「solution-processed」を含む例文一覧(296)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 次へ＞- The electron beam irradiation section 10 directs an electron beam passing through a window 14 to a processing solution 81 on the surface of the object 90 to be processed, so as to activate the processing solution 81.
電子ビーム照射部１０は、窓１４を通過した電子ビームを処理対象物９０表面上の処理溶液８１に照射して、その処理溶液８１を活性化させる。 - 特許庁 - This method for producing the subject processed food comprises such processes that a hot water extract solution obtained by subjecting Laticanda semifasciata to hot water treatment under pressure, or an extract solution obtained by dissolving in a basic aqueous solution hot water insolubles obtained after separating the above hot water extract solution is evaporated to dryness and then ground into powder.
エラブ海蛇を加圧下で熱水処理して得られた熱水抽出液、またはエラブ海蛇を加圧下で熱水処理して熱水抽出液を分離した後の熱水不溶成分を塩基性水溶液で溶解して得られた抽出液を、それぞれ乾燥した後、粉末化する。 - 特許庁 - When culturing the natural rubber decomposing bacterium in a culture solution containing the natural rubber processed product, decomposition treatment or surface treatment of the natural rubber processed product is carried out without stirring the solution or at a relative slow stirring rate at the initial stage of culture and then increasing the stirring rate thereafter.
天然ゴム分解菌を天然ゴム加工物を含む培養液中で培養するに際して、培養当初は無攪拌か、比較的攪拌速度を遅くし、この後、攪拌速度を増大させることによって、天然ゴム加工物を分解処理あるいはその表面処理を行う。 - 特許庁 - The dispersion liquid or the solution intrudes into the inside of the roughly processed workpiece along opening gaps, and thereby the additive for controlling growth of the crystals is dispersed into the roughly processed workpiece in a step-by-step manner.
この分散液又は溶液が、粗加工品の開いている空隙溝に沿って内部に侵入することで、結晶の成長を抑制する添加物が段階を辿って粗加工品中に分散する。 - 特許庁 - The permeable sheet which can be carried in from a narrow manhole is processed into a bag form in the tank or the permeable sheet is carried in after being processed, and a resin solution such as urethane is sprayed over the permeable sheet to convert it into the impermeable sheet.
狭い人孔部より搬入可能な透水シートを槽内で袋状に加工しあるいは加工した後搬入し、ウレタンなどの樹脂溶液を吹付け防水性のある遮水シートに変換した。 - 特許庁 - Also disclosed is a method for reducing the number of defects on a plurality of post-CMP processed substrates employing the process solution of the present invention.
さらに、本発明のプロセス溶液を用いて、複数のCMP処理後の基材上にある欠陥の数を低減する方法が開示される。 - 特許庁 - To provide a method for producing processed dried egg yolk excellent in reconstitution with a low-concentration saline solution, and also high in decholesterolization rate.
低濃度食塩水に対して戻りがよく、かつ、脱コレステロール率も高い加工乾燥卵黄を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - A silicon wafer is processed with a mixed acid etching solution 2 of nitric acid, hydrofluoric acid, and acetic acid, and when the mixed etching solution 2 is electrolyzed at a potential of 0.3 V to 0.7 V, nitrite ion contained in the solution is linearly and proportionally changed in concentration to an electrolyzing current.
硝酸、弗酸及び酢酸からなる混酸エッチング液２でシリコンウエハを処理する場合に０．３Ｖ〜０．７Ｖの間の特定電位で電解を行うと液中の亜硝酸イオン濃度は電解電流値に比例して直線的に変化する。 - 特許庁 - A method for producing the same is characterized by adding, heating and dissolving the deacylated gellant gum and the starch in water, adding and dissolving the dry devil's tongue processed product in the obtained solution, and then cooling the obtained solution to ≤60°C.
水に脱アシル型ジェランガム及び澱粉を加え加熱溶解した後、乾燥こんにゃく加工品を加え溶解後、６０℃以下まで冷却することにより、凝固卵黄様組成物を製造する。 - 特許庁 - The method for producing a potato processed product comprises wetting a peeled potato with 0.2-0.8 wt.% magnesium-salt solution followed by heating the potato in 1.0-6.0 wt.% magnesium-salt solution.
剥皮したジャガイモを、０．２〜０．８％のマグネシウム塩水溶液で接液処理した後、１．０〜６．０％のマグネシウム塩水溶液中で加熱処理することを特徴とするジャガイモ加工品の製造方法とした。 - 特許庁 - The method for producing a tea-leaf processed product using an extruder and sugar solution comprises processing tea leaves with an extruder while supplying 1-100 wt.% of sugar solution to 100 wt.% of the tea leaves under the pressure of 0.2-30 MPa at 80-150°C for 5-600 sec.
茶葉を80〜150℃、0.2〜30MPa、及び5〜600秒の条件下において、糖水溶液を、茶葉100重量に対し1〜100重量で供給しながらエクストルーダ加工する、茶葉加工品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To keep the developing activity of a developing solution good and stable when many photosensitive planographie printing plates are processed using an automatic processing machine.
自動現像機を用いて感光性平版印刷版を多数枚処理するとき、現像液の現像活性度を良好且つ安定に保つこと - 特許庁 - In the first step, a processed food is immersed, for a prescribed time, in a soup prepared by cooking a seasoning food material in an aqueous solution containing vinegar.
第１工程で、食酢を含む水溶液に味付用食品原料を入れて煮込んだ煮汁に、加工食品を所定の時間漬ける。 - 特許庁 - To prevent a splashing of a chemical solution to a face of one side of a substrate when a film to be processed on a face of another side of the substrate is etched for peeling.
基板の一方の面の被加工膜をエッチングして剥離するときに、薬液が基板の他方の面に飛散することを防止する。 - 特許庁 - To provide a substrate-processing device and a method, where a substrate can be stably processed and restrained of a processing solution from varying in concentration.
処理液の濃度変動を抑えて基板処理を安定して行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electroless copper plating solution which can be processed simply at the time of disposal, and can sufficiently reduce the burden on the biological environment or the like.
廃棄の際には、簡単な処理で済み、且つ生物環境等に対する負荷を充分に軽減し得る無電解めっき液を提供する。 - 特許庁 - IMMERSING SOLUTION OF STARCH MODIFIED AQUEOUS ADHESIVE, YARN PROCESSED WITH THE SAME, AND TIRE HAVING COMPONENT COMPRISING RUBBER COMPOSITION CONTAINING SUCH YARN
澱粉変性・水性接着剤浸漬液、それで処理されたヤーン、およびそのような処理ヤーンを含むゴム組成物の構成材料を有するタイヤ - 特許庁 - While immersing a silicon substrate 1 to be processed in an oxidizing solution 3 in a processing bath 2, the silicon substrate 1 is connected to a power supply 4.
被処理用のシリコン基板１を、処理槽２内の酸化性溶液３に浸漬した状態で、シリコン基板１に電源４を接続する。 - 特許庁 - To shorten a processing cycle time of a processing operation of supplying and applying a processing solution on a substrate to be processed in a spinless system, and form an applied film of the processing solution on the substrate with a uniform thickness without uneven application.
スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する処理動作のタクトタイムを短縮するとともに、被処理基板上に処理液の塗布膜を塗布ムラのない均一な膜厚で形成すること。 - 特許庁 - The workpiece including the magnetic material is processed by means of dry etching, and then the workpiece is cleaned with an alkaline solution (for example, scrub treatment, ultrasonic cleaning).
磁性材を含む被加工体をドライエッチングにより加工し、アルカリ性溶液を用いて被加工体を洗浄（例えばスクラブ処理、超音波洗浄）する。 - 特許庁 - The processed hydrolyzed protein is obtained by heating a solution containing a hydrolyzed protein and sake lees at 100 to 140°C.
たん白加水分解物および酒粕を含有する溶液を１００〜１４０℃で加熱して得ることを特徴とするたん白加水分解物加工品。 - 特許庁 - The bread crumb improving agent contains at least either one of a culture solution of Lactobacillus plantarum (FERM P-21534) and a processed product thereof.
ラクトバチルス・プランタラム（Ｌａｃｔｏｂａｃｉｌｌｕｓ ｐｌａｎｔａｒｕｍ：寄託番号 ＦＥＲＭ Ｐ−２１５３４）の培養液及び処理物の少なくともいずれかを含有するパン粉改良剤である。 - 特許庁 - Then, a receiving electrode 6 is formed on an upper layer of the insulating layer, and after the receiving electrode 6 is formed, the insulating layer is surface processed with a solution containing hydrofluoric acid .
次に、絶縁層の上層に受け電極６を形成し、受け電極の形成後、絶縁層をフッ酸が含まれる溶液で表面処理する。 - 特許庁 - In the method of counter current washing, a process station and/or the material processed therein is washed and a series of tanks of washing solution used in a sequential fashion are used.
プロセスステーション及び／又はそこで、処理される材料を洗浄し、シーケンス様式で使用される洗浄溶液の一連のタンクを用いる方法。 - 特許庁 - By supplying a resist peeling solution to the surface of the processed wafer, an unnecessary resist film is peeled off and removed from the surface of the wafer.
そして、その処理後のウエハの表面にレジスト剥離液が供給されることによって、ウエハの表面から不要になったレジスト膜が剥離されて除去される。 - 特許庁 - Thereafter, the processed substrate is divided into individual chips by, for example, blade dicing, and the chips are immersed in an alkali solution and are cleaned with water (steps S4 to S6).
その後、例えば、ブレードダイシングを行って被処理基板をチップに個片化し、そのチップをアルカリ溶液に浸漬し、さらに水洗処理を行う（ステップＳ４〜Ｓ６）。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus, etc. which can raise the temperature on the peripheral part of the substrate to be processed in a short time to heighten the efficiency of processing by a chemical solution.
短時間で被処理基板の周縁部の温度を上げて薬液による処理効率を高めることが可能な液処理装置などを提供する。 - 特許庁 - An object 10 to be processed made of an iron-based material and counter electrodes 22A and 22B are soaked in process water solution containing phosphate ions and zinc ions.
リン酸イオンおよび亜鉛イオンを含有する処理水溶液の中に、鉄系材料からなる処理対象物１０と、対向電極２２Ａ，２２Ｂとを浸漬する。 - 特許庁 - The processed food of fruit is obtained by soaking (S6) a frozen dried fruit (S4) in an aqueous solution of sugar of Brix' degree 20-90%.
果実の凍結乾燥品（Ｓ４）を、ブリックス濃度２０％〜９０％の糖水溶液に浸漬（Ｓ６）してなる果実加工食品を解決手段とする。 - 特許庁 - According to the fluctuation of the accuracy control results, reagent blank absorbance, reagent blank initial absorbance, difference between two times of measurement of standard solution absorbance, a K factor are statistically processed.
精度管理結果の変動に合わせて、試薬ブランク吸光度，試薬ブランク初期吸光度，標準液吸光度２回測定の差，K factorを統計処理する。 - 特許庁 - In a step of filling a metal plating film in a via hole or a trench provided in an insulating film formed on a semiconductor substrate, data including an initial volume of plating solution, volume of replenished solution, the number of wafers processed, value of current applied and volume of waste solution are first collected.
半導体基板上に形成された絶縁膜に設けられたヴィアホール又はトレンチに金属めっき膜を埋め込む工程において、まず、最初のめっき液の容積、補充しためっき液量、処理したウェーハ枚数、流した電流値及び排出しためっき液量の各データを収集する。 - 特許庁 - A surface of a photosensitive material is processed with a developing agent part processing solution containing a color developing agent, the surface is then coated with a diffusing solution to make the color developing agent permeate into the interior of the photosensitive material, and the surface is further coated with an alkali part processing solution containing an alkali agent, thereby performing color development.
発色現像主薬を含む主薬パート処理液を感光材料表面に処理し、次いで拡散処理液を塗布して感材内部まで発色現像主薬を浸透させた後、アルカリ剤を含むアルカリパート処理液を塗布して発色現像処理を行う。 - 特許庁 - Next, after so dipping the processed object into a weak acid solution as to remove palladium adsorbed in unnecessary portions, the processed object is so dipped into oxidation-reduction type electroless nickel plating liquid as to grow a nickel deposition 17 on the palladium-activated film 16.
次に、弱酸溶液に浸漬して不要な部分に吸着したパラジウムを除去した後、酸化還元型の無電解ニッケルめっき液に浸漬して、該パラジウム活性化皮膜１６上にニッケル析出物１７を成長させる。 - 特許庁 - To provide a waste solution collecting device which can suitably collect and discard a waste solution after being processed regardless of an automatic or manual operating state of an apparatus for chemically processing an object such as a substrate using a plurality of sorts of processing solutions, a waste solution collection control method, and a developing device using the waste solution collecting device.
複数種類の処理液を用いて基板等の対象物を化学処理する装置において、当該装置の自動、手動の運転状態にかかわらず、処理廃液の回収又は廃棄を適切に行うことができる処理廃液回収装置及びその回収制御方法、並びに、該処理廃液回収装置を適用した現像装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a developing solution which imparts satisfactory development activity when a black-and-white silver halide photographic sensitive material is processed with the developing solution mainly consisting of ascorbic acids as a developing agent, and which ensures no base fog and little oxidation deterioration of the developing agent.
黒白ハロゲン化銀写真感光材料をアスコルビン酸類を主薬とした現像液にて処理する場合、充分な現像活性を与え、又、ベースカブリのない、現像主薬の酸化劣化が少ない現像液を提供する。 - 特許庁 - The processing device for processing a substrate with processing solution comprises a chamber for processing the substrate with processing solution, and a Peltier element 13 for making the temperature of the substrate which is carried-in to be processed into the chamber lower than the temperature in the chamber.
基板を処理液によって処理する処理装置であって、 基板を処理液によって処理するチャンバと、チャンバ内に搬入されて処理される基板の温度を、上記チャンバ内の温度よりも低くするペルチェ素子１３を具備する。 - 特許庁 - This method for the preservation treatment of a food material, comprising immersing the food material processed into a prescribed shape in the aqueous solution of a mixture of a hydrochlorite with hydrochloric acid, washing the food material with water, further immersing the food material in a 95°C acetic acid aqueous solution for 10 min, and then washing the food material with water.
所定形状に加工した食材を次亜塩素酸と塩酸との混合水溶液に５分間浸漬した後、水洗し、さらに、この食材を９５℃の酢酸水溶液に１０分間浸漬した後、水洗する。 - 特許庁 - This method for producing the tea extract processed product comprises tannase-treating tea extracted solution and concentrating the treated solution followed by cooling so as to extract gallic acid separated by tannase treatment, and separate and remove the gallic acid.
茶抽出液をタンナーゼ処理した後、該処理液を濃縮し、冷却することにより、タンナーゼ処理により遊離した没食子酸を析出させ、分離除去することを特徴とする茶抽出処理物の製造方法。 - 特許庁 - This beef-processed product improved in palate feeling, especially a sausage, is obtained by adding to a beef-processed product 0.05-1.5 wt.% of &Igr;-carrageenan with a calcium content of ≤0.1% whose 1.5 wt.% aqueous solution is not gelatinized at 25°C.
牛肉加工品にカルシウム含有量が０．１％以下であり、その１．５重量％水溶液が２５℃条件下でゲル化しないものであるι（イオタ）−カラギナンを０．０５〜１．５重量％添加して食感改善された加工品、特ソーセージを得る。 - 特許庁 - In a method for producing heat-processed potato, peeled potato or peeled and cut potato is vacuum-packed and is subjected to heating treatment at an elevated temperature after being soaked in an aqueous solution containing acetic acid, thereby obtaining the heat-processed potato.
剥皮したジャガイモまたは剥皮しカットしたジャガイモを、酢酸を含有する水溶液中に浸漬した後、真空包装して高温で加熱処理して加熱加工ジャガイモを製造する本発明の方法により、上記した加熱加工ジャガイモが得られる。 - 特許庁 - Plasma is generated from the vapor of an electrically conductive molten solution by discharge in which the molten liquid is used as a cathode, and ions in the plasma are implanted into a work to be processed by applying negative high voltage pulses on the work to be processed which is placed in the plasma.
導電性の融液を陰極とした放電によって、融液の蒸気からプラズマを発生させ、プラズマ中においた被処理物に負の高電圧パルスを印加することによってプラズマ中のイオンを被処理物に注入する。 - 特許庁 - A gap (G) between a film to be processed of a wafer (W) and an electrode 31 of an electro-chemical machining apparatus 10 is controlled to the minimum value by using a static pressure or dynamic pressure of an electrolytic solution.
ウェーハWの被加工対象膜と電解加工装置10の電極31との間のギャップGを電解液の静圧或いは動圧を利用して極小に制御する。 - 特許庁 - To obtain a catechin-processed fiber having high antimicrobial effect in no need of a solid binder or a fixing agent, for example, a resin binder, or the like, by soaking a cationic fiber into an anionic catechin aqueous solution thereby ionically bonding the catechin to the fiber molecule.
樹脂バインダのような固結剤あるいは固着剤を用いることなく、しかもカテキン類を繊維に効果的に結合させることを目的とする。 - 特許庁 - The hair-growing agent for preventing stress-related depilation comprises a fermented solution obtained by carrying out at least acetic acid fermentation of processed liquid of tomato as an active ingredient.
本発明の目的は、ストレスによる脱毛及び／又は発毛阻害に対して改善効果を有するストレス性脱毛予防改善育毛剤を提供することである。 - 特許庁 - There is provided a method of forming a metal Cu layer on a Cu_2O film surface in which an object to be processed formed with the Cu_2O film is brought into contact with an aqueous solution containing a reducing agent.
Cu_2O膜を形成した被処理物を、還元剤を含有する水溶液に接触させることを特徴とするCu_2O膜表面に金属Cu層を形成する方法。 - 特許庁 - To provide a thermally processed material which is low in fog, even in the case of use and storage under an atmosphere of high humidity and advantageous in manufacture and operating conditions and to provide its manufacture by using a specified solvent coating solution for forming an image-forming layer.
高湿雰囲気下使用や保存してもカブリが低く、作業環境、コストの面で有利な熱現像材料及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a processing method in which even a photosensitive material rapidly processed under low replenishment is excellent in dye image preservability and a stable usable solution can be provided even in low replenishment.
迅速・低補充で処理した感材でも色素画像保存性に優れ、かつ低補充時においても安定な使用液を提供できる処理方法を提供する。 - 特許庁 - The onion-processed product heated in the presence of a sulfur-containing compound comprises subjecting onion to hot-water heating treatment in a solution containing a sulfur-containing compound having 1.0×10^-9 wt.% to 1.0 wt.% of elemental sulfur based on the weight of dried onion.
玉葱の乾燥重量に対して硫黄元素の重量が1.0×10^-9％〜1.0％である含硫化合物含有溶液で、玉葱を熱水加熱する。 - 特許庁 - To provide an improved method for treating a waste developing solution generated when a great number of negative photosensitive planographic printing plates are processed.
ネガ型感光性平版印刷版を多数版現像処理する場合において、発生する現像廃液の処理方法について改良された処理方法を与えること。 - 特許庁 - The water-soluble surface protecting agent is diluted with water so that 0.5-10% of agent is contained in the water, and a wafer or the like is mechanically processed by cutting or grinding while applying the diluted solution onto the wafer or the like.
この水溶性の表面保護剤を０．５〜１０％含有するように水で希釈し、ウエハー類に掛けながら切削、研削など機械的な加工処理を行う。 - 特許庁
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