An abnormality detection/classification method that checks dispersion in a raw data using a raw back-focal-plane image data of radiation from a substrate surface detected by a scatterometer detector, and associates the variation in the raw data that may possibly occur in the lithographic device or a fault that may possibly occur in a process where the substrate surface is patterned is disclosed. スキャトロメータディテクタによって検出された、基板表面からの放射の生の後焦点面像データを使用して、生データ内のばらつきを確認し、生データのばらつきをリソグラフィ装置、または基板表面をパターニングしたプロセスにて起こり得る異常に関連付ける、異常検出/分類方法を開示する。 - 特許庁