PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN 位相シフトマスクおよびパターン形成方法 - 特許庁
COLOR PRINTER AND ITS COLOR SHIFT CORRECTION METHOD カラープリンタ及びその色ずれ補正方法 - 特許庁
SHIFTMETHOD AND PROCESSING CORE OF PACKAGE DATA パッケージデータのシフト方法および処理コア - 特許庁
SHIFT LEVER DEVICE AND ASSEMBLY METHOD FOR THE SAME シフトレバー装置及びその組立方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR REDUCING GEAR SHIFT SHOCK 変速ショック低減方法および装置 - 特許庁
METHOD FOR ASSEMBLING SHIFT LEVER TO DETENT PIN シフトレバーへのディテントピンの組み付け方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK ハーフトーン位相シフトフォトマスクの製造方法 - 特許庁
MOBILE PHONE SYSTEM AND ZONE SHIFTMETHOD 移動電話装置及びゾーン移行方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE 位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN 位相シフトマスクブランクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFERRING METHOD 位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクブランクと、位相シフトマスク、及びパターン転写方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME 位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁
TASK MANAGEMENT SHIFT DEVICE, ITS METHOD, AND TASK MANAGEMENT SHIFT SYSTEM タスク管理移行装置およびその方法ならびにタスク管理移行システム - 特許庁
COLOR SHIFT CORRECTING CHART, COLOR SHIFT CORRECTING METHOD AND COLOR IMAGE FORMING DEVICE 色ずれ補正チャート、色ずれ補正方法及びカラー画像形成装置 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁
SHIFT CORRECTION DEVICE AND SHIFT CORRECTION METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD 位置ずれ補正装置並びに位置ずれ補正方法、画像形成装置、画像形成方法 - 特許庁
STRUCTURE AND METHOD FOR MOUNTING SHIFT LEVER シフトレバーの取付構造及び取付方法 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR HIGH-SPEED SHIFT-TYPE BUFFER 高速シフトタイプバッファ用システム及び方法 - 特許庁
METHOD FOR SETTING PHASE SHIFT AMOUNT, AND PHASE SHIFT PHOTOMASK AND METHOD FOR FABRICATING PHOTOMASK 位相シフト量設定方法、並びに、位相シフト型のフォトマスク及びその作製方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING TRANSMISSION TYPE PHASE SHIFT PHOTOMASK 透過型位相シフトフォトマスクの製造方法 - 特許庁
SHIFT CATALYST, AND METHOD AND EQUIPMENT FOR GAS PURIFICATION シフト触媒、ガス精製方法及び設備 - 特許庁
DRIVING METHOD FOR TRANSISTOR, DRIVING METHOD FOR SHIFT REGISTER, AND SHIFT REGISTER FOR IMPLEMENTING SAME トランジスターの駆動方法とシフトレジスタの駆動方法及びこれを実施するためのシフトレジスタ - 特許庁
CATALYST FOR SHIFT REACTION AND REACTION METHOD シフト反応用触媒及び反応方法 - 特許庁
SHIFT SHOCK REDUCTION CONTROL METHOD OF OUTBOARD ENGINE 船外機のシフトショック軽減制御方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK パターン形成方法及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN ハーフトーン位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン位相シフトマスクブランク、ハーフトーン位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR DESIGNING PHASE SHIFT MASK パターン形成方法、半導体装置の製造方法、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの設計方法 - 特許庁
PIXEL SHIFT DISPLAY DEVICE, PIXEL SHIFT DISPLAY METHOD, AND PROJECTION TYPE DISPLAY DEVICE HAVING PIXEL SHIFT DISPLAY DEVICE 画素ずらし表示装置、画素ずらし表示方法、画素ずらし表示装置を備える投射型表示装置 - 特許庁