「self-alignment」を含む例文一覧(409)

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  • SELF ALIGNMENT STRUCTURE
    セルフアライメント構造 - 特許庁
  • SELF ALIGNMENT CONNECTOR
    自己調芯型コネクタ - 特許庁
  • SELF ALIGNMENT MAGNET CONNECTOR
    セルフ−アライメント磁石コネクタ - 特許庁
  • SELF-ALIGNMENT EFFECT EVALUATION DEVICE
    セルフアライメント効果評価装置 - 特許庁
  • SELF-ALIGNMENT DAMASCENE INTERCONNECTION
    自己位置合せダマシン相互接続 - 特許庁
  • SELF-ALIGNMENT SCINTILLATOR COLLIMATOR ASSEMBLY
    自己整列シンチレータ・コリメータ組立体 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF SELF-ALIGNMENT TRANSISTOR
    自己整合型トランジスタの製造方法 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING SELF-ALIGNMENT BIPOLAR TRANSISTOR
    自己整合バイポーラトランジスタの製造方法 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF SELF-ALIGNMENT CROSS POINT MEMORY ARRAY
    自己整合クロスポイントメモリアレイの製造方法 - 特許庁
  • INTEGRATED CIRCUIT TRAY EQUIPPED WITH SELF-ALIGNMENT POCKET
    自己整列ポケットを備えた集積回路トレイ - 特許庁
  • FORMATION OF SELF-ALIGNMENT CONTACT OF SEMICONDUCTOR DEVICE
    半導体装置の自己整列コンタクト形成方法 - 特許庁
  • To provide a self alignment torque correction device for a vehicle capable of easily correcting self alignment torque.
    セルフアライメントトルクの補正を容易に行うことができる車両用セルフアライメントトルク補正装置を提供する。 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING BiCMOS USING SELF ALIGNMENT
    自己整列を利用したBiCMOSの製造方法 - 特許庁
  • METHOD OF FORMING SELF-ALIGNMENT AND SELF-EXPOSURE PHOTORESIST PATTERN ON LIGHT EMITTING ELEMENT
    発光素子に自己整合及び自己露光フォトレジストパターンを作製する方法 - 特許庁
  • The memory transistor is formed in self-alignment manner with it.
    メモリトランジスタ部はそれと自己整合的に形成される。 - 特許庁
  • SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
    自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
  • SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
    自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
  • SELF-REFERENCING INTERFEROMETER, ALIGNMENT SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
    自己参照干渉計、アライメントシステムおよびリソグラフィ装置 - 特許庁
  • An alignment trench self-aligned with the alignment charge recording layer is formed in the alignment key region.
    前記アラインメント電荷記録層パターンと自己整列されたアラインメントトレンチが前記アライメントキー領域内に形成される。 - 特許庁
  • SELF-ALIGNMENT MECHANISM IN CONTACT BETWEEN ELECTRONIC COMPONENT AND PROBE CARD
    電子部品とプローブカードの接触におけるセルフアライメント機構 - 特許庁
  • These regions are formed by repeatedly performing self- alignment.
    これらの領域はセルフアラインの繰り返しによって形成される。 - 特許庁
  • ELECTRODE STRUCTURE SUPPORTING SELF-ALIGNMENT OF LIQUID DEPOSITION OF MATERIAL
    材料の液体堆積のセルフアライメントを支援する電極構造 - 特許庁
  • SELECTIVE OXIDATION WITH SELF-ALIGNMENT IN TRENCH BY ION IMPLANTATION
    イオン注入によるトレンチ内の自己整合された差別的酸化 - 特許庁
  • To provide an infrared ray optical port of an enhanced self-alignment type.
    改良型のセルフアライメント式の赤外通信ポートを提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a self-alignment silicide (salicide) layer.
    自己整合的ケイ化物(サリサイド)層の形成方法を提供する。 - 特許庁
  • SELF ALIGNMENT MULTIPLE PATTERN FORMATION FOR ADVANCED MICROSCOPIC SIZE CONTACT
    高度な微小寸法コンタクトのための自己整合多重パターン形成 - 特許庁
  • MULTI-PATTERNING LITHOGRAPHY USING SPACER AND SELF-ALIGNMENT TYPE ASSIST FEATURE
    スペーサ及びセルフアライメント型アシストフィーチャを用いたマルチパターニングリソグラフィ - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a self-alignment thin film transistor (TFT).
    自己整合薄膜トランジスタ(TFT)の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • METHOD AND SEMICONDUCTOR STRUCTURE (SEMI-SELF-ALIGNMENT SOURCE/DRAIN FIN FET PROCESS)
    方法、半導体構造(準自己整合ソース/ドレインフィンFETプロセス) - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR LASER DIODE UTILIZING SELF-ALIGNMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
    自己整列を利用した半導体レーザーダイオード及びその製造方法 - 特許庁
  • SELF ALIGNMENT METHOD FOR FABRICATING RIDGE WAVEGUIDE SEMICONDUCTOR LASER DIODE
    リッジ導波管半導体レーザーダイオードを製造するための自己整合法 - 特許庁
  • To form a nonvolatile read only device with a self alignment method.
    自己位置合わせ法で不揮発性読取専用デバイスを形成すること。 - 特許庁
  • SELF-ALIGNMENT ROLLER BEARING AND ROLLER SUPPORT STRUCTURE FOR CONTINUOUS CASTING FACILITIES
    自動調心ころ軸受および連続鋳造設備のローラ支持構造 - 特許庁
  • FLATTENING OF SHALLOW TRENCH ISOLATION BODY USING SELF- ALIGNMENT ISOTROPIC ETCHING
    自己整合等方的エッチングを用いた浅いトレンチ分離体の平坦化 - 特許庁
  • SELF ALIGNMENT TORQUE CORRECTION DEVICE FOR VEHICLE AND ELECTRIC POWER STEERING DEVICE
    車両用セルフアライメントトルク補正装置および電動パワーステアリング装置 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR ELEMENT INCLUDING SELF-ALIGNMENT CONTACT PAD AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
    自己整列コンタクトパッドを備えた半導体素子及びその製造方法 - 特許庁
  • INTEGRATED CIRCUIT DEVICE PROVIDED WITH SELF-ALIGNMENT CONTACT PAD HAVING INCREASED ALIGNMENT MARGIN AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
    増加されたアラインメントマージンを有する自己整列コンタクトパッドを具備した集積回路デバイス及びその製造方法 - 特許庁
  • A method of production of alignment marks uses a self-aligned double patterning process.
    アライメントマークを生成する方法は、自己整合ダブルパターニングプロセスを使用する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a local SONOS element utilizing self-alignment.
    自己整列を利用したローカルSONOS素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To microminiaturize a non-volatile semiconductor memory device by using a self-alignment technique.
    自己整合技術により不揮発性半導体記憶装置を微細化する。 - 特許庁
  • A converter 45 calculates a self alignment torque Msat based on an actual yaw rate γ.
    変換部45は、実ヨーレートγに基づいてセルフアライメントトルクMsatを計算する。 - 特許庁
  • THIN FILM TRANSISTOR HAVING SELF-ALIGNMENT LDD STRUCTURE AND ITS FABRICATION PROCESS
    セルフアライメントLDD構造を備えた薄膜トランジスタ及びその製造方法 - 特許庁
  • SELF-ALIGNMENT PROCESS FOR PRODUCING REENTRY FORM HETERO-JUNCTION BIPOLAR TRANSISTOR
    ヘテロ接合バイポーラトランジスタにリエントリ形状を形成するためのセルフアライメント・プロセス - 特許庁
  • To connect a bit line with a connection plug with self alignment in the direction of a word line.
    ビット線と接続プラグとの接続をワード線方向に自己整合で行う。 - 特許庁
  • To enable to manufacture a self alignment connector at low cost with the small number of components.
    自己調芯型コネクタを少ない部品点数で安価に製造可能にする。 - 特許庁
  • To perform the connection between a bit line and a plug in self alignment in the direction of a word line.
    ビット線と接続プラグとの接続をワード線方向に自己整合で行う。 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF FLUSH MEMORY ELEMENT UTILIZING SELF-ALIGNMENT NON-EXPOSURE PATTERN FORMATION PROCESS
    自己整列無露光パターン形成プロセスを利用したフラッシュメモリ素子の製造方法 - 特許庁
  • Since the self-alignment effect can be evaluated by the detected torque value, the self- alignment effect can be accurately evaluated with a small number of samples.
    検出されたトルク値によってセルフアライメント効果を評価することができるので、少ない試料数で精度よくセルフアライメント効果を評価することが可能になる。 - 特許庁
  • In the alignment system, a self-reference interferometer to form two superposed relatively rotating images of alignment markers is used.
    アライメントシステムにおいて、2つの重なり合う、相対回転されたアライメントマーカの像を作り出す自己参照干渉計を用いる。 - 特許庁
  • To solve the disadvantage of a known alignment system that a self-referencing interferometer in an alignment measurement system may be relatively expensive.
    既知のアライメントシステムの不利な点は、アライメント測定システムの自己参照干渉計が比較的高価となりうることである。 - 特許庁
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