「reflection analysis」を含む例文一覧(95)
＜前へ 1 2- To conduct elementary analysis in a sample electrode surface and in a site deeper than the surface without carrying out etching, in analysis using total reflection photoelectron spectroscopy.
エッチングを行うことなく、全反射光電子分光法を用いた分析で、試料極表面とそれより深いところの元素分析を行うことができる試料分析方法および試料分析装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a fluorometric analysis system capable of heightening measurement accuracy by suppressing autofluorescence of a plate caused by exciting light which is stray light at reflection in the plate.
プレート内部で反射し、迷光となった励起光により発生するプレートの自家蛍光を抑え、測定精度を高めた蛍光分析装置を提供する。 - 特許庁 - The x-ray analysis apparatus has a reflection mirror having an x-ray transmission part between an x-ray source and a sample stage irradiated with an x-ray, and has a light condensing optical element for x-ray between the x-ray source and the reflection mirror.
Ｘ線源とＸ線が照射される試料台との間にＸ線透過部を有する反射ミラーを有し、前記Ｘ線源と反射ミラーの間に、Ｘ線集光用光学素子を有するＸ線分析装置。 - 特許庁 - X rays are irradiated to a flocculate thus obtained at an angle causing them to be totally reflected, and the radiated X rays are detected to perform total reflection fluorescent X-ray analysis (S105).
この凝集物にＸ線を全反射する角度で照射し、放射Ｘ線を検知することにより、全反射蛍光Ｘ線分析を行う（Ｓ１０５）。 - 特許庁 - The absorbance ratio (D_698/D_2850) obtained from the infrared absorption spectrum on the surface of the particle measured by an infrared spectroscopic analysis of the total reflection absorption is in the range of 0.4-5.0.
全反射吸収の赤外分光分析により測定された粒子表面の赤外線吸収スペクトルから得られる吸光度比（Ｄ_698／Ｄ_2850）が０．４〜５．０の範囲にある。 - 特許庁 - To provide a new total reflection X-ray fluorescence analysis method and a device for it capable of achieving an ultramicroanalysis with excellent energy resolution and detection efficiency.
エネルギー分解能および検出効率ともに優れた、超微量分析を実現することのできる、新しい全反射蛍光Ｘ線分析法およびその装置を提供する。 - 特許庁 - By using this total reflection fluorescent X-ray analyzer and its method, a sample solution 70 is dripped onto and dried on the dried trace 41 on the drip substrate 15, to perform total reflection fluorescent X-ray analysis.
この全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板１５の合成樹脂点滴乾燥痕４１に試料溶液７０を点滴乾燥させて全反射蛍光Ｘ線分析を行う全反射蛍光Ｘ線分析装置およびその方法。 - 特許庁 - An analysis device calculates deformation and movement of the organic sample 11 from starting time to finishing time of photographing by the reflection electron microscope 4 based on images photographed by the reflection electron microscope 4 and the transmission electron microscope 5.
解析装置は、反射型電子顕微鏡４及び透過型電子顕微鏡５の撮影した画像に基づいて、反射型電子顕微鏡４の撮影開始時刻から撮影終了時刻までの生体試料１１の変形及び運動を計算する。 - 特許庁 - A sound reproducing apparatus includes an analysis section having a microphone for converting sound output from a sub-speaker and its reflection sound into electric signals, and analyzing the sound reflection characteristics by comparing a sound signal supplied to the sub-speaker with an electric signal output from the microphone, wherein the phase of a sound signal supplied to the sub-speaker and the main speaker is corrected according to the result of analysis.
サブスピーカが出力した音声と、その反射音を電気信号に変換するマイクを有し、 サブスピーカに供給される音声信号と、マイクが出力する電気信号を比較し、音響反射特性を分析する分析部を有し、 分析結果に応じて、サブスピーカおよびメインスピーカに供給される音声信号の位相を補正する。 - 特許庁 - To provide a radar reflection cross section analysis device or the like analyzing a radar reflection cross section of an object when emitting an electric wave of a specific frequency to the object of an arbitrary shape incorporated with a frequency selection plate from an arbitrary incident angle.
周波数選択板を組み込んだ任意形状の物体に対して任意の入射角度から特定の周波数の電波を放射した際の物体のレーダ反射断面を解析するレーダ反射断面解析装置等を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a total reflection fluorescence X-ray analyzer which can significantly improve the utilization efficiency and the measuring limit of X rays by using a secondary target method ideal for the analysis of light elements.
軽元素分析に好適な２次ターゲット法を用いて、Ｘ線の利用効率および測定限界を大幅に向上できる全反射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁 - A beat signal, where a transmission wave to a forward obstacle and a reflection wave are synthesized, is passed through an LPF 7 or the like, and the discrete value data of the beat signal being sampled by an A/D converter 9 using a frequency analysis processor 10 are processed by a frequency analysis method to extract a spectrum.
前方の障害物への送信波と反射波が合成されたビート信号は、ＬＰＦ７などを経て、周波数解析処理器10で、A/D変換器９によりサンプリングされたビート信号の離散値データを、周波数解析手法で処理してスペクトラムを抽出する。 - 特許庁 - Then, a propagation route of the radio wave reaching a measuring part is analyzed geometrically by ray tracing processing (112), and the propagation route is specified by the measurement result and the analysis result (114, 116), and a laser beam is irradiated toward a reflection part on the propagation route of the analysis result (118).
次に、レイトレーシング処理により測定部に至る電波の伝搬経路を、幾何学的に解析し（１１２）、計測結果と解析結果から伝搬経路を特定し（１１４，１１６）、その解析結果の伝搬経路上の反射部位へ向けてレーザ光を照射する（１１８）。 - 特許庁 - To provide an earth crust survey system and method capable of discriminating a direct arrival wave from a focus to an observation point from a wave from a reflection face of an earth crust, in a substantially real time, without complicating analysis.
解析を複雑にすることなく、震源から観測点までの直達波と地殻の反射面からの波との区別をほぼリアルタイムで行うことができる地殻探査装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - The liquid condensation analysis portion 32 analyzes the condensation of liquid on an upper surface of the condensation promoting portion 12 on the basis of at least either one of the reflection light and the transmission light received by the light-receiving portion 22.
液体凝縮解析部３２は、受光部２２により受光された反射光および透過光の少なくとも一方にもとづいて結露促進部１２の上面の液体の凝縮を解析する。 - 特許庁 - The radical species of the substrate gas are captured by the sample substrate 2 with Ar gas as the matrix, and this is measured by a reflection type infrared absorption spectrometer, whereby the analysis of radical species can be performed.
基質ガスのラジカル種はＡｒガスをマトリックスとして試料基板２に捕捉され、これを反射型赤外吸収分光器で測定することにより、ラジカル種の分析を行うことができる。 - 特許庁 - To provide a thermophysical property analyzer and a method for thermophysical property analysis hardly affected by the reflection light of a heating light in measuring the reflection light intensity of a detection light even when the thermophysical property of a sample is analyzed by irradiating the same surface of a measuring object with the heating light and the detection light.
被測定物の同一面に加熱光及び検出光を照射して当該試料の熱物性を解析しても、検出光の反射光強度の測定において加熱光の反射光の影響を受け難い熱物性解析装置及び熱物性解析方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a measuring instrument and a measuring method capable of detecting Rayleigh light including feeble interface reflection information by the same one line of detection optical system, while measuring a feeble Raman scattered light by a detector, in order to impart the interface reflection information required for depth-directional analysis of a light transmissive thin film sample.
光透過性の薄膜試料の深さ方向解析に必要な界面情報を付与するために微弱なラマン散乱光を検出器で測定しつつ、微弱な界面反射情報を含んだレイリー光を同一の１系統の検出光学系により検出可能な測定装置および測定方法を提供する。 - 特許庁 - An analysis part 23 of the image projector 10 calculates the position of the image pointed the pointing/reflection means 21 on the basis of the timing or the like of a change in the intensity of the light detected by the light receiving part 22.
画像投影装置１０の解析部２３は、受光部２２によって検出された光の強度変化のタイミングなどに基づいて、指示・反射手段２１によって指示された画像の位置を算出する。 - 特許庁 - To provide a pulse wave analysis apparatus capable of suppressing inaccuracy in detecting pulse waves caused by the nonlinearity of the change of the pressure/volume of blood vessels, and more accurately acquiring the amplitude of an ejection waves and a reflection wave of the pulse waves.
血管の圧‐容積変化の非線形性に起因する脈波の検出の不正確さを抑制できて脈波の駆出波と反射波の振幅をより高精度に得ることができる脈波解析装置を提供する。 - 特許庁 - A control analysis apparatus 2 measures the three-dimensional configuration of the specimen 5 and measures the rotational angle of the rotating table 6 by the traveling distance of the project 7 based on a reflection signal from the specimen 5 and the projection 7.
制御解析装置２は被検体５と突起物７からの反射信号に基づき、被検体５の３次元形状を計測すると共に突起物７の移動距離によって回転テーブル６の回転角度を計測する。 - 特許庁 - In the data analysis method in the total reflection spectroscopic measurement, a value q based on a ratio P of reference amplitude R_ref to sample amplitude R_sig and a phase difference Δ between a reference phase Φ_ref and a sample phase Φ_sig is found out.
この全反射分光計測におけるデータ解析方法では、リファレンス振幅Ｒ_ｒｅｆとサンプル振幅Ｒ_ｓｉｇとの比Ｐ、及びリファレンス位相Φ_ｒｅｆとサンプル位相Φ_ｓｉｇとの位相差Δに基づく値ｑを求めている。 - 特許庁 - To provide a total reflection fluorescent X-ray analysis method and a device for use in the same, which detect or quantitatively analyze a metal contaminant element on the surface of a silicon wafer at high sensitivity and which can accurately obtain the positional information thereof.
シリコンウエハ表面の金属汚染物元素を高感度で検出あるいは定量分析し、その位置情報を正確に得ることができる全反射蛍光Ｘ線分析方法及びそのために使用する装置を提供する。 - 特許庁 - In total reflection fluorescent X-ray analysis, a collimator for specifying the incident position and angle of an X-ray and a superconducting spectral element are integrated and brought close to or into contact with a sample, to thereby remove necessity of each independent alignment for the sample, the spectral element and the incident X-ray when performing the total reflection local fluorescent X-ray measurement.
本願発明においては、Ｘ線の入射位置、角度を規定するためのコリメータと超伝導分光素子を一体化し、これを試料に近接あるいは接触させることにより、全反射局所蛍光Ｘ線測定を行うに際して試料、分光素子、入射Ｘ線各々独立のアライメントの必要性を排除した。 - 特許庁 - This biopolymer analysis chip 1 is equipped with a transparent substrate 17, a solid imaging device 3 formed by arraying double gate transistors 20 in a two-dimensional array shape on the transparent substrate 17, a reflection prevention film 35 formed on the light receiving surface of the solid imaging device 3, and spots 60, 60 scattered in a matrix form on the surface of the reflection prevention film 35.
生体高分子分析チップ１は、透明基板１７と、透明基板１７上においてダブルゲートトランジスタ２０を二次元アレイ状に配列してなる固体撮像デバイス３と、固体撮像デバイス３の受光面上に成膜された反射防止膜３５と、反射防止膜３５の表面上においてマトリクス状に点在したスポット６０，６０，…と、を具備する。 - 特許庁 - When reproducing the image of a reflection rate of 100% or more, an image forming control unit 206 controls the unit 14T to form an image, and when reproducing the image of a reflection rate of 0% or low, the unit 206 controls the unit 14X to form an image, on the basis of a result of analysis at the analyzing unit 202.
像形成制御部２０６は、解析部２０２の解析結果に基づいて、反射率が１００％以上である画像を再現する場合には、第５の画像形成ユニット１４Ｔを制御し、反射率が０％以下である画像を再現する場合には、第６の画像形成ユニット１４Ｘを制御して、画像を形成する。 - 特許庁 - To provide a reflection-photometric analytical system provided with a measuring head (10), including a radiation source (36) and a radiation detector (26) for the reflection-photometric analysis of a target surface (12) of a test object (14) especially body fluids specimen, such as urine or blood which is arranged apart from a measuring head (10) with a specific distance.
本発明は、測定ヘッド（１０）から一定距離に配置された試験対象物（１４）および特に尿または血液などの体液用試験片の標的面（１２）を反射光により分析するための、放射線発生源（３６）および放射線検出器（２６）を含む測定ヘッド（１０）を有する反射光分析システムに関する。 - 特許庁 - To provide a wave aberration measuring machine using a diffraction grating shearing interferometer for a mirror (reflection) type optical system, which can prevent the analysis of zero-order light or high-order overlapped diffracted light from becoming difficult caused by double diffraction interference.
ミラー（反射）型光学系に対する回折格子シアリング干渉計を用いた波面収差計測機において、２重の回折干渉を行うので０次光や高次の回折光が重なってしまい解析が困難になってしまうことを防止する。 - 特許庁 - To provide an analysis method which enables the reflection of actual conditions such as the shape, surface conditions and physical characteristics of a stone material, without depending on an evaluator's subjectivity and experience, and which enables the relatively accurate evaluation of stability of a dry-masonry stone fence.
評価者の主観や経験によらず、しかも、石材の形状、表面状況及び物理特性等といった実際の条件を反映させることが可能であり、比較的正確に空積み石垣の安定性を評価することができる解析方法を提供する。 - 特許庁 - Further, a color pattern including the object and a plurality of reflection objects whose spectral reflectance is clear is photographed under the same photographing illumination, the spectral radiance of the illumination is obtained by utilizing the principal component analysis to derive the spectral reflectance of the object.
また同一撮影照明にて対象物と分光反射率が明らかな複数の反射物体を含むカラーパターンを撮影し、主成分分析を利用することで撮影照明の分光放射輝度を求め、対象物の分光反射率を導出する。 - 特許庁 - The new quantitative gene expression analysis is carried out utilizing the DNA computer technique following reflection on a protocol by assaying the efficiency of substituting a DCN sequence for the information on gene expression levels.
本発明者らは、遺伝子の発現量情報がDCN配列へ置き換えられる効率を測定することにしてプロトコルに反映させた上で、新たにDNAコンピュータ技術を利用した定量的遺伝子発現解析法を行うことに想到し、本発明を完成するに至った。 - 特許庁 - Use condition information is logged and tabled when a fault occurs during the operation of the marking system (202), a trend analysis is executed based on the log (204), and a diagnostic message is displayed (206), whereby generated context reflection type fault handling is provided.
マーキングシステムの動作中に不具合が発生したとき使用状態情報をログしてテーブル化し（２０２）、そのログに基づきトレンド解析を実行して（２０４）診断メッセージを表示する（２０６）ことにより発生文脈反映型不具合対処を実現する。 - 特許庁 - To provide a cornea shape analysis apparatus capable of detecting the state of opening of eyelids of a subject by using a reflection image of the iris pattern if the difference of quantities of reflection light from the iris region and the eyelid region is not clearly discriminated, and starting the measurement when it is determined that a sufficient region on a cornea for the measurement is secured.
角膜形状解析装置において、虹彩領域とまぶた領域からの反射光量の違いを、明確に判定できない場合において、虹彩パターンの反射像を用いて被検者の開瞼状態の検知を行うことを可能にし、計測に十分な角膜上の領域を確保していると判断した場合に、計測開始を行うことができる角膜形状解析装置を提供する。 - 特許庁 - A spectral analysis method includes: a step for generating steam of a specific substance from a sample by heating the sample; a step for exposing a sampling plate where an organic polymer film having compatibility with the specific substance is formed on a reflection member reflecting an electromagnetic wave to the steam; and a step for measuring a spectrum reflected from the reflection member by irradiating the organic polymer film with the electromagnetic wave.
本発明の分光分析方法は、試料を加熱し、試料から特定物質の蒸気を発生させる工程と、蒸気中に、電磁波を反射する反射部材に特定物質と相溶性のある有機高分子膜を成膜させたサンプリングプレートを曝露する工程と、有機高分子膜に電磁波を照射し、反射部材から反射されたスペクトルを測定する工程とを有する、よう構成する。 - 特許庁 - To enable high accuracy analysis in a simple device structure, in a sensor having, in a sample cell, a light reflection type sensor device for detecting a sample in contact with a measuring light incident surface by making the sample emit the incoming measuring light as outgoing light having different physical characteristics.
測定光入射面上に接触させた試料によって、入射した測定光を異なる物理特性を呈する出射光として出射させて検出する光反射型センサデバイスを試料セル内に有するセンサにおいて、簡単な装置構成で、高精度分析を可能にする。 - 特許庁 - The light reflection material is obtained by molding the aromatic polycarbonate resin composition containing 100 pts.wt. of an aromatic polycarbonate resin (a), 3-50 pts.wt. of titanium oxide (b) and 0.01-2 pts.wt. of an ultraviolet absorber (e) whose 5% weight reduction temperature in thermogravimetric analysis is ≥300°C.
芳香族ポリカーボネート樹脂（ａ）１００重量部に対し、酸化チタン（ｂ）３〜５０重量部、熱重量分析における５％減量温度が３００℃以上である紫外線吸収剤（ｅ）０．０１〜２重量部を含む芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を成形して成る光反射材。 - 特許庁 - The inclined angle of the analytical sample is set to be brought into the total reflection angle of characteristic X-rays used in the analysis or the extraction angle near thereto, using an energy dispersion type X-ray spectrometer set to the X-ray extraction angle same to those of the wavelength dispersion type X-ray spectrometers.
波長分散形Ｘ線分光器と同一のＸ線取出し各度に設定されたエネルギー分散形Ｘ線分光器を用いて、分析に用いる特性Ｘ線の全反射角またはその近傍の取出し角度になるように分析試料の傾斜角度を設定する。 - 特許庁 - An infrared spectral analysis apparatus 1 comprises a prism 10 for full reflection including a prism substrate (germanium crystal or the like) 12 and a metal oxide film (alumina film or the like) 14 provided on a bottom face 12a of the substrate, an active electrode 32 disposed on a surface of the metal oxide film 14, a counter electrode 36 and a reference electrode 38.
赤外分光分析装置１は、プリズム基材（ゲルマニウム結晶等）１２と該基材の底面１２ａに設けられた金属酸化物膜（アルミナ膜等）１４とを備える全反射用プリズム１０と、金属酸化物膜１４の表面上に配置される作用極３２と、対極３６と、参照極３８とを備える。 - 特許庁 - The polishing device has the polishing pressure measuring method having a process of measuring and detecting polishing pressure and its distribution during polishing by comparing measured data with known data, its measuring means, and an image processing device for image-processing a two-dimensional reflection intensity image and obtaining the measured data based on strain analysis.
計測データを既知データと比較することで研磨加工中の研磨加工圧及びその分布を測定検出する工程とを有する研磨加工圧測定方法とその測定手段を具備し、又、２次元反射強度像を画像処理してひずみ解析による計測データを得るための画像処理装置とを備えるよう構成する。 - 特許庁 - To provide a method for measuring the thickness of optical disc having rapid analysis speed and precise density, through the changes in a refractive index due to a wavelength, namely, the position of the peak value of reflection light at interference space obtained through the Fast-Fourier Transformation to a spectrum, in which the refractive index is reflected in a wavelength function.
波長による屈折率の変化、つまり波長の関数で屈折率を反映したスペクトルを高速フーリエ変換を通じて得られた干渉空間での反射光のピーク値の位置を通じて、速やかな分析速度および高精密度を有した光ディスクの厚さ測定方法を提供すること。 - 特許庁 - The method for X-ray analysis of the sample includes directing of a beam of X-rays to impinge on an area of the periodic feature on the surface of the sample, and receiving the X-rays scattered from the surface in a reflection mode so as to detect a diffraction spectrum in the scattered X-rays as a function of the azimuth.
試料をＸ線解析する方法は、試料の表面上の周期構造の領域に衝突するようにＸ線ビームを方向付け、方位角の関数として散乱Ｘ線の回折スペクトルを検出するように反射モードで表面から散乱したＸ線を受け取ることを含む。 - 特許庁 - Wavelength-variable laser having sufficient spectrum intensity or light emitted from a wide-band light source is guided to a waveguide section, such as an optical fiber probe, for irradiating the skin of a human body with light in a near-infrared region having a wavelength of approximately 1,500-1,800 nm, and light being subjected to diffusion reflection is dispersed before a PLS analysis is made.
波長１，５００〜１，８００ｎｍ程度の近赤外領域に十分なスペクトル強度を有する波長可変レーザ或いは広帯域光源から射出した光を光ファイバプローブ等の導波部へ導き人体の皮膚に照射し、拡散反射を受けた光を分光した後にＰＬＳ解析を施す。 - 特許庁 - To correct the deviation of the optical path length easily and in real time between a waveguide through which measuring light and reflection light pass and a waveguide through which reference light passes caused by the variation of ambient temperature of an interferometer in an optical tomographic imaging apparatus to obtain a tomographic image by performing the frequency analysis of the interference light of the measuring light and reference light.
測定光と参照光の干渉光の周波数解析を行うことにより断層画像を取得する光断層画像化装置において、干渉計の周辺温度の変化に起因して生じる、測定光と反射光が通る導波路および参照光が通る導波路の間の光路長のずれを、リアルタイムで容易に補正可能とする。 - 特許庁 - Thus, the angle or position of the member can be change, by adjusting at least the beam- refracting device or the final reflection mirror unit or simultaneously adjusting the scanning light source and the beam-refracting device, the total optical path of the image data is changed to obtain scanning effects in which various analysis degrees differ.
このようにして少なくとも当該光線屈折装置、または当該最終反射鏡ユニットを調整することによるか、またはスキャン用光源と光線屈折装置を同時に調整することにより、部材の角度または位置が変更され、画像データの総光路は変更され各種の解析度が異なるスキャン効果が得られる。 - 特許庁 - The wristwatch type personal digital assistant includes: a near infrared ray irradiation part 11 for irradiation a human body with a near infrared ray; a fatigue analyzing part 12 for analyzing the degree of fatigue by analyzing an absorption spectrum with the use of reflection light after the irradiation of the near infrared ray from the near infrared ray irradiation part 11; and a control part 6 for performing control to notify the user of the analysis result of the degree of fatigue.
本発明による腕時計型の携帯端末は、近赤外線を人体に照射する近赤外線照射部１１と、この近赤外線照射部１１から近赤外線を照射した後の反射光により吸収スペクトルを解析することによって、疲労度を分析する疲労分析部１２と、この疲労度の分析結果をユーザに通知制御する制御部６とを含むことを特徴としている。 - 特許庁
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