To provide an HBT having both excellent emitter/base behavior and good etching selectivity. 優れたエミッタ・ベース挙動と、良好なエッチング選択性を兼ね備えたヘテロ接合バイポーラトランジスタを提供すること。 - 特許庁
The planarization behavior is improved by increasing the relative concn. of the polishing slurry grains 118 contacting protrusions to heighten the selectivity of the polishing process. プレーナー化の挙動は、研磨処理の選択性を高めるため、隆起形状と接触した研磨用スラリー粒子の相対濃度を増加させることによって改良される。 - 特許庁