「reflection process」に関連した英語例文の一覧と使い方

例文

「reflection process」を含む例文一覧(392)

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ACTIVITY PROCESS REFLECTION SUPPORT SYSTEM
活動プロセスリフレクション支援システム - 特許庁
PROCESS FOR FORMING FILM AND PROCESS FOR MANUFACTURING REFLECTION MIRROR
成膜方法及び反射鏡製造方法 - 特許庁
ANTI REFLECTION ORGANIC POLYMER AND ITS PREPARATION PROCESS
有機反射防止重合体およびその製造方法 - 特許庁
To provide a process for producing a diffusion reflection plate having high reflection efficiency and desired directivity.
反射効率が高く所望の指向性を備えた拡散反射板の製造方法を提供する。 - 特許庁
Further, following the multiple reflection judging process E5, a delete process E6 where a space code judged to be multiple reflection in the multiple reflection judging process is deleted, are provided.
さらに、図１に示す例では、多重反射判定工程Ｅ５に続いて、当該多重反射判定工程によって多重反射と判定された空間コードを削除する削除工程Ｅ６を備えている。 - 特許庁
To form unevenness for reflection with a random shape by a simple process.
ランダムな形状の反射用凹凸を簡単なプロセスで形成する。 - 特許庁
Then, it is often followed by a 'Wafu'-ka (Japanization) process through reflection and digestion.
その後に、それを反省・消化した「和風」化が進むことが多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
A reflection film 3 is then formed on the rugged surface 2d of the resin layer 2 (a reflection film forming process (e)).
次に、樹脂層２の凹凸面２ｄ上に反射膜３を形成する（反射膜形成工程(ｅ)）。 - 特許庁
METHOD FOR DECREASING INFLUENCE OF REFLECTION IN EXECUTION PROCESS OF PHOTOLITHOGRAPHY METHOD
フォトリソグラフィー法の実行過程での反射の影響の低減方法 - 特許庁
REAR SURFACE REFLECTION COMPOUND SEMICONDUCTOR SOLAR CELL AND ITS MANUFACTURING PROCESS
裏面反射型化合物半導体太陽電池およびその製造方法 - 特許庁
To provide a process for producing a diffusion reflection plate having high diffusion efficiency and an excellent reflection characteristic to illumination.
拡散効率が高く照明に対する反射特性が優れた拡散反射板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a total internal reflection prism with simple manufacturing process.
製造工程の簡素化が可能な内部全反射プリズムを提供すること。 - 特許庁
In (e) process, a light reflection layer 8 is coated on the projection-like array group 7.
（ｅ）工程：凸状配列群７上に光反射層８を被覆する。 - 特許庁
This method includes a process of forming a reflection preventing film on the base substrate, a process of forming a photoresist having a prescribed pattern on this reflection preventing film, a first etching process for etching the reflection preventing film with this photoresist as a mask, and a second etching process for etching the base substrate with the reflection preventing film as a mask.
下地基板上に反射防止膜を形成する工程と、この反射防止膜上に所定パターンを有するフォトレジストを形成する工程と、このフォトレジストをマスクとして反射防止膜をエッチングする第１のエッチング工程と、反射防止膜をマスクとして下地基板をエッチングする第２のエッチング工程とを有する。 - 特許庁
A reflection permission flag RF showing whether or not a reflection calculating process is permitted is set with respect to each dot of a map 30.
反射演算処理の許可の可否を示す反射許可フラグＲＦがマップ３０の各ドットに対して設定される。 - 特許庁
The positional accuracy is improved by forming the reflection groove with the photolithographic process.
フォトリソ工程により反射溝を形成することで位置精度が向上する。 - 特許庁
When a cornea reflection image position information about a left eye is inputted to a cornea reflection image position input part 121L, a similar process is performed.
左眼の角膜反射像位置情報が角膜反射像位置入力部１２１Ｌに入力されたときも同様である。 - 特許庁
The reflection plate having satisfactory reflection characteristics can be manufactured in a reduced number of steps without performing accurate process management.
短い工程数で、精密なプロセス管理を行うことなく、良好な反射特性を持つ反射板を製造することができる。 - 特許庁
To suggest a new manufacturing process for an inclined diffuse reflection body and to propose a structure.
傾斜拡散反射体の新しい製造プロセスと構造体を提案すること。 - 特許庁
The lighting process part performs a lighting process for the first parts object based on the reflection information set in the texel of the reflection map texture, the lighting model and the light source information.
ライティング処理部は、反射マップテクスチャのテクセルに設定された反射情報と照明モデルと光源情報に基づいて第１のパーツオブジェクトのライティング処理を行う。 - 特許庁
the process in which incident radiated energy is retained without reflection or transmission on passing through a medium
放射されたエネルギーが反射や透過をせずに保たれている物理的作用 - 日本語WordNet
To provide a method for forming a reflection electrode by a simple process.
簡易な工程で反射電極を形成することが可能な方法を提供する。 - 特許庁
To provide a conductive Ag alloy reflector electrode film with an incremental reflection film which has a high reflection factor in a short wavelength region and can maintain the reflection factor even in a working process in a post-process and its production method.
短波長領域の反射率が高く、後工程での加工プロセス中でも反射率を維持でき、且つ、導電性を持つ増反射膜付きＡｇ合金反射電極膜及びその製造方法の提供。 - 特許庁
The defect detection process comprises an induction current detection type defect detection process 103 and a reflection light detection type defect detection process 104.
欠陥検出工程は、誘導電流検出式欠陥検出工程１０３と反射光検出式欠陥検出工程１０４とを有する。 - 特許庁
- Appropriate reflection of any modification of the process of credit risk management in the measurement technique
・信用リスク管理プロセスにおける変更内容の計測手法への適切な反映 - 金融庁
- Appropriate reflection of any modification of the process of market risk management in the measurement technique
・市場リスク管理プロセスにおける変更内容の計測手法への適切な反映 - 金融庁
To obtain a reflection layer with an excellent light scattering effect by a simple manufacturing process.
簡易な製造工程によって良好な光散乱効果を有する反射層を得る。 - 特許庁
In the process (5), the light-emitting member is put onto one reflection structure body for removing the InP substrate.
（５）発光部材と一方の反射構造体とを貼りつけ、ＩｎＰ基板を除去する。 - 特許庁
A reflection preventing article is produced by a process for coating a transparent film 1 with a reflection preventing paint membrane 2, a process for closely bonding a second film pervious to light to the reflection preventing paint membrane 2, a process for curing the reflection preventing paint membrane 2 by irradiation with light and a process for laminating the obtained reflection preventing treatment film to an article 5 to be treated.
透明なフィルムに反射防止塗料を薄膜状に塗布する工程と、該反射防止塗料薄膜上に光に対して透明な第二のフィルムを密着させる工程と、光の照射により反射防止塗料を硬化させる工程と、得られた反射防止処理フィルムを被処理物品に積層する工程とで構成される事を特徴とする反射防止処理物品の製造方法。 - 特許庁
To provide a reflection type liquid crystal display device having a reflection plate such that a process of forming a rugged pattern is simple and easily controlled and the plate has reflection characteristics with, good reproducibility.
凸凹形状形成工程が簡略で、かつ制御がしやすく、再現性のよい反射特性を有する反射板を備えた反射型液晶表示装置を提供することである。 - 特許庁
Consequently, a manufacturing process of the reflection member 106 becomes a simple and inexpensive process only for etching the backside of the substrate and forming a film.
これにより、反射部材１０６の製造工程は基板裏面をエッチングし成膜するだけと単純で安価な工程となる。 - 特許庁
To provide an optoelectric conversion module whose costs can be reduced by forming a reflection mirror having a high reflection factor in a simple process.
簡単な工程で高い反射率を有する反射ミラーを形成することにより低コスト化が可能な光電変換モジュールを提供する。 - 特許庁
To prevent the reflection of incident light or multiple reflection light from entering the precursor of a light-controlling layer in the production process of a liquid crystal optical device.
液晶光学素子の製造時に、入射光による反射及び多重反射光が調光層前駆体に入射するのを防止する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a reflection type liquid crystal display, with which a process is truly simplified, yield is improved, manufacturing cost is reduced, and a reflection layer capable of stably realizing high reflection characteristics is formed and to provide a highly reliable reflection type liquid crystal display.
真にプロセスの簡略化、歩留まり向上、製造コストの削減を実現でき、更に、安定して高い反射特性を実現できる反射層を形成し、信頼性の高い反射型液晶表示装置を実現する。 - 特許庁
ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA DISCHARGE THIN FILM-FORMING PROCESS, OPTICAL FILM, ANTI-REFLECTION FILM, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
大気圧プラズマ放電薄膜形成方法、光学フィルム、反射防止フィルム及び画像表示素子 - 特許庁
The reflection preventing film 18 coated on a light transmission plate 14 is formed by using a wet process.
導光板１４にコーティングされた、反射防止膜１８は、湿式法を用いて形成される。 - 特許庁
The reflection film mask pattern 3A is formed by the process of manufacturing a semiconductor on the glass surface.
反射膜マスクパターン３Ａは、ガラスの表面に半導体製造プロセスにより形成される。 - 特許庁
To provide a coating material composition for forming a reflection prevention member which has a superior reflection preventive property without performing a complicated process, to provide a manufacturing method of reflection prevention member having a superior reflection preventive property and a superior anti-scuffing property and to provide an image display provided with the reflection prevention member.
煩雑な工程を行わずに、優れた反射防止性を有する反射防止部材を形成する塗料組成物であり、さらには優れた反射防止性、優れた耐擦傷性を有する反射防止部材の製造方法および画像表示装置を提供する。 - 特許庁
In this step, the base film 3a is formed in the region where a film 5 for a reflection electrode is to be removed by etching in the succeeding process of forming the reflection electrode.
この時、該下地膜３ａは、後の反射電極形成工程時において、エッチングにより反射電極用膜５が除去される領域に形成される。 - 特許庁
To provide a novel reflection film having excellent light reflection properties, wherein resin waste deposition in a manufacturing process and production of spitting on the surface of the film will not occur.
優れた光反射性を有し、製造過程でメヤニが発生したり、フィルム表面にブツが生じることのない、新たな反射フィルムを提供する。 - 特許庁
In a process P1 and a process P2, a reflection pattern 18 is formed around a region 13A of a substrate 12, on which a spacer 16 is to be formed.
工程Ｐ1および工程Ｐ2では、基板１２のうちスペーサー１６が形成される領域１３Aの周囲に反射パターン１８を形成する。 - 特許庁
To provide a reflection/transmission type liquid crystal display in which two pixel electrodes can be formed not by a photolithographic process but by a dry process.
２つの画素電極をフォトリソグラフィ工程によらずドライプロセスにより形成可能な反射／透過型の液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
RESIN COMPOSITION FOR HARD COAT, PROCESS OF PRODUCING RESIN COMPOSITION FOR HARD COAT, AND SUBSTRATE FOR ANTI-REFLECTION COATING
ハードコート用樹脂組成物、ハードコート用樹脂組成物の製造方法、及び反射防止コーティング基材 - 特許庁
-Appropriate reflection of any modification of the process of comprehensive operational risk management in the measurement technique
・オペレーショナル・リスクの総合的な管理プロセスにおける変更内容の計量手法への適切な反映 - 金融庁
To provide a dividing method capable of appropriately performing a dividing process of a sapphire wafer formed with a reflection film.
反射膜が形成されたサファイアウェーハを適切に分割加工できる分割方法を提供すること。 - 特許庁
To simplify the manufacturing process of an active matrix reflection type liquid crystal display device to enhance productivity.
アクティブマトリクス型反射型液晶表示装置の製造工程を簡略化し、生産性を向上させる。 - 特許庁
A reflection structure forming process forms a multi-domain in a pixel area by using a conventional metallic or insulating layer forming process for forming a metallic or insulating layer on a TFT substrate.
反射構造形成プロセスはＴＦＴ基板上への伝統的な金属又は絶縁層形成プロセスを使用して画素エリアにマルチドメインを形成する。 - 特許庁
To provide a composition for an organic anti-reflection film which can prevent reflection in the lower film layer of a photoresist film in a process for forming hyperfine patterns in a semiconductor producing process, to provide a method for producing the composition and to provide a method for forming organic anti-reflection film patterns by using the composition.
半導体製造工程中の超微細パターン形成工程において、フォトレジスト膜の下部膜層での反射が防げる有機反射防止膜用組成物及びその製造方法と前記組成物を用いる有機反射防止膜パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a flat display equipped with an array substrate having a reflection electrode which has a high reflection factor and excellent contact with an insulating film and whose manufacturing process is easy.
反射率が高く、絶縁膜との密着性が良好で、製造工程が簡単な反射電極を有するアレイ基板を備える平面表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a reflection enhanced mirror which is free from corrosion of Ag by an oxidation process necessary to deposit a dielectric film layer and which causes no decrease in the reflectance, and to provide a backlight device for a liquid crystal display equipped with a light guide plate having the above reflection enhanced mirror.
誘電体膜を積層するのに必要な酸化プロセスによりＡｇが腐食せず反射率が低下することのない増反射ミラーを提供する。 - 特許庁

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