「reference-mark」を含む例文一覧(966)

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  • Moreover, the amount of paper expansion/contraction can be measured with the accuracy close to a nozzle pitch by way of newly making an additional recording of the expansion/contraction reference mark on the first surface and detecting the position of the mark recorded additionally in corresponding with the non-discharge detecting pattern.
    また、前記第１面に新たに伸縮基準マークを追加記録し、当該追加記録したマークの位置を不吐検知パターンと対応させて検出することでノズルピッチに近い精度で用紙伸縮量を計測できる。 - 特許庁
  • Based on the position information on the central position of a reference mark set beforehand and the position information on the central position of each substrate mark F1-F4, a corrected position at which the amount of a positional slippage becomes minimum is calculated by the image processing device.
    画像処理装置で、あらかじめ設定した基準マークの中心位置の位置情報と、各基板マークＦ１〜Ｆ４の中心位置の位置情報とに基づいて、位置ずれのずれ量が最も小さくなる補正位置を演算する。 - 特許庁
  • Where, in the case of a mark the registration of which (by reference to the date of application for registration) becomes due for renewal, the mark is registered at any time within 6 months before the date on which renewal is due, the registration may be renewed by the payment of .
    ある標章が(登録出願日を基準として)登録の更新時期を迎えており，，当該標章が更新期限前6カ月以内に登録された場合には，当該登録は次の支払いによって更新される。 - 特許庁
  • In the meantime, a reference profile 94, namely the distribution of pixel values on a straight line, crossing the corresponding edge, is acquired from the alignment mark in a reference image acquired at a high resolution in advance, and a pixel value, corresponding to the position of the edge in the reference profile 94, is obtained as the threshold.
    一方、予め高解像度にて取得された参照画像中のアライメントマークから対応するエッジを横断する直線上の画素値の分布である参照プロファイル９４が取得され、参照プロファイル９４中のエッジの位置に対応する画素値が閾値として求められている。 - 特許庁
  • The inside of the area to be machined is machined based on the positional information of the reference mark corresponding to the area to be machined arranged in the machinable area; the positions of the reference marks corresponding to other areas to be machined later are measured and the positional information of the reference marks is stored.
    加工可能領域内に配置された被加工領域に対応する基準マークの位置情報に基づいて、当該被加工領域内の加工を行うとともに、後に加工すべき他の被加工領域に対応する基準マークの位置を計測し、当該基準マークの位置情報を記憶する。 - 特許庁
  • In the comparison step, a tool microscope 31 is used to observe the mark from the convex lens surface of the reference lens through the hole of the lens holder, and the actual fitting position of the lens holder is compared with the reference position of the reference lens to confirm the fitting accuracy of the lens holder.
    上記比較ステップは、工具顕微鏡３１を用いて、基準レンズの凸側レンズ面の側からレンズホルダの中空状孔を通して上記印を観察し、レンズホルダの実際の取付位置と基準レンズの基準位置とを比較して、レンズホルダの取付精度を確認する。 - 特許庁
  • The measuring device has a mechanism of allowing an imaging element 38A and/or a lens 38B possessed by an imaging means 38 for measuring the position of a reference mark formed on a work piece, to be rotated and fixed, and has a correcting means 70 to correct a distortion to a minimum, so as to improve the position measurement accuracy of the reference mark.
    ワークに形成された基準マークの位置を計測するための撮影手段３８が有する撮像素子３８Ａ及び／又はレンズ３８Ｂを、回動可能及び固定可能にして、歪み量が最小となるように補正する補正手段７０とを備え、基準マークの位置計測精度を向上させる。 - 特許庁
  • A control microcomputer 30 calculates a difference of a position PL2 of a mounter reference mark 27 in movement of a beam 4A at the highest speed from a position PL3 of the mounter reference mark 27 in the movement at the lowest speed, and an operation microcomputer 31 stores a half value of the difference in its own storage means as an offset value for correcting image incorporation timing.
    ビーム４Ａの最高速度移動時での装置基準マーク２７の位置ＰＬ２と最低速度移動時での装置基準マーク２７の位置ＰＬ３との差を制御マイコン３０が計算して、その差の半分の値を画像取込タイミングを補正するオフセット値として、操作マイコン３１が自己の記憶手段に格納させる。 - 特許庁
  • This manufacturing method comprises a process to deposit a thin film 12 on the surface of a base material 11, a process to form an exposing position reference mark 21 having the particular shape on the thin film, a process to form a resist layer 13 on the thin film and exposing position reference mark and a process to execute pattern exposure of the resist layer using an electron beam drawing apparatus.
    基体11の表面に薄膜12を堆積する工程と、薄膜上に特定の形状を有する露光位置参照マーク21を形成する工程と、薄膜及び露光位置参照マーク上にレジスト層13を形成する工程と、レジスト層を電子ビーム描画装置を用いてパターン露光を行う工程とを有する。 - 特許庁
  • The steering correcting device allows the automated guided vehicle 31 to travel along its original travel course with high precision by laying an electric conductor 35 as a reference mark along the original travel course, feeding an alternate signal before actual operation is started and detecting it by electromagnetic sensors 33 and 34 as reference mark detection sensors.
    実運用開始前に、本来の走行コースに沿って基準マークである電線３５を敷設して交流信号を供給し、それを基準マーク検出センサである電磁センサ３３，３４によって検出することにより、無人搬送車３１を高精度で本来の走行コースに沿って走行させる。 - 特許庁
  • In relation to a certification mark, the reference in section 3(1) of this Ordinance (meaning of “trade mark”) to distinguishing goods or services of one undertaking from those of other undertakings shall be construed as a reference to distinguishing goods or services which are certified from those which are not.
    証明標章に関しては，本条例第3条(1)(「商標」の意味)における1事業の商品又はサービスを他の事業の商品又はサービスから識別することへの言及は，証明された商品又はサービスを証明されていない商品又はサービスから識別することへの言及と解釈する。 - 特許庁
  • If the reproduction of a registered trade mark in a dictionary, encyclopedia or similar reference work gives the impression that it constitutes the generic name of the goods or services for which the trade mark is registered, the publisher of the work shall, at the request of the proprietor of the trade mark, have to ensure that the reproduction of the trade mark at the latest in a new edition of the publication is accompanied by an indication that it is a registered trade mark.
    辞書，百科辞典又はそれに類似する参考図書に記載されている登録商標の複製が，当該商標の登録に係わる商品又はサービスの普通名称であるとの印象を与える場合において，商標所有者からの請求があったときは，その出版物の発行者は遅くとも新版の発行時までに，当該商標の複製に，それが登録商標である旨を付記するようにしなければならない。 - 特許庁
  • in relation to the goods or services uses a trade mark or mark or trade description in any sign, advertisement, invoice, catalogue, business letter, business paper, price list or other commercial document and goods are delivered or services are rendered to a person in pursuance of a request or order made by reference to the trade mark or mark or trade description as so used.
    商品又はサービスに関して，標識，広告，送状，商品目録，営業書簡，営業文書，価格表，その他の取引書類に商標若しくは標章又は取引表示を使用する者であって，かつ，使用された商標若しくは標章又は取引表示に言及してされた要請又は注文に応じて，商品を引き渡し又はサービスを提供する者 - 特許庁
  • (3) In this section references in relation to goods to the registered proprietor, to a registered user, and to the registration of a trade mark shall be construed, respectively, as references to the registered proprietor of the trade mark, to a registered user of the trade mark and to the registration of the trade mark in respect of those goods and the expression “upon” includes, in relation to goods, a reference to physical relation to the goods.
    (3) 本条において，商品に関してある商標の登録所有者，登録使用者及び登録というときは，それぞれ，それらの商品に関係する当該商標の登録所有者，当該商標の登録使用者及び当該商標の登録をいうものとし，かつ，「商品に」というときは，当該商品への物理的関係も含めていうものとする。 - 特許庁
  • (1) In this section, references in relation to goods, to the registered proprietor, to a registered user and to the registration of a trade mark shall be construed, respectively, as references to the registered proprietor of the trade mark, to a registered user of the trade mark and to the registration of the trade mark, in respect of those goods, and “on” includes, in relation to goods, a reference to physical relation to the goods.
    (1) 本条において，商品，登録所有者，登録使用者及び商標の登録に関する言及はそれぞれ，それらの商品に関する，当該商標の登録所有者，当該商標の登録使用者及び当該商標の登録と解されるものとする。また，「関する」は，商品について当該商品との物理的関係性への言及を含む。 - 特許庁
  • When solder is printed to the mounting surface 1a of the printed circuit board 1; a second alignment mark 9 by solder is printed at the same time on a preliminary mark 6, and displacement of the component to be mounted for the solder can be restrained by correcting the mounting location of the component to be mounted for the solder, with reference to this second alignment mark 9.
    プリント配線基板１の実装面１ａに半田を印刷するときに、予備マーク６上に半田による第２のアライメントマーク９を一緒に印刷し、この第２のアライメントマーク９を基準にして半田に対する実装部品の搭載位置を補正させることで半田に対する実装部品の位置ずれを抑制できる。 - 特許庁
  • Further, this method includes a step in which a shift in the calibration mark between the first position and the second position is determined and a step in which distance between a reference position and the calibration mark is determined based on the shift in the calibration mark, the offset distance, and the focal length of the sensor.
    この方法はさらに、上記第１の位置と上記第２の位置との間の較正マークにおけるずれを算定するステップと、上記較正マークにおけるずれ、上記オフセット距離、および上記センサの焦点距離に基づいて参照位置と上記較正マークとの間の距離を算定するステップとを含む。 - 特許庁
  • Subject to this Part, the provisions of this Act relating to trade marks (other than sections 8 and 26, paragraph 27 (1) (b), sections 33, 34 and 41, sections 121 and 127, Part 9 - Removal of trade mark from Register for non-use and Part 17 - Defensive Trade Marks) apply to certification trade marks and so apply as if a reference to a trade mark included a reference to a certification trade mark.
    この部に従うことを条件として，商標に関する本法の規定(第8条，第26条，第27条 (1) (b)，第33条，第34条，第41条，第121条，第127条，第9部－不使用による登録簿からの商標の抹消，及び第17部－防護商標，を除く)を証明商標に適用するものとし，適用に際しては，商標への言及は証明商標への言及を含んでいるものとみなす。 - 特許庁
  • A reference position of the mask is computed by adjusting the focus of an imaging device 16 in such a manner that the number of pixels of an alignment mark M2 on the mask observed in the image is equal to a preset reference threshold or larger than the threshold.
    画像でのマスク側のアライメントマークＭ２の画素数が、予め設定した基準閾値と一致若しくは当該基準閾値以上となるように撮像装置１６の焦点を調整してマスク側の基準位置を演算する。 - 特許庁
  • A reference mark adding section 130 adds a reference line to the left end of print image data stored in a print image memory 120 and a head section 150 prints the print image data on a print sheet 800 through a print section 140.
    入力された印刷画像メモリ１２０に記憶されている印刷用イメージデータに、基準マーク付加部１３０で左端に基準線を付して、印刷部１４０を介してヘッド部１５０より印刷用紙８００に印刷する。 - 特許庁
  • And, a reference position determining part 53 finds the reference position to a plurality of FPC on the conveyance tray 8, based on a plurality of object marks, in which the object mark which produces the position deviation is excepted from the four object marks.
    そして、基準位置決定部５３では４個の対象マークから位置ズレが生じた対象マークを除外した複数の対象マークに基づいて搬送用トレイ８上の複数のＦＰＣに対する基準位置が求められる。 - 特許庁
  • To provide an automatic tool mounting device and sucking tool automatic mounting method for a spectacle lens that can automatically specify a mounting position of the sucking tool without reference to whether a reference mark is available.
    基準標識の有無に拘わらず自動的に吸着治具の装着位置を特定することが可能な眼鏡レンズ用吸着治具自動装着装置及び眼鏡レンズ用吸着治具自動装着方法を提供すること。 - 特許庁
  • After the surface of the foil 4 is roughened, an operator visually confirms the mark 6 wit X-rays which passed via the foil 4 and resin layer 3, corrects an irradiation position with the mark 6 as a reference and the irradiates a laser beam L.
    この金属箔４の表面を粗面化処理した後、基準マーク６を金属箔４及び接着樹脂層３を透してＸ線で視認すると共にこの基準マーク６を基準にして照射位置の補正をしてレーザ光Ｌを照射する。 - 特許庁
  • To measure the position of an alignment mark with higher precision by a method of measuring the position of the alignment mark provided in a drawing surface indicative of a reference for the drawing position of an image when the image is drawn on the drawing surface by a modulating means.
    変調手段により描画面上に画像を描画する際の画像の描画位置の基準を示す描画面上に設けられたアライメントマークの位置を測定する方法において、より高精度にアライメントマークの位置を測定する。 - 特許庁
  • On the content list, an owned machine license mark SM (a reference mark) is put down on an owned machine ID out of licensing equipment IDs for the contents, therefore making it possible to distinguish the owned machine ID from other licensing equipment IDs and check the condition of licensing the content to be used.
    また、コンテンツリスト上には、各コンテンツの許諾機器ＩＤのうち、自機ＩＤには自機許諾マークＳＭ“※”が併記されるので、自機ＩＤと他の許諾機器ＩＤとを区別してコンテンツ利用許諾状態を確認することができる。 - 特許庁
  • Based on the evaluation result for the player's input that is conducted by comparing a reference timing corresponding to a specific instruction mark and the input timing of the player, the instruction mark set to a non-display state is set to a display state from the non-display state.
    特殊指示マークに対応する基準タイミングとプレーヤの入力タイミングとを比較したプレーヤの入力評価結果に基づいて、非表示状態に設定されている指示マークを、非表示状態から表示状態に切り替える。 - 特許庁
  • At the reference test i.e. wherein a tension is T_0, is performed no-load to the belt 1, a time t_A0 and a time t_B0 are measured, based on the detections by the front reflection mark 3 and the rear reflection mark 4 by the front optical sensor 5 and the rear optical sensor 6.
    張力Ｔ_０に設定して無負荷でベルト１を走行させる基準試験で、前光センサ５と後光センサ６による前反射マーク３と後反射マーク４の検知に基づいて時間ｔ_Ａ０と時間ｔ_Ｂ０を計測する。 - 特許庁
  • (2) No person shall affix to any certificate pertaining to the calibration of measuring instruments or the valuing of reference materials (hereinafter referred to as "calibration, etc. of measuring instruments") a mark set forth in the preceding paragraph or any mark that is confusingly similar thereto, except in the case prescribed in the said paragraph.
    ２　何人も、前項に規定する場合を除くほか、計量器の校正又は標準物質の値付け（以下「計量器の校正等」という。）に係る証明書に同項の標章又はこれと紛らわしい標章を付してはならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • A plurality of noise information are obtained by imaging a plurality of areas in regions RR1, RR2 in each of which a mark or the like on a reticle R is not formed, and in regions WR1, WR2 in each of which mark on a reference board WFB is not formed.
    レチクルＲ上のマーク等が形成されていない領域ＲＲ１，ＲＲ２及び基準板ＷＦＢ上のマークが形成されていない領域ＷＲ１，ＷＲ２内の複数箇所を撮像して複数のノイズ情報を得る。 - 特許庁
  • To provide a position detection system easily correcting the current position and azimuth of a mobile object only by detecting one reference mark.
    １つの基準マークを検出するだけで移動体の現在位置及び方位角を容易に校正することができる位置検出システムを提供することを課題とする。 - 特許庁
  • On the mark stand, reference chips 114 and 115 provided with a plurality of marks 4a_1, 4a_2, 4a_3, 4b_1, 4b_2, and 4b_3 having different surface height are disposed.
    マーク台には、表面の高さが異なる複数のマーク４ａ_１、４ａ_２、４ａ_３、４ｂ_１、４ｂ_２、４ｂ_３が設けられた基準チップ１１４、１１５が配置されている。 - 特許庁
  • To provide a color code target that facilitates measurement of a reference position of the target, mark detection, and color code identification when an opening is formed at the center.
    中心に開孔を設ける場合に、ターゲットの基準位置の測定が容易であり、マークの検出及びカラーコードの判別が容易であるカラーコードターゲットを提供する。 - 特許庁
  • To reduce the number of processes when entering identification information into a wafer by utilizing photolithography with an alignment mark formed first as a position reference.
    ウェハに対して、最初に形成されるアライメントマークを位置の基準として、フォトリソグラフィを利用して識別情報を記入する場合において、工程数を少なくする。 - 特許庁
  • The camera 50 images a reference mark 51 printed on the sheet P supported onto the conveyor 13 and finely regulates positioning based on imaged data.
    ＣＣＤカメラ５０は搬送部１３上に支持された印刷用紙Ｐに印刷された基準マーク５１を撮像し、この撮像データに基づき位置決めの微調整が行なわれる。 - 特許庁
  • When the three- dimensional image is synthesized from the image of the cut surface of the lamina sample 11, the alignment of each image is performed using the reference mark 12 applied to the carrier tape 2.
    各薄片試料１０の切断面の画像から三次元イメージを合成する際、キャリアテープ２に付けられた基準マーク１２を用いて各画像の位置合わせを行う。 - 特許庁
  • The FCT 30 inputs an inspection signal equivalent to an image signal obtained when a CIS reads a black round mark for denoting a reference position of the CIS to the PCB 12.
    ＦＣＴ３０は、ＣＩＳの基準位置を示す黒丸マークをＣＩＳにて読取ったときに得られる画像信号に相当する検査用信号をＰＣＢ１２に入力する。 - 特許庁
  • The observation camera 50b observes the reference mark 105b on the substrate side through an observation window 17b arranged in a position apart from the plurality of openings 12 of the mask 10.
    観察用カメラ５０ｂは、マスク１０の複数の開口１２から離れた位置に設けられた観察用窓１７ｂを介して基板側の基準マーク１０５ｂを観察する。 - 特許庁
  • To reduce downtime, while reducing the deterioration in consumables by properly extending the timing of a continuous printing, even in an image forming apparatus for detecting a reference mark.
    基準マークの検知を行う画像形成装置においても、連続印刷のタイミングを適宜延期することで、消耗品の劣化を低減しつつダウンタイムを減少する。 - 特許庁
  • When a robot takes out the wafer holder 2 from a holder rack 7 and mounts on a wafer holder stage 5, mark detectors 4a and 4b detect positions of reference marks 3a and 3b.
    ロボットにより、ホルダラック７からウェハホルダ２が取り出されてウェハホルダステージ５に載置されると、マーク検出部４ａ、４ｂが基準マーク３ａ、３ｂの位置を検出する。 - 特許庁
  • The observation camera 50a observes the reference mark 105a on the substrate side through an observation window 17a arranged in a position apart from a plurality of openings 12 of the mask 10.
    観察用カメラ５０ａは、マスク１０の複数の開口１２から離れた位置に設けられた観察用窓１７ａを介して基板側の基準マーク１０５ａを観察する。 - 特許庁
  • The existence/absence of the data mark 33 is judged with the position on a straight line obtained by connecting the centers of the marks 32L and 32R at its left and right edges as a reference.
    データマーク３３の有無は、その左右の端部のタイミングマーク３２Ｌと３２Ｒの中心を結んだ直線上の位置を基準にして、その有無が判定される。 - 特許庁
  • At least, the photographing timing by the camera 18 is changed (advanced or retarded) corresponding to the misalignment in the Y direction, and the reference mark is again photographed by the camera 18.
    最後にＹ方向ズレ量の分だけカメラ１８による基準マークの撮影タイミングを変更（進める／遅らせる）し、再度カメラ１８にて基準マークを撮影する。 - 特許庁
  • The reference mark is configured with certain length or boundary spacing dimensions determined based on certain fiber optic receiver channel aperture dimensions in the readhead.
    基準マークは、読取りヘッドにおける一定の光ファイバレシーバチャネル開口寸法に基づいて決定される一定の長さまたは境界間隔寸法を用いて構成される。 - 特許庁
  • To provide a finder device capable of accurately displaying a reference mark such as crossed lines or a crossed lines with a divided angle scale regardless of the state fluctuation of an optical system.
    十字線や分角目盛付き十字線などの基準マークを、光学系の状態変動に依らず正確に表示することのできるファインダ装置を提供する。 - 特許庁
  • Consequently, the high-contrast transmission image of the reference mark 3 can be obtained to thereby perform high-precision boring of the guide hole 6 and the through hole 5 etc.
    これにより，高コントラストな基準マーク３の透過画像を得ることができ，高精度なガイド穴６の穴あけ加工及びスルーホール５等の穴あけ加工を行うことができる。 - 特許庁
  • The analog limiter 103 limits an amplification maximum value of a signal inputted to the adaptive equalization filter circuit 105 so that it becomes almost equal to a reference signal mark level.
    アナログリミッタ１０３は、適応等化フィルタ回路１０５に入力される信号の振幅最大値を、基準信号マークレベルと同程度になるように制限する。 - 特許庁
  • Where the Registrar allows the application for invalidation, he shall record the invalidation of the registration of the mark under Section 29 (1) and publish a reference thereto.
    登録官は無効の申立てを認めるとき、登録管は産業財産法第29条 (1)に基づき商標の登録の無効を記録し、これを公告しなければならない。 - 特許庁
  • When there is no pattern shape of the coincidence probability equal to or higher than the reference value, the pattern shape having an alignment mark is extracted from the photographed image and additionally registered in the candidate pattern group.
    基準値以上の一致確率のパターン形状が無かった場合、撮影画像からアラインメントマークのパターン形状を抽出し、候補パターン群に追加登録する。 - 特許庁
  • Next, the position of the wafer 26 is adjusted based on position information of the reference mark 30 obtained by imaging and the wafer 26 is irradiated with the exposure light 12 via a mask 20 (S8).
    次いで、撮像で得られた基準マーク３０の位置情報に基づいて、ウェハ２６の位置を調整し、マスク２０を介して露光光１２をウェハ２６に照射する（Ｓ８）。 - 特許庁
  • A reference level for adjusting an irradiated light level of a light emitting element 10 by a stopping time light quantity control part 8, is set to a level higher by a significant difference than a mark detecting threshold value level.
    停止時光量制御部８による発光素子１０の照射光レベルを調整する基準レベルを、マーク検出用閾値レベルより有意の差だけ高いレベルとする。 - 特許庁
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