「shift pattern」を含む例文一覧(836)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 16 17 次へ＞- The first correction step includes a Δ shift step of generating a Δ shift pattern based on the rectangle approximation pattern; and upon generating the Δ shift pattern in the Δ shift step, a side portion of the rectangle approximation pattern is shifted by an amount corresponding to the process bias Δ.
第１補正工程は、矩形近似パターンに基いてΔ移動パターンを生成するΔ移動工程を有し、Δ移動工程においてΔ移動パターンを生成するにあたり、矩形近似パターンの側部を、プロセスバイアスΔの量だけ移動させる。 - 特許庁 - A shift between the evaluation pattern 2a and the evaluation pattern 2b upon the overlapping thereof is measured.
評価パターン２ａと評価パターン２ｂとの重ね合わせ時のズレ量を測定する。 - 特許庁 - POSITION SHIFT CORRECTION PATTERN FORMING METHOD, POSITION SHIFT CORRECTING METHOD, AND COLOR IMAGE FORMING DEVICE
位置ずれ補正パターン形成方法及び位置ずれ補正方法並びにカラー画像形成装置 - 特許庁 - Similarly, the gear shift pattern changing unit changes a shift-down line to a high-speed side on the downward slope.
同様に、降坂時には変速パターン変更ユニットはシフトダウン線を高車速側に変更する。 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにパターン転写方法。 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
位相シフトマスク、位相シフトマスクを用いたパターンの形成方法および電子デバイスの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
位相シフトマスクブランクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁 - A second referential pattern is shifted by the total shift amount of S_1+S_2.
第２の基準パターンをシフト量Ｓ_１＋Ｓ_２分シフトする。 - 特許庁 - A user reads a shift of the pattern for correction to the calibration pattern at a marker position, and the amount of the shift is inputted into a printing apparatus.
ユーザは校正パターンに対する補正用パターンのずれをマーカー位置で読取り、そのずれ量を印字装置に入力する。 - 特許庁 - The switch-type gear shift operating parts 32 are mounted on a grip part of a gear shift lever 16 for shifting a main gear shift pattern up or down.
変速レバー１６の把持部にスイッチ式の変速操作部３２を設けて主変速パターンをアップ若しくはダウンさせる。 - 特許庁 - Together with the shift pattern ID, a special shift pattern ID indicating shift conditions under which shift control is effected is included in the drive control request message for transmission to each domain controller.
そして、変速パターンＩＤと共に、どういった変速条件に基づいて変速制御を行うかを示す特殊変速パターンＩＤも駆動制御要求メッセージに含めて各ドメインコントローラに送る。 - 特許庁 - In this case, in the shift pattern selection part 323, the tendency of selecting the first shift pattern or selecting the second shift pattern is different between the case of winning the big winning and the case of winning the small winning.
ここで、移行パターン選択部３２３は、大当たりに当選した場合と、小当たりに当選した場合とで、第１移行パターンを選択するか第２移行パターンを選択するかの傾向が異なる。 - 特許庁 - The shift pattern selection part 323 has a plurality of shift patterns including a first shift pattern defining shift contents between the respective performance modes in the plurality of performance modes and a second shift pattern defining shift contents partially different from the shift contents defined by the first shift pattern, and selects one of the shift patterns when a big winning or a small winning is won in big winning drawing by the big winning drawing part 314a.
移行パターン選択部３２３は、複数の演出モードにおける各演出モード間の移行内容を定義した第１移行パターンと、第１移行パターンが定義する移行内容と一部が異なる移行内容を定義した第２移行パターンとを含む複数の移行パターンを有し、大当たり抽選部３１４ａによる大当たり抽選で大当たりまたは小当たりに当選した場合に、いずれかの移行パターンを選択する。 - 特許庁 - In the pattern formation step, a pattern 111 for measuring shift in position and a first pattern 101 are formed in a first layer.
パターン形成工程では、第１層に位置ズレ計測用のパターン１１１と第１パターン１０１とを形成する。 - 特許庁 - To widen an allowance for a positional shift of an absolute pattern to an incremental pattern, and to make the incremental pattern fine.
アブソリュートパターンのインクリメンタルパターンに対する位置ずれの許容度を大きくし、インクリメンタルパターンの微細化を可能とする。 - 特許庁 - The dynamic defect detection test pattern can contain a last-shift-launch test pattern and a broad-side test pattern, for example.
動的欠陥検出テストパターンは、例えば、ラスト−シフト−ローンチテストパターン及びブロードサイドテストパターンを含むことができる。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法 - 特許庁 - LEVENSON PHASE SHIFT MASK AND FINE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
レベンソン位相シフトマスク及びこれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁 - The second pattern 5 transmits light and has a recess 6 for a phase shift.
第２パターン５は、光が透過し、位相シフト用の凹部６を有する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an imprint mask, capable of correcting a shift in position of an imprint mask pattern having the shift in position of a pattern.
パターン位置ずれを有するインプリントマスクのパターン位置ずれを補正することができるインプリントマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To appropriately evaluate a shift of an exposure position of a pattern prior to exposure.
露光前にパターンの焼付け位置のずれを適切に評価する。 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND BLANK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁 - OPTICAL SUBSTRATE, AND POSITION SHIFT MEASURING METHOD FOR SUBSTRATE TOP/REVERSE SURFACE PATTERN USING POSITIONING PATTERN
光学基板及び位置あわせパターンを用いた基板表裏面パターンの位置ずれ測定方法 - 特許庁 - A correctitude drawing pattern for correcting the imaging position shift is generated based upon the imaging position shift (ST106).
結像位置ずれに基づいて結像位置ずれを補正するための方正描画パターンを作成する(ST106)。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR DESIGNING PHASE SHIFT MASK
パターン形成方法、半導体装置の製造方法、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの設計方法 - 特許庁 - BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD BY USING SAME
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク、並びにパターン転写法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁 - Since shift control based on a shift pattern is performed before the high-side shift stage limiting control is started, useless up-shift as shown by the broken line occurs just before t2.
ハイ側変速段制限制御が開始される前は変速パターンに基づく変速制御であるため、t2直前に破線で示すように無駄なアップシフトが発生する。 - 特許庁 - To form a pattern with high resolution while preventing pattern shift even when the positional shift of a substrate is caused during the substrate is continuously conveyed.
基板を連続的に搬送させている間に基板の位置ずれが生じてもパターンずれを生じず、高解像度のパターンを形成させる。 - 特許庁 - The rotary shafts 39 and 40 of the shift arms are pivotally mounted in the same axis on the bearing part 70 of the transmission case 12 to constitute a shift operation device that the operation pattern of a shift lever is an I-type pattern.
シフトアームの回動軸３９，４０は、同一軸心にてミッションケース１２の軸受部７０に枢着され、シフトレバーの操作パターンがＩ形パターンの変速操作装置を構成する。 - 特許庁 - To provide a shift lever device capable of transmitting shift positions to a transmitter by using only a small number of switches, even in a complicated shift pattern.
複雑なシフトパターンであっても、少ない数のスイッチのみで変速機にシフトポジションを伝えることができるシフトレバー装置を提供すること。 - 特許庁 - When an operation of color shift correction is determined to be requested, a pattern for color shift correction is formed (a step S4).
色ずれ補正実施要求があると判断した場合には、色ずれ補正用パターンを形成する（ステップＳ４）。 - 特許庁 - To provide a method for inspecting a phase shift mask, which never detects a false defect of a pattern as a pattern defect by mistake when a pattern defect of the phase shift mask is inspected.
位相シフトマスクのパターン欠陥検査に際し、パターンの疑似欠陥を誤ってパターン欠陥として検出することがないようにした、位相シフトマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
位相シフトマスク、その製造方法、およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - Shift amount absence or the address difference is set as an address shift amount depending on whether it is a first special pattern or a second special pattern.
第１の特別図柄であるか第２の特別図柄であるかの別に応じてずれ量なし及びアドレス差のうちの何れかをアドレスずれ量に設定する。 - 特許庁 - The correction factors are calculated, based on the measured pattern and the DIW pattern, after the pattern matching between which there is no mutual waveforms shift.
パターンマッチング後の互いに波形のずれがない計測パターンおよびＤＩＷパターンに基づいて補正係数の演算が行われる。 - 特許庁 - A phase shift data generating section 5 includes an LUT storing a phase shift data pattern and reads a phase shift data corresponding to the above difference from the LUT to output it.
位相シフトデータ生成部５は、位相シフトデータ・パターンを記憶したＬＵＴを内蔵し、上記差に応じた位相シフトデータをＬＵＴより読み出し出力する。 - 特許庁 - To shorten processing time in color shift correction when detection of a pattern for color shift detection is normal while maintaining the color shift correction with high accuracy.
精度の高い色ずれ補正を保ちつつ、色ずれ検出用パターンの検出が正常な時の色ずれ補正における処理時間を短縮する。 - 特許庁 - Thus, the sub-guide is preferably changed while commonly using the housing 12 between the different shift patterns, so that this shift device can easily cope with the different shift pattern.
これにより、異なるシフトパターン間において、ハウジング１２を共用しつつ、サブガイドを変更すればよく、異なるシフトパターンに簡単に対応できる。 - 特許庁 - An inter-color registration correction pattern for detecting the overlay shift in an overlaid image on which registration marks are arranged is formed, and is read to detect the overlay shift (positional shift).
レジストマークが配置された重ね合わせ画像の重ねズレ検出用の色間レジ補正パターンを形成し、それ読み取って、重ねズレ（位置ズレ）を検出する。 - 特許庁 - In this case, demand whether it is to be up-shift or down-shift, furthermore, the number of steps required in shift is expressed by changing oscillating pattern.
ここで、アップシフト要求であるかダウンシフト要求であるかの別、更には、シフトが要求される段数を、振動パターンの切り換えで表すようにする。 - 特許庁 - An address shift amount setting means sets either one of shift amount absence and an address difference as an address shift amount depending on whether a special pattern to start variation is a first special pattern or a second special pattern.
アドレスずれ量設定手段は、変動を開始する特別図柄が第１の特別図柄であるか第２の特別図柄であるかの別に応じて、アドレスずれ量としてずれ量なし及びアドレス差のうちの何れか一方を設定する。 - 特許庁 - The image forming device sets a threshold value for determining whether the light amount detected from the formed color shift detection pattern is detected from the color shift detection pattern or is detected from the source other than the color shift detection pattern according to the length in the sub-scanning direction of the derived color shift detection pattern of each color.
また、画像形成装置は、形成した色ずれ検出パターンから検出された光量が色ずれ検出パターンから検出された光量か色ずれ検出パターン以外のものから検出された光量かを判別するための閾値を、導出した各色ずれ検出パターンの副走査方向の長さに応じて設定する。 - 特許庁 - A corrector moves the position of the pattern surface, thereby the substantial shift of the pattern surface due to the pellicle is removed.
補正器が、パターン面の位置を移動させることにより、ペリクルによるパターン面の実質上のずれをうち消す。 - 特許庁 - The mask pattern of a phase shift mask has a light shielding pattern and first and second transmitting patterns which transmit exposure light.
位相シフトマスクのマスクパターンを、遮光パターンと、露光光を透過する第１、第２の透過パターンとから構成する。 - 特許庁 - To provide a phase shift mask which improves the NILS value of a pattern of ≤50 nm in mask pattern size when the pattern is exposed and a pattern exposing method using the same.
マスクパターンサイズが５０ｎｍ以下パターンを露光する場合に、そのＮＩＬＳ値を改善する位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法を提供する。 - 特許庁 - To perform proper pattern examination of even an eaves shape phase shift mask.
ひさし型位相シフトマスクについても適切なパターン検査を行えるようにする。 - 特許庁 - A pattern shift section 32 shifts a waveform pattern for a middle register in a left direction by only D/3, thereby generating a waveform pattern for a lower register.
パターンシフト部３２は、中音域用の波形パターンをD/3だけ左方向にシフトすることにより、低音域用の波形パターンを生成する。 - 特許庁 - A color shift correcting means includes: a pattern image forming means for forming a color shift pattern image in each color on a transfer surface; and a position detecting means for detecting the position of the formed pattern image.
色ずれ補正手段は、各色ごとの色ずれのパターン画像を転写面上に形成するパターン画像形成手段と、形成されたパターン画像の位置を検出する位置検出手段とを含む。 - 特許庁
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