing water and/or the reactant are discharged into a quickly dispersible area in the reaction tank by an agitation flow. 種晶上にフッ素化合物を晶析させるフッ素晶析技術において、フッ素含有水と反応薬剤とを混合する反応槽内に撹拌機を設け、その撹拌流によって反応槽内に素早く拡散しうる領域に、フッ素含有水及び/又は反応薬剤を吐出する。 - 特許庁
The method for producing a water gas includes allowing a reactant fluid that contains a polyhydric alcohol and water to flow through a reaction site 14a, which is provided with a catalyst 18 having a surface extending in the flowing direction of the reactant fluid, at an average flow rate of not less than 0.05 m/s with a reaction time of not less than 1.0 s. 水性ガスの製造方法は、多価アルコールと水とを含む反応流体を、その流動方向に沿って延びるような表面を有する触媒18が設けられた反応場14aに、平均流速0.05m/s以上、且つ反応時間1.0s以上で流動させる。 - 特許庁
The thin film-forming device 10 includes a film-forming container 12 which is supplied with a material gas and a reactant gas alternately in different timings to form a film-forming space in a pressure reduction state, and a gas exhaust section 18 equipped with an exhaust pipe 18a for discharging the material gas and reactant gas. 薄膜形成装置10は、原料ガスおよび反応ガスが別々のタイミングで交互に供給されて、減圧状態の成膜空間を形成する成膜容器12と、前記原料ガスおよび前記反応ガスを排気する排気管18aを備えるガス排気部18と、を有する。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for synthesizing RI compounds, capable of treating a trace amount of reactant to decrease the amount of the reactant and increasing yield of a radioisotope-labelled compound by decreasing products adsorbed on the flow path wall surface. 反応物質の量を減らすために微量の反応物質を取り扱うことができ、かつ流路壁面に吸着される生成物を減らすことで放射性同位元素標識化合物の収率を向上することができるRI化合物合成装置及びRI化合物合成方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method comprises the steps of mixing hydrogen gas with the HMDS and reactant gas consisting of gas containing nitrogen atom gas and/or gas containing oxygen atom gas; and varying the carbon contents of the silicon film (SiN film, SiO_2 film, and SiON film) by changing the mixing ratio of the reactant gas and the hydrogen gas. HMDSと窒素原子含有ガス及び/又は酸素原子含有ガスとから成る反応ガスに水素ガスを混合し、反応ガスと水素ガスとの混合比を変化させることにより、シリコン系膜(SiN膜、SiO_2膜、SiON膜)の炭素含有量を変化させる。 - 特許庁
A cooling medium passage 117 is installed in parallel with a reactant gas passage 113 in which a gas for temperature elevation flows, and at least when warming up the fuel cell 110, the cooling medium is made to flow through the cooling medium passage 117 in parallel with a flow of the gas for temperature elevation in the reactant gas passage 113. 昇温用ガスが流される反応ガス流路113と並んで冷却媒体流路117を設け、少なくとも燃料電池110の暖機時には、反応ガス流路113内の昇温用ガスの流れと並行に冷却媒体流路117に冷却媒体を流す。 - 特許庁
The reactant polymer-carrying porous film for a battery separator is manufactured in a process in which a cross-linking agent is made to react with a cross-linking polymer which can be reactant and cross-linked with the cross-linking agent. また、本発明によれば、架橋剤と反応して架橋し得る架橋性ポリマーを架橋剤と反応させ、一部、架橋させてなる反応性ポリマーとリチウム塩とを多孔質フィルムに担持させてなることを特徴とする電池用セパレータのための反応性ポリマー担持多孔質フィルムが提供される。 - 特許庁
According to the present invention, the acute phase reactant transcription inhibitor containing a hydrophobic extract of licorice as an active ingredient is obtained, and a composition for preventing and/or improving, treating diseases related to tissue damages, etc., caused by the expression of acute phase reactant is provided. 本発明により、甘草疎水性抽出物を有効成分とする急性相反応タンパク質転写抑制剤が得られ、急性相反応タンパク質によって引き起こされる組織損傷等に関連する疾患の予防及び/又は改善・処置用組成物が提供される。 - 特許庁
A thermosetting composition that includes a first reactant having reactive functional groups, a curing agent that has at least two functional groups reactive with the functional groups of the first reactant, and the latex emulsion of crosslinked polymeric microparticles dispersed in an aqueous continuous phase are also provided. 反応性官能基を有する第1の反応物質;第1の反応物質の官能基と反応性の少なくとも2つの官能基を有する硬化剤;および水性連続相中に分散された架橋ポリマー微粒子のラテックスエマルジョンを含む熱硬化性組成物もまた開示されている。 - 特許庁
Pressure loss is set at 70 mmAq to 200 mmAq, when the reactant gas circulates in the gas circulation channel of the separator, so that without substantial increase in the power consumption of reactant gas supply equipment, stable gas diffusivity is ensured to an electrolyte membrane/electrode assembly(MEA). セパレータのガス流通溝に反応ガスが流通するときの圧力損失を70mmAq以上200mmAq以下にすることで、反応ガス供給機器の消費電力を大幅に増加させずに、MEA(電極電解質膜接合体)への安定したガス拡散性を確保する。 - 特許庁
The process comprises a step of providing an amine reactant and a step of reacting the amine reactant with a stream of phosgene in a reaction zone to form a product containing the corresponding isocyanate, the stream of phosgene having an average CO content of 0.5 wt.% or more. アミン反応物質を提供する工程、および反応帯域においてアミン反応物質をホスゲンの流れと反応させて、相当するイソシアネートを含んでなる生成物を形成する工程を含んでなり、該ホスゲンの流れが平均CO含有量0.5重量%以上を有する、方法。 - 特許庁
A solution of a polystyrene reactant comprising from about 5 to 20 wt.% of a polystyrene reactant is pretreated in a halogenated hydrocarbon solvent with at least about 0.1 wt.% of an additive to suppress halogenation of the polystyrene backbone prior to brominating the polystyrene in the presence of a catalyst. ポリスチレンの主鎖のハロゲン化を抑制する添加剤が少なくとも約0.1重量%含むハロゲン化炭化水素溶媒で約5〜約20重量%のポリスチレンの反応物を含むポリスチレン反応物溶液を、触媒の存在においてポリスチレンの臭素化を行う前に前処理する。 - 特許庁
To provide improved sealing structure for sealing and supplying a control solution for one use, other reagent and a reactant. 1回の使用のためにコントロール溶液、他の試薬、及び作用物質を封入し、供給するための改良された封入構造が提供する。 - 特許庁
In this case, the generation of a reactant by the mixture of the material gases in the exhaust passage can be suppressed, and clean gas evacuation can be performed. この場合、排気通路内で原料ガスが混ざって反応物が生成することを抑えることができ、良好な排気を行うことができる。 - 特許庁
Two or more gas-feeding openings 13-15 are formed along the circulating direction of the reactant gas at a wall face (upper wall 6) of the treatment chamber 4. 複数のガス供給口13〜15は、処理室4の壁面(上壁6)において、反応ガスの流通方向に沿って形成される。 - 特許庁
By similar processing, a second reactant layer is formed at the discharge device 20h and a second current collector is formed at the discharge device 20j. 同様の処理により吐出装置20hにおいて第2の反応層を、吐出装置20jにおいて第2の集電層を形成する。 - 特許庁
A furnace body 10 housing a reactant 12 is provided so that sunlight 7 collected by a light collector 13 is radiated to a peak part. 反応物12を収容する炉本体10を、集光装置13で集光した太陽光7が頂部に照射されるよう設ける。 - 特許庁
ELECTROCHEMICAL FUEL CELL WITH ELECTRODE SUBSTRATE HAVING IN-PLANE UNUNIFORM STRUCTURE FOR CONTROL OF TRANSPORT OF REACTANT AND PRODUCT 反応体及び生成物の輸送を制御するための、平面内不均一構造を有する電極基板を備えた電気化学的燃料電池 - 特許庁
This fuel cell has a structure in which an electrolyte film 13 is pinched by separators 1, 2 where flow-paths 4, 4a of the reactant gas are formed. 燃料電池は電解質膜13を反応ガスの流路4、4aを形成したセパレータ1、2によって狭持した構造となっている。 - 特許庁
An upper electrode on the parallel flat plate type plasma etching system is provided with many opening areas 3 for supplying the reactant gas into a processing chamber. 平行平板型のプラズマエッチング装置の上部電極には、処理室内に反応ガスを供給する複数の開口部3が設けられている。 - 特許庁
To provide a method for easily and efficiently manufacturing a molded absorbent for halides, having a high-performance, where alkali aluminate, for example, sodium aluminate is a reactant. アルミン酸アルカリ、例えばアルミン酸ナトリウムを反応成分とした高性能な成形ハロゲン化物吸収剤を簡易に効率よく製造する。 - 特許庁
The monolith catalyst is particularly suited toward use in hydrogenation processes which employ an immiscible mixture of an organic reactant in water. 本発明のモノリス触媒は水中で有機反応物の混和しない混合物を用いる水素添加反応に使用するのに特に適している。 - 特許庁
Next, a first reactant layer is formed at the discharge device 20f by coating a catalyst solution two or more times on different locations. 次に、吐出装置20fにおいて複数回それぞれ異なる場所に触媒溶液を塗布することにより第1の反応層を形成する。 - 特許庁
Since microwaves are introduced into a vacuum tub 11 and the reactant gas and the assist gas are made into plasma, etching is performed in a shorter time than before. 真空槽11内部にマイクロ波を導入して反応ガスとアシストガスのプラズマ化を行なうから、従来に比べて短時間でエッチングされる。 - 特許庁
The surface of a substrate loaded on a reaction chamber is subjected to treatment for terminating with specified atoms, and a 1st reactant is allowed to chemically adsorb on the substrate. 反応チャンバにローディングされた基板の表面を特定原子で終端処理し、該基板上に第1反応物を化学吸着させる。 - 特許庁
To provide a method for forming a thin film which is simple in constitution and capable of forming a film by uniformly mixing a feed gas with a reactant gas, and an apparatus therefor. 構成が簡素で、しかも原料ガスと反応ガスを均一に混合して膜を形成しうる薄膜形成方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for forming a tungsten film, which can prevent the exfoliation of a titanium-based adherent film as an undercoat, caused by erosion with reactant gas. 下地のチタン系密着膜の反応ガスによる侵食に起因する剥がれを防止することができるタングステン膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁
Re-filling of the storage vessel outside the high-temperature zone is simplified, and most of the liquid reactant is not exposed to the temperature for unstable state for a long time. 高温ゾーンの外の保管容器の再充填が簡単化され、さらに液体反応物の大部分は不安定になる温度に長くさらされない。 - 特許庁
These methods provide not only pressure drop to minimize reactant flow along the inner wall of the refractory lining, but also an additional active reaction zone. これらの方法は、耐火性ライニングの内壁に沿っての反応体の流れを最小化する圧力降下ばかりでなく、追加の活性反応ゾーンをも提供する。 - 特許庁
To provide a fuel cell technology by which water is prevented from staying in the vicinity of a power generation body or at a reactant gas supply port. 燃料電池に関し、水が発電体近傍や反応ガス供給口に滞留することを抑制する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a micro-reactor low in pressure loss when a reactant-containing fluid is circulated and further high in catalytic activity, and to provide its manufacturing method. 反応物含有流体を流通させる際の圧損が小さく、しかも、高い触媒活性を有するマイクロリアクター及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The apparatus 1 for forming a thin film has a mixer 7 into which a film-forming gas 22 containing a feed gas 20 and a reactant gas 21 can be fed. 本発明の薄膜形成装置1は、原料ガス20と反応ガス21を含有する成膜ガス22を導入可能な混合器7を有している。 - 特許庁
A reactant R is fixed to a relatively shallow part near a front face of a print medium P without sinking deep, whereby an OD is increased. これによって反応物(R)は、深く沈み込むことなくプリント媒体(P)の比較的表面に近い浅い部分に定着し、ODを増すことができる。 - 特許庁
To provide a separator for a fuel cell wherein a reactant gas flow rate is higher, a current collecting area is larger, and power generation efficiency is higher; and to provide its manufacturing method. 反応ガス流量が多く、かつ集電面積の広い、発電効率に優れた燃料電池用セパレータ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method and a structure for feeding a vaporized reactant to a vapor phase deposition reactor such as an atomic layer deposition (ALD) reactor from a liquid source. 液体ソースから原子層堆積(ALD)反応炉などの気相堆積反応炉に気化反応物を供給する方法および構造を提供すること。 - 特許庁
To provide a computer-implemented method and system that match atoms in a system of reactant atoms with corresponding atoms in a system of product atoms. 反応物の原子系における原子を生成物の原子系における対応原子にマッチングさせるコンピュータを用いる方法及びシステムを提供することである。 - 特許庁
In an opening 3 of the sputter source 1, a constricted part 20 that prevents the reactant gas of the film deposition chamber 2 from intruding into the sputter source 1, is formed. スパッタ源1の開口部3には、成膜室2の反応ガスがスパッタ源1内へ侵入するのを防止する括れ部20が形成されている。 - 特許庁
In the vapor-phase reactor (2), a raw material compound (A), for example, hydrogen chloride and oxygen are allowed to react with each other at a temperature ≥200°C and hydrochloride is obtained as a reactant (B). この気相反応器(2)では、原料化合物(A)、例えば塩化水素および酸素を200℃以上で反応させて反応物(B)として塩素を得る。 - 特許庁
The cell stack structure 1 is provided with a gas passage 11 for supplying reactant gas G to cells 2, and a medium passage for supplying a temperature adjusting medium to the cells 2. セルスタック構造体1に、反応ガスGをセル2に供給するガス通路11と、温度調節媒体をセル2に供給する媒体通路とを設ける。 - 特許庁
To provide a method of producing addition product of a compound containing SiH group onto a reactant having one double bond in an aqueous media. 1つの二重結合を有する反応体にSiH基を含む化合物を付加した付加物を、水性媒体中で製造する方法を提供する。 - 特許庁
The pharmaceutical composition contains a reactant effective for inducing an immunological response to an amyloid component in a patient, and a pharmaceutical excipient therefor. 患者においてアミロイド成分に対する免疫応答を誘導するのに有効な作用物質および製薬学的賦形剤を含んで成る製薬学的組成物。 - 特許庁
To start up the fuel cell at temperatures below freezing point and to suppress the amount of use of the reactant gas and power consumption amount to the minimum necessary. 氷点以下の温度で燃料電池を確実に起動させると同時に、反応ガスの使用量と電力消費量を必要最小限に抑える。 - 特許庁
The reactant gas used by this fuel cell is supplied to the single cell through a supply manifold, and ejected from the single cell through a discharging manifold. この燃料電池で使用される反応ガスは、供給マニホールドを介して単セルに供給され、単セルから排出マニホールドを介して排出される。 - 特許庁
Third supply ports 9, 10 for supplying non-reactant into the reaction chamber 1 are provided between the second supply port 7 and the first supply port 8. 第2の供給口7と第1の供給口8との間に反応室1内に非反応物を供給する第3の供給口9、10を設ける。 - 特許庁
To provide a fuel cell separator which controls a leakage of a reactant gas or the like directly through a gap of a grooved separator used in a fuel cell and controls a deterioration of a cell performance. 燃料電池において用いられる直接溝付セパレータの隙間を介した反応ガスなどのリークを抑制し、電池性能低下を抑制する。 - 特許庁
Because of this, moisture content in the humidification member 20n is made variable, and the humidified state of the reactant gas prior to the power generation supplied to the fuel cell 8 is controlled. このため加湿部材20nにおける湿分を可変とし、燃料電池8に供給される発電前の反応ガスの加湿状態を制御する。 - 特許庁
A first reactant gas of a Group VB element is injected into the reaction chamber, where it is chemisorbed as an atomic layer on the substrate surface. 第VB族元素の第1の反応物ガスが反応チャンバへ注入され、そこで、その元素は基板表面上に原子層として化学吸着される。 - 特許庁