To provide a patternformation device, a patternformation method, and a mold for patternformation, capable of measuring accurately a spatial positional relation between a surface including a working face formed with a transfer pattern of a mold, and a substrate of a worked member. モールドの転写パターンが形成された加工面を含む表面と、被加工部材である基板との間の空間的な位置関係を正確に計測することが可能となるパターン形成装置、パターン形成方法およびパターン形成用モールドを提供する。 - 特許庁
To achieve the low spatial coherence of laser light and reduce harmful effect on resist patternformation due to speckle noise generation. レーザ光の低空間コヒーレンス化をはかり、スペックルノイズの発生によるレジストパターン形成への悪影響を低減化すること。 - 特許庁
To extract a component of spatial frequency which particularly needs evaluation in formation of a device or in analysis of a material or process of edge roughness on a micro line pattern, and express it by an index. 微細ラインパターン上のエッジラフネスのうち、デバイスの作成上あるいは材料やプロセスの解析上特に評価が必要となる空間周波数の成分を抽出し、指標で表す。 - 特許庁
The image of a display pattern generator 102 is optically reduced and projected to the spatial optical modulator 101 having optical sensitivity by a multi-lens image-formation optical system 103, and a phase or amplitude distribution corresponding to a projected image group 104 is formed on an electrooptical medium. 光感度を有する空間光変調器101に表示パターン発生器102の画像が多眼結像光学系103によって光学的に縮小投影され、この投影画像群104に対応した位相あるいは振幅分布が電気光学媒体に形成される。 - 特許庁
If a setting is performed so that an image-formation position is conformed to a reading image surface 16, a scattered light from the light scattering pattern 13 is input to the reading image surface 16 without futility and a spatial light intensity distribution in sub scanning direction can be made uniform. そこで、この結像位置と読み込み画像面16とが一致するように設定しておけば、光散乱パターン13からの散乱光が無駄なく読み込み画像面16に入射することになり、副走査方向における空間光強度分布の均一化も図れる。 - 特許庁