「shape pattern」を含む例文一覧(3752)
＜前へ 1 2 .... 37 38 39 40 41 42 43 44 45 .... 75 76 次へ＞- To solve the problem in a technique for improving the performance of microphotofabrication using far ultraviolet ray light, particularly, ArF excimer laser having wavelength of 193 nm, more specifically, to provide a negative resist composition excellent in sensitivity, pattern shape and pattern collapse.
遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、感度、パターン形状、パターン倒れに優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition which is suitable for ArF excimer laser lithography and has preferable line edge roughness in addition to performances such as resolution, sensitivity and a pattern shape, and to provide a chemically amplified positive resist composition in which the pattern can be more finely divided in a reflow process.
ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and a pattern forming method that uses identical satisfying high sensitivity, high resolution, proper pattern shape, proper line edge roughness and dry etching resistance, at the same time.
高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネス、さらには耐ドライエッチング性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性低分子化合物含有組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist material having high sensitivity while having high resolution, attaining a proper pattern shape after exposure, and decreasing line edge roughness, in particular, a chemically amplified positive resist material, and to provide a pattern forming method that uses the material.
高解像度でありながら高感度であり、なおかつ露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The first metal layer 23 has a patterning in a prescribed shape and is composed of a circuit pattern 231 electrically connected to the light emitting unit 4 and a heat radiating pattern 232 having a function to radiate heat generated in the light emitting unit 4.
第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁 - To provide an intermediate layer composition for a multilayer resist process which is soluble in an organic solvent and is excellent in preservation stability and also in a trailing shape during upper layer patterning, line edge roughness and pattern peeling of an upper resist and to provide a a method for forming a pattern.
有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時の裾引き形状、ラインエッジラフネス、上層レジストのパターン剥れに優れた多層レジストプロセス用中間層組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, exposure latitude, focus depth and development defect performance and capable of forming a pattern having a satisfactory shape and to provide a pattern forming method using the same.
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in development defect performance, liquid immersion defect performance and limit resolution and enables to form a pattern having a good shape, and a pattern forming method using the same.
現像欠陥性能、液浸欠陥性能、及び限界解像力に優れ、且つ良好な形状を有したパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - By setting the aperture pattern of the mask used in the 1st scanning exposure process (S12 and S22) and the 2nd scanning exposure process (S13 and S23) to surface shape having desired curvature, the irregular pattern is made a rotational symmetric surface.
前記第１走査露光工程（Ｓ１２，Ｓ２２）及び前記第２走査露光工程（Ｓ１３，Ｓ２３）で用いられる前記マスクの開口パターンを、所望の曲率を有する面形状になるように設定することで、前記凹凸パターンを回転対称面にする。 - 特許庁 - The appearance of a disk having a pattern and/or a character applied to the surface, especially, signal surface thereof is inspected on the basis of photographing data obtained by photographing the pattern and/or character inclusive of the contour shape of the disk.
ディスクの面、特に信号面に図柄及び／又は文字が施されているディスクであって、このディスクの輪郭形状を含めた図柄及び／又は文字を撮影した撮影データに基づいてディスク外観の検査を行うようにしたことである。 - 特許庁 - Then, since an angle to the display screen of an LCD panel 213 is varied with the movement of a position where the picture pattern 403 is stuck, on the 3D object 401, display is controlled so that the position and shape of the picture pattern 403 can be varied.
すると、３次元物体４０１上の図柄４０３を貼り付けている位置の移動に伴い、ＬＣＤパネル２１３の表示面に対する角度が変動するため、図柄４０３の位置及び形状が変動するように表示制御される（ｃ）。 - 特許庁 - To provide a recording medium manufacturing method having excellent throughput at the time of mass production, in which the shape and dimensions of a pattern obtained by fine processing are easy to control, exact pattern transfer is made, and excellent uniformity is obtained.
量産化のときのスループットが良好で、低価格化が可能であり、微細加工によって得られたパターンの形状や寸法の制御が容易で、正確なパターン転写が可能で、かつ均一性に優れる記録媒体作製方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the conductive member includes a stage of forming a conductive pattern layer 120 on a transparent base 110 by printing a solution containing a conductive high polymer on the transparent base 110 in a pattern shape.
導電性高分子を含む溶液を透明基材１１０上にパターン状に印刷することにより、前記透明基材１１０上に導電性パターン層１２０を形成する工程を有することを特徴とする導電性部材の製造方法。 - 特許庁 - The connection part electrode 15 is an electrode for connecting the pattern electrode 13A and the pattern electrode 13B and is in a twisted shape so as to make the plate surface facing the dielectric substrate 11 be perpendicular to the dielectric substrate 11.
接続部電極１５はパターン電極１３Ａとパターン電極１３Ｂを接続する電極であり、平板面が誘電体基板１１に対向する状態から誘電体基板１１に直交する状態になるような捻れ形状である。 - 特許庁 - Each movable shade 48 advances or recedes with respect to the light axis of the bulb 30, and forms a light distribution pattern for a low-beam by shielding a part of a light at an advanced position while allowing formation of a partial shape of a light distribution pattern for a high-beam at a receded position.
各可動シェード４８は、バルブ３０の光軸に対し進退可能であり、進出位置において光の一部を遮ってロービーム用配光パターンを形成し、退避位置においてハイビーム用配光パターンの一部形状の形成を許容する。 - 特許庁 - In this case, the predetermined pattern is a pattern which has the same shape as that of the light-shielding layer 11, is subtly wider than the light-shielding layer 11 and can cover a first inclined surface 12S of the buffer film 12 in which the step difference of the light-shielding layer 11 is reflected.
ここで、所定のパターンは、遮光層１１と同一の形状であるが、僅かに遮光層１１より広く、遮光層１１の段差が反映されたバッファ膜１２の第１の傾斜面１２Ｓを覆うことができるパターンである。 - 特許庁 - The two-dimensional code formed on a predetermined curved surface, and for representing information by a distribution pattern in a rectangle has a distribution pattern formed along the curved surface so that an image obtained by imaging the two-dimensional code from a predetermined position may have a predetermined rectangular shape.
所定の曲面に形成され、矩形内の分布パターンにより情報を表現する二次元コードであって、所定の位置から二次元コードを撮像した像が所定の矩形形状になるように、分布パターンを曲面に沿って形成した。 - 特許庁 - A pattern having gloss difference or a tuning uneven pattern due to liquid repelling effect is provided to the surface protective layer or an uneven shape is provided thereto and color ink is applied to recessed parts to impart three-dimensional design effect.
また、前記表面保護層に、光沢差を有する模様を設け、又は撥液効果等による同調凹凸模様を設け、或いは凹凸形状を設けて凹部に着色インキを施すことによって、立体的な意匠効果を与えることができる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a light guide plate with a light reflection pattern in which a light reflection pattern well suited to a light guide plate of any dimensions or shape can be formed easily and light from a light-emitting face can be emitted uniformly.
任意の寸法や形状の導光板に対してもそれに適合した光反射パターンを容易に形成でき、光出射面から光を均一に出射させることのできる光反射パターン付き導光板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The first metal layer 23 has a patterning in a prescribed shape and is composed of a circuit pattern 231 connected electrically to the light emitting device 4 and a heat radiating pattern 232 having a function to radiate heat generated by the light emitting device 4.
第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁 - Width in a radial direction for one track of a projected pattern or a recessed pattern constituting the header is made to be wider than at least an effective radius of read-out beam and further when adjacent tracks have the same patterns, a shape of continuous patterns in a radial direction is formed.
ヘッダーを構成する凸パターン又は凹パターンの１トラック分の径方向幅を、少なくとも読み出しビームの有効径よりも広くし、さらに、隣接するトラックのパターンが同パターンの場合はパターンが径方向に連続する形状とする。 - 特許庁 - The shape of a pattern to be exposed is rendered to be a bit map, the pattern data in the bit map format is rearranged and stored for every scanning line 401, 402, 403, and 404, and exposure beam scanning on the sample 108 is subjected to on/off control based on the stored data.
露光すべきパターンの形状をビットマップ化し、該ビットマップ形式のパターンデータを走査線４０１、４０２、４０３、４０４毎に並べ替えて記憶し、記憶したデータに基づいて試料１０８上を走査する露光ビームをオンオフ制御する。 - 特許庁 - To provide a measuring method/means which can measure a shape of an arbitrary pattern such as surrounded by non parallel lines when a pattern length is to be measured with the use of display image information of a scanning microscope or the like and which prevents personal differences and errors for each measurement.
走査型顕微鏡等のディスプレイ画像情報を用いたパターン測長において非平行線で囲まれたような任意パターンの形状測定が可能で、個人差や測定毎の誤差が出にくい測定手法／手段を提供する。 - 特許庁 - Color coating 5 is applied to a flat pattern surface of a wall material body having a large number of recesses 3 of irregular shape and the remaining flat pattern surface on the surface of an aggregate compressed bonded body of warped or twisted polystyrene foam chips.
反りまたは捩りを与えた発泡ポリスチレンチップの集合圧縮結合体からなる表面に不規則な形状の多数の凹部３と凹部残余の平坦模様面とを有する壁材本体の平坦模様面に着色塗装５を施す。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, also having a rectangular shape and ensuring low edge roughness of a line pattern and a small shift in dimensions in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.
半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - Work control data for driving and controlling an aperture mask 40 and a print mask material 60 are generated so that an optical pattern corresponding to the specified element shape pattern is irradiated onto a prescribed working partition on the print mask material 60.
この特定した要素形状パターンに対応する光パターンが印刷マスク材６０上の所定の加工区画に照射されるようにアパーチャーマスク４０及び印刷マスク材６０を駆動制御するための加工制御データを生成する。 - 特許庁 - The pattern-forming material delivered from the delivery part 42 is made a semi-cured state by the curing part 43, and then, a part of the top face and the side faces are shaped to form a partitioning pattern with a high accuracy in shape of the top face and the side faces.
吐出部４２から吐出されたパターン形成材料は、硬化部４３により半硬化状態とされた後に凹部により上面および側面の一部が整形され、上面および側面形状の精度の高い隔壁パターンが形成される。 - 特許庁 - To provide a method for decolorizing a desired portion or shape without requiring a large scale device to make the surrounding of the decolorized portion as a hazy tone and emerging a not conventionally obtainable appearance and pattern by applying the pattern on the decolored portion.
本発明は、大掛かりな装置を必要とせず、所望の個所及び形状に脱色し、脱色した個所の周囲がぼかし調になり、更に脱色した個所に模様を施す事により、従来にない外観や模様を有する事が出来る。 - 特許庁 - To provide a leather element which has a touch and a feel of a natural leather shape and a concave-convex pattern, which can express a warm wrinkle expression, does not have disappear of the concave-convex pattern and a mold flow and yet is excellent in wear resistance and heat resistance, and to provide its manufacturing process.
天然皮革様の触感や風合い、凹凸模様を有し、細やかなシワ表現が可能で、凹凸模様の消失や型流れがなく、しかも耐摩耗性および耐熱性に優れた皮革素材、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern feature correlation calculating device 14 calculates the correlation between features of the shape, etc., of the signal from the pattern appearance features extracted by the device 12.
パターン特徴相関計算装置１４は、パターン特徴抽出装置１２により抽出されたパターン特徴とパターン出現特徴計算装置１３により計算されたパターン出現特徴から信号の形状等の特徴の相関を計算する。 - 特許庁 - Furthermore, a controller 16 shifts a phase of the image plane pattern relatively to a phase of the projection pattern, brings the CCD sensor 31 to photograph images at each operation of shifting the phase, and computes a shape of the object 13, based on brightness information of those images.
また、コントローラ１６は、像面パタンの位相を、投影パタンの位相に対して相対的にシフトさせ、位相がシフトされるごとにCCDセンサ３１により画像を撮像させ、それらの画像の輝度情報に基づいて被検物１３の形状を算出する。 - 特許庁 - This method comprises spraying a mixture of a granular solid 3 and a liquid 2 for forming needle crystals of copper oxide by chemical reaction to the copper having a resist pattern 4 patterned in the desired shape to remove the copper of the part exposed from the resist pattern.
所望の形状にパターニングされたレジストパターン４を有する銅に、粒状の固体３と、化学反応により酸化銅の針状結晶を形成する液体２の混合液を噴射して、レジストパターンから露出した部分の銅を除去すること。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition, excellent in light transmissivity, excellent in dry-etching tolerance, high in reaction efficiency by an acid catalyst, and excellent in adhesiveness to a substrate, and a pattern forming method giving an excellent pattern shape.
光透過性に優れ、ドライエッチング耐性に優れ、酸触媒による反応効率が高く、かつアルカリ溶解性、基板との密着性に優れる感光性組成物と、表面粗さの小さい、優れたパターン形状が得られるパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - This method writes and reads a periodic pattern containing di-bits and isolated bits and a periodic pattern containing only isolated bits while synchronizing with the revolution of a magnetic disk, then frequency analyzes each reproduced wave shape by making their phases match each other to obtain odd harmonics components.
ダイビットおよび孤立ビットを含む周期パターンと孤立ビットのみの周期パターンとを磁気ディスクの回転に同期して読み書きし、位相が一致した状態でそれぞれの再生波形を周波数解析し奇数次高調波成分を求める。 - 特許庁 - An electrode pattern 5 having a specified shape is formed beforehand on the curved surface of a pad 1 with a curved surface by using a flat screen plate, and the electrode pattern 5 is transferred onto the surface of a nearly rectangular electronic part 7.
曲面を有するパッド１の前記曲面に、平板のスクリーン版を用いてあらかじめ所定の形状の電極パターン５を形成し、この電極パターン５を略直方体形状の電子部品７の表面に転写する構成とした。 - 特許庁 - If the liquid crystal is arranged in one cell 101, the plane shape of the liquid crystal getting wet and spreading within each cell 101 previously arranged with the liquid crystal therebetween has the same shape as that of the arrangement pattern of the liquid crystal arranged in the latest cell 101.
そして、一つのセル１０１に液晶を配置すると、その間に、先に液晶を配置した各セル１０１内を濡れ広がっている液晶の平面形状は、その最新のセル１０１に配置した液晶の配置パターンと同じ形状となる。 - 特許庁 - Further, various designs can be created by changing the shape, color or pattern of the triangular shape of the knot.
又ネクタイ本体が出来ているので、結び目を作ることも無いし結び目が崩れる事も無い、又ネクタイをボタンで留めるので不用意に引っ張られた場合簡単に取れる、又結び目の三角形状の形や、色、柄を変えることで色々デザインを創ることが出来る - 特許庁 - To form a scorch-remaining mark in a clear shape by preventing the tilting of even a small-thickness sliced bread at the time of toasting it in a toaster of a hopping-up type, which toasts bread by making the scorch remaining mark in the shape of a pattern plate on the sliced bread.
スライスパンに対して模様板の形の焦げ残し跡を作って焼き上げるホップアップ式のトースタにおいて、薄肉のスライスパンを焼き上げるときでも、その傾きを防止して、明瞭な形の焦げ残し跡を形成できるようにすること。 - 特許庁 - To provide a machining method of a shape memory alloy very thin sheet in which a homogeneously gouged shape with a desired fine pattern can be efficiently manufactured.
形状記憶合金極薄板の加工方法に係わるものであって、特に所望する微細なパターンのものを、均質な刳り貫き形状であって、且つ効率的に製作可能となるようにする新規な形状記憶合金極薄板の加工方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an electro-optic device by which a shape in a corner portion of a device pattern can be reliably controlled upon forming a plurality of device patterns of a specified shape by patterning a film formed on a substrate for the electro-optic device.
電気光学装置用基板に形成された膜をパターニングして所定形状の複数のデバイスパターンを形成する際、デバイスパターンの角部分の形状を確実に制御することのできる電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - This shoe sole is molded of rubber, polyvinyl chloride or polyurethane having hardness of 54 to 62 (JIS-A, 20°C) so as to have a thickness of ≥3 to ≤8 mm in the thinnest part and to have a block design pattern of polygonal shape, circular shape, etc., in the shank part of the shoe sole.
５４〜６２（ＪＩＳ−Ａ，２０℃）の硬さを有するゴム，ポリ塩化ビニル，ポリウレタンにより，最薄部の厚さが３ｍｍ以上８ｍｍ以下で，靴底接地部には，多角形，円形などのブロック意匠パターンを有するように成形される。 - 特許庁 - To provide a molding method of moldings such as various optical products by which a high outer shape precision is obtained, a fine pattern can be transferred with high accuracy and molding burrs are not generated by using a preliminary body for molding having a simple shape.
各種光学製品などの成形品を、単純な形状を有する成形予備体を用いて、外観形状精度が高く、かつ微細パターンを高精度に転写しうると共に、成形バリが生じないようにモールド成形する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type photoresist composition capable of forming a resist pattern of a good shape in which dense and isolated patterns are present in a mixed state and improving such a tendency that isolated patterns become an inverted taper shape particularly to a shift of a focal depth on the minus side.
密集パターンと孤立パターンの混在した形状のよいレジストパターンが形成可能であり、とくに焦点深度のマイナス側のズレに対して孤立パターンが逆テーパ形状になり易い傾向が改善されたポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - The device 104 generates kaleidoscopic images by repeating the inverting and the duplicating of the image signal in the concerned shape by every reflection pattern obtained while making the initial image piece an original image in accordance with the shape of the initial image piece to output them to a display device 106.
初期画像片の形状に応じて、当該形状中の画像信号の反転および複製を初期画像片を原画像として、得られる反射パターンごとに繰返すことで、万華鏡像が生成され、表示装置１０６に出力される。 - 特許庁 - This identification cap for the color cone can be formed in cone shape by forming a striped pattern on a sector plane sheet with a color tape easily recognized by the human naked eye, and adjusting to bond the radial direction of the sector shape.
カラーコーン用識別キャップであって、扇型の平面状のシートに人の肉眼に認識されやすいカラーテープで縞模様として形成し、扇型の半径方向を合わせて接着して、コーン状に形成することができる識別キャップである。 - 特許庁 - To provide a master for magnetic transfer having such a rugged pattern that a shape of a magnetization part transferred to a magnetic recording medium has a desired shape when a magnetization pattern is formed on the magnetic recording medium using the master for magnetic transfer and to provide a manufacturing method of a master disk for manufacturing the master for magnetic transfer.
本発明は、磁気転写用マスタを用いて磁気記録媒体に磁化パターンを形成した際に、磁気記録媒体に転写された磁化部の形状が所望の形状となるような凹凸パターンを有する磁気転写用マスタ及びそのような気転写用マスタを製造するための原盤の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The three-dimensional shape measuring apparatus 10 comprises: a line sensor 16 for reading the measurement object, onto which the optical pattern is projected as an image; and an image analysis section for calculating three-dimensional shape information of the measurement object, by analyzing the optical pattern in the image read by the line sensor 16, on the basis of a spatial fringe analysis method.
ここで、三次元形状測定装置１０は、光パタンが投影された計測対象を画像として読み取るためのラインセンサ１６と、ラインセンサ１６により読み取られた画像における光パタンを空間縞解析法に基づいて解析して、計測対象の三次元形状の情報を算出する画像解析部とを備えている。 - 特許庁 - To provide an inexpensive shield member capable of immediately coping with a change by easily changing a shape so as to be matched with the shape and arrangement, etc., of a shield member attaching part around a noise generation source without the need of a die like a shield plate metal and providing a wiring pattern (signal pattern), and a shield structure using the shield member.
シールド板金のように金型を必要とせず、ノイズ発生源の周辺のシールド部材取付箇所の形状、配置などに合致するように形状を簡単に変更して直ちに対応することができ、配線パターン（信号パターン）を設けることもできる安価なシールド部材と、このシールド部材を用いたシールド構造を提供する。 - 特許庁 - The ink jet head is manufactured through a process for forming a taper in the nozzle hole using the light path of laser beam to be converged optically and dually through a mask having a hole shape pattern at the ink channel side and a mask having a hole shape pattern at the ink ejection side, which are arranged in order from a light source for drilling a nozzle hole into the nozzle plate by means of a laser.
レーザーを用いてノズルプレートにノズル穴を穿孔するにあたり、光源側から順に配置された、インクチャネル側の穴形状パターンを有するマスク及びインク吐出側の穴形状パターンを有するマスクを経て、光学的に２元に収光されるレーザー光の光路によりノズル穴にテーパーを形成する工程を経て製造されたインクジェットヘッド。 - 特許庁 - In the process simulator for a photosensitive polyimide which forecasts the pattern shape of a polyimide film 2 formed using a polyimide precursor dissolved in a solvent and a photosensitive agent, the pattern shape is forecasted by calculation in consideration of one or more factors in the photosensitive agent used and processing of prebaking, exposure, post-exposure baking and development.
溶剤に溶かしたポリイミド前駆体と感光剤とを使用して形成されるポリイミド膜２のパターン形状を予測する感光性ポリイミド用プロセスシミュレータにおいて、使用する感光剤、プリベイク処理、露光処理、露光後ベイク処理、現像処理における１又は２以上の因子を考慮に入れて計算して膜パターン形状を予測する。 - 特許庁
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