「residuals」を含む例文一覧(99)

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  • he could retire on his residuals
    彼は残りの給料をもらって定年退職することが出来た - 日本語WordNet
  • To easily treat coffee grounds, tea leaves residuals, strained lees of juice, and beer cakes.
    コーヒー粕、茶粕、果汁残さ、ビール粕を容易に処理する。 - 特許庁
  • A quantized output (q), and variable length coded outputs of residuals of DR and MIN are transmitted or recorded.
    量子化出力q、DR、MINの残差の可変長符号化出力が伝送、または記録される。 - 特許庁
  • The artificial neural network 22 receives the set of residuals and the engine inputs during a training phase and generates a set of estimated residuals representative of the engine condition.
    人工ニューラルネットワーク22は、残差のセットおよびトレーニング段階の間のエンジン入力を受領すると共に、エンジン状態を表す推定残差のセットを生成する。 - 特許庁
  • A quantization index arithmetic section 42 calculates the weighted average of motion vector residuals, on the basis of motion vector residuals of each macro block outputted from a motion vector residual buffer section 72 and its total sum.
    量子化インデックス演算部42は、動きベクトル残差バッファ部72より出力された各マクロブロックの動きベクトル残差およびその総和を基に、動きベクトル残差の加重平均を演算する。 - 特許庁
  • Protective film residuals remaining on surfaces of the chips without being removed by previous cleaning with water are removed by immersion in the alkali solution and cleaning with water, thus the degradation in quality of chips due to protective film residuals is avoided.
    このアルカリ溶液への浸漬処理及び水洗処理により、先の水洗で除去されずにチップ表面に残った保護膜残渣を除去し、保護膜残渣に起因したチップの品質低下を回避する。 - 特許庁
  • In mobile communication operation and the image pickup operation of a camera 19, battery residuals which can be used in respective modes are calculated and the calculated residuals are displayed correspondingly to icons expressing respective modes.
    さらに、移動通信動作中及びカメラ19の撮像動作中に、それぞれのモードで使用可能なバッテリ残量を算出し、算出された残量をモードを表すアイコンに対応付けて表示するようにしている。 - 特許庁
  • To provide a take-out tool capable of fixing a plurality of kinds of containers in a simpler manner, further taking residuals out of the container, and easily using the residuals.
    より簡単な方法で複数の種類の容器を固定でき、さらに残留物を容器の外に取り出し容易にその残留物をしようできる取り出し具を提供できないかと考案。 - 特許庁
  • The square residuals sum of the least squares regression curve and the actually measured characteristic curve at this time is obtained to correct time constant to minimize the square residuals sum.
    このときの最小二乗回帰曲線と実測した特性曲線との二乗残差和を求め、この二乗残差和が最小になるように、時定数を修正する。 - 特許庁
  • The correlation between predictive residuals of similar regions is used, prediction is performed between both the predictive residuals and residual prediction for reducing the predictive residual is introduced to an intra-prediction residual signal.
    類似した領域の予測残差間の相関を利用し,両予測残差間にて予測を行い,イントラ予測残差信号に対して予測残差の低減を図る残差予測を導入する。 - 特許庁
  • To provide a fault diagnosis device to be mounted on an in-vehicle apparatus, which improves accuracy in diagnosing a fault based on residuals to enhance reliability of fault diagnosis using the method of residuals.
    車両に搭載される機器の故障診断装置において、各残差から判定される故障有無の精度を高めて、残差法による故障診断の信頼性を向上する車両搭載機器の故障診断装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The compression algorithm is based on a classified linear-regression prediction followed by context-based arithmetic coding of the outcome residuals.
    この圧縮アルゴリスムは、分類された線型回帰予測に続く結果残差の文脈ベース算術符号化に基づくものである。 - コンピューター用語辞典
  • To prevent contamination of a measurement sensor due to combustion residuals of an internal combustion engine and heavy metals contained in the exhaust gas.
    本発明の課題は、内燃機関の燃焼残留物と排気ガス内に含まれる重金属とによる測定センサの汚染を防止することである。 - 特許庁
  • To provide a process solution for removing processing residuals from a semiconductor substrate following CMP processing, and a method of using the process solution.
    CMP処理に続いて半導体基材から処理残留物を除去するためのプロセス溶液、及び該プロセス溶液を使用する方法を提供すること。 - 特許庁
  • The absolute value sum of prediction residuals in an already encoded reference frame is calculated as the evaluation value of the direct mode.
    既に符号処理がなされた参照フレームとの予測残差の絶対値和をダイレクトモードの評価値として計算する。 - 特許庁
  • Organic animal and plant residuals are crushed (S301), thereafter, are subjected to dewatering (S302) and are separated into solid content and water content.
    有機性動植物残さを摺り潰した(S301)後、脱水を行い(S302)、固形分と水分に分離する。 - 特許庁
  • To provide CMP slurry capable of polishing a Cu film at a practical speed while inhibiting dishing or corrosion without leaving Cu residuals.
    Cu残渣なしに、ディッシングやコロージョンを抑制しつつ、実用的な速度でCu膜を研磨できるCMP用スラリーを提供する。 - 特許庁
  • To keep a substrate free from flexure without contact with a film surface of the substrate and also remove residuals of laser processing without exhausting the entire substrate.
    基板の膜面に接触することなく、基板を撓ませずに保持するとともに、基板全体を排気することなく、レーザ加工の残滓を除去すること。 - 特許庁
  • Residuals resulting from the difference between the estimates and actual measurements are analyzed for robust indications of incipient health issues.
    推定値と実際の測定値との差から得られる残差は、初期の健康問題についての堅固な指標に関して分析される。 - 特許庁
  • To suitably remove residuals on a surface of an image holding member after transfer by a cleaning device with two brush members.
    転写後の像保持部材の表面に残留する残留物を2つのブラシ部材を用いたクリーニング装置によって適切に除去されるようにする。 - 特許庁
  • A positioning computation part 370 performs positioning computation by Kalman filter processing, based on the residuals and on a clock error.
    測位演算部370は残差とクロック誤差に基づいてカルマンフィルタ処理により測位演算を行う。 - 特許庁
  • COMPOSITE MOLDING MATERIAL OBTAINED FROM FOOD PROCESSING RESIDUALS, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD OF MOLDED BODY USING THE SAME
    植物質食品加工残さ複合成形材料、その製造方法及びそれを用いた成形体の製造方法 - 特許庁
  • The developer collides with the surface of the substrate G vertically and residuals formed on the surface of the substrate G are removed.
    この時,現像液が基板Gの表面に垂直に衝突し,基板G表面に形成される残渣が取り除かれる。 - 特許庁
  • The frame 15a supporting the soil removers has no rotating shaft crossing the root part Na of the Welsh onion, residuals stem, etc.
    土落とし体を支持するフレーム15aは、ねぎや残幹などの根部Naと交差する回転軸を有していない。 - 特許庁
  • To provide an aquarium cleaning system which can maintain a high level of water quality without requiring much labor by efficiently removing residuals accumulated on the bottom part of an aquarium.
    水槽底部に蓄積する残渣を効率的に除去することによって、手間ひまかけずに高い水質を保つこと。 - 特許庁
  • To facilitate operation of a portion carrying out modeling and analysis of residuals when carrying out data mining by using a commercially available data mining tool.
    市販データマイニングツールを使用してデータマイニングを行う際に、モデリングや残差の解析を行う部分の操作簡易化を目的とする。 - 特許庁
  • This enables the easy and practical execution of the processing of residuals caused by a solid-liquid separation processing and efficient utilization unlike before is enabled.
    この事は固液分離処理により発生する残査の処理を容易に且つ実用的に実施可能として従来無かった効率の良い活用が出来る。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a color filter which improves rectangularity of each color pixel of the color filter and prevents the occurrence of residuals when forming red pixels.
    カラーフィルタの各着色画素の矩形性を向上させ、且つ赤色画素の形成時に残渣が生じないようにする。 - 特許庁
  • An evaluation value computing part 202 computes the absolute value sum of direct-mode movement prediction residuals of the block of an objective image to be encoded.
    評価値計算部202は、符号化対象画像のブロックのダイレクトモードによる動き予測残差の絶対値和を算出する。 - 特許庁
  • To provide a detergent composition for flux suitable for cleaning flux residuals remaining in clearances of a soldered component.
    ハンダ付けした部品の隙間に残存するフラックス残渣の洗浄に好適なフラックス用洗浄剤組成物の提供。 - 特許庁
  • To provide a residual removing device for a grain carrying elevator, ensuring easy removal of internal residuals.
    内部の残留物を容易かつ確実に排除することができる穀類搬送昇降機における残留物排除装置を提供する。 - 特許庁
  • To prevent the generation of residuals caused by the insufficient etching of a floating gate material caused by a difference in height on the principal plane of a semiconductor substrate.
    半導体基板主面上の段差に起因するフローティングゲート材のエッチング不足による残渣の発生を防止する。 - 特許庁
  • The time constant when the square residuals sum is the minimum is decided as the time constant of first-order lag response to decide the tire model.
    残差二乗和が最小となる時の時定数を、1次遅れ応答の時定数として決定し、タイヤモデルを決定する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a color filter which removes the residuals, without increasing the number of steps or damaging the resin layer.
    本発明は、工程数を増やすことなく、かつ、樹脂層にダメージを与えずに残渣を除去できるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • For the calculated residual, a coding parameter selection section 190 selects per time, from a plurality of coding parameters each indicating a combination of a lower bit length of fixed length coding and a type of variable length coding for the remaining upper bits, the one indicating a combination that produces the shortest code length of past residuals when coding the past residuals rather than the calculated residual.
    符号化パラメータ選択部190は、算出された残差に対して、固定長符号を用いる下位ビット長と残りの上位ビットに用いる可変長符号の種別との組み合わせを示す複数の符号化パラメータのうち、当該残差より過去の残差を符号化した場合に当該過去の残差の符号長が最も短くなる組み合わせを示すものを時刻ごとに選択する。 - 特許庁
  • When a purchase application processing is performed by the enterprise client 210 and the electronic store server 400, the credit exposure management server 600 checks consumables frame residuals on those whose article category is the consumables out of the purchased application articles, and when there is the consumable frames residual, it updates the consumables frame residuals and processes the sale amount.
    企業クライアント210及び電子商店サーバ400による購入申込処理が行われると、与信管理サーバ600は購入申込物品のうち商品カテゴリが消耗品であるものについて消耗品枠残チェック処理を行い、消耗品枠残があるものについては、消耗品枠残を更新して売上処理を行う。 - 特許庁
  • To provide cleaning liquid for a semiconductor device, for removing stuck matters on the surface of a cleaning object such as photoresist, etching residuals, an antireflective coating and ashing residuals with low environment loads and without corroding an interlayer dielectric; and to provide a cleaning method for the semiconductor device using the cleaning liquid.
    本発明では、環境負荷が低く、層間絶縁膜を腐食することなく、フォトレジスト、エッチング残渣物、反射防止膜、および、アッシング残渣物などの洗浄対象物表面上にある付着物の除去を行うことができる半導体デバイス用の洗浄液、並びに該洗浄液を用いた半導体デバイス用の洗浄方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
  • Next, wet etching is performed as postprocessing of the dry etching to remove etching residuals of the dry etching and roughness of a surface.
    次に、ドライエッチングに対する後処理としてのウエットエッチングを行い、ドライエッチングのエッチング残滓の残存や表面の荒れを除去する。 - 特許庁
  • Besides, non-usage toner is supplied from a new toner storing tub 10 to a cleaning device 7 and, then, reverse polarity toner included in non-usage toner is removed as a waste when the residuals are separated.
    また、未使用トナーは、新トナー収容槽10からクリーニング装置7内へ供給されるので、未使用トナーに含まれる逆極性トナーは、残留物の分別時に同時に廃棄物として除去される。 - 特許庁
  • To form an aperture to a ferroelectric capacitor in an interlayer insulation film and a hydrogen diffusion prevention film especially without increasing the number of processes, and without damaging the ferroelectric capacitor, and to remove unneeded residuals.
    徒に工程数を増加させることなく、強誘電体キャパシタにダメージを与えずに強誘電体キャパシタに対する開孔を層間絶縁膜及び水素拡散防止膜に形成し、しかも不要な残存物を除去する。 - 特許庁
  • Residuals 126 and 128, generated when an interconnection groove is formed in the SiOC film 116, are removed by the use of amine-based peeling solution which is weakly alkaline but contains no fluorine ions.
    SiOC膜116中に配線溝を形成した際に生じる残さ126および残さ128を、弱アルカリ性であってフッ素イオンを含まないアミン系剥離液を用いて除去する。 - 特許庁
  • To provide a waste incinerator which captures toxic substances or combustion residuals contained in combustion gas generated by incinerating waste to prevent them from being discharged into the air.
    廃棄物を燃焼した際に発生する燃焼ガスに含有される有害物質や燃焼残存物を捕獲し、大気中に放出することを防止する廃棄物焼却炉を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method and system for removing mercury in an exhaust gas which is capable of further reducing a cost of removal treatment without a sacrifice of combustion efficiency and an increase of combustion residuals of a boiler.
    ボイラの燃焼効率を犠牲にすることなく、また燃焼残渣を増やすことなく、さらに除去処理のコストの低減化が可能な排ガス中の水銀除去システムおよび除去方法を提供する。 - 特許庁
  • To perform a processing of removing residuals inside a trench, a processing of flattening a trench side wall and a processing of rounding a trench corner before forming a gate insulating film on the trench side wall with excellent controllability and reproducibility.
    トレンチ側壁にゲート絶縁膜を形成する前に、トレンチ内部の残渣を除去する処理、トレンチ側壁を平坦化する処理、およびトレンチコーナー部を丸める処理を制御性よく、かつ再現性よくおこなうこと。 - 特許庁
  • To make a color filter further miniaturized and thinned by preventing deposition of impurities such as residuals on the color filter formed by dry etching to improve the precision to mask dimensions.
    ドライエッチングで形成するカラーフィルタに残渣などの不純物が付着することを防ぎ、マスク寸法に対する精度を向上させて微細化、薄膜化を図る。 - 特許庁
  • Thereafter, a wet cleaning process using a cleaning liquid 17 that chemically dissolves the organic film 15 is applied to the silicon oxide film 14 to remove residuals of the organic film 15 remaining on the silicon oxide film 14.
    その後、シリコン酸化膜14に対して、有機膜15を化学的に溶解できる洗浄液17を用いた湿式洗浄処理を行なうことによって、シリコン酸化膜14上に残存する有機膜15の残留物を除去する。 - 特許庁
  • To efficiently remove residuals generated, when selectively removing a low dielectric constant film, such as SiOC or the like without damaging the insulation film or metal film.
    SiOC等の低誘電率膜を選択的に除去した際に生じる残さを、絶縁膜や金属膜に損傷を与えることなく効率的に除去する。 - 特許庁
  • Red pixels 20R (red patterns 27R) are formed as the first color without using a photolithography method, thereby the occurrence of residuals is prevented when forming red pixels.
    フォトリソ法を用いずに、第1色目として赤色画素20R(赤色パターン27R)を形成したので、赤色画素形成時に残渣の発生が防止される。 - 特許庁
  • After a water-soluble protective film is formed on a processed substrate, laser dicing is performed, and residuals and the protective film are removed by cleaning with water (steps S1 to S3).
    被処理基板上に水溶性保護膜を形成した後、レーザダイシングを行い、その除去物と保護膜を水洗により除去する(ステップS1〜S3)。 - 特許庁
  • Composite molding materials are obtained from vegetable food processing residual products obtained by a dry-type mechanical pulverization treatment of the mixture of vegetable food processing residuals, a polyolefin, and a polyolefin modified by maleic acid or maleic anhydride.
    植物質食品加工残さと、ポリオレフィンと、マレイン酸又は無水マレイン酸変性ポリオレフィンの混合物の乾式機械的粉砕処理生成物からなる植物質食品加工残さ複合成形材料とする。 - 特許庁
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