「spin around」を含む例文一覧(54)

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  • Don't spin around! you're not a mouse
    回るな! ネズミじゃないんだから。 - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • After dinner we took a spin around town in my car.
    食後、私の車で町を一走りした。 - Tanaka Corpus
  • After dinner, we took a spin around town in my car.
    食後、私の車で町を一走りした。 - Tatoeba例文
  • Ten variations. this is, like, spin the letter around.
    10種類あります これは文字が回転します - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • The spin base 6 is rotated around a vertical axial line.
    スピンベース６が鉛直軸線まわりに回転される。 - 特許庁
  • He will urinate and spin his tail to spread the urine around
    シッポを回しながら尿をします 尿を飛び散らすのです - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • an apparatus that is used to spin a container around very quickly to make substances separate
    遠心力を利用して物質を分離させる装置 - EDR日英対訳辞書
  • So what we're gonna do is spin around venus to pick up speed... then slingshot from venus to earth.
    "僕達は加速する為 金星と回り..." "地球へ射ち出してもらう" - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • If I wind this up and then let go, why doesn't the propeller stay still and the body of the plane spin around?
    巻いて放すと どうしてプロペラが動かないで 機体が回らないんだ? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • A spin plate 520 is provided on a spin chuck holding a substrate rotatably around a rotation axis parallel to a vertical direction.
    基板を保持するスピンチャックにおいて、鉛直方向に平行な回転軸の周りで回転可能にスピンプレート５２０が設けられる。 - 特許庁
  • To provide a spin-torque MRAM cell array of which the area occupied by wirings taken around in the spin-torque MRAM cell array is made small, a spin-torque MRAM device, and a programming method of the spin-torque MRAM cell array.
    スピントルクＭＲＡＭセルアレイ中に引き回される配線が占める領域を小さくしたスピントルクＭＲＡＭセルアレイ、スピントルクＭＲＡＭ装置およびスピントルクＭＲＡＭセルアレイのプログラミング方法を提供する。 - 特許庁
  • A quantity of the etching E running around is controlled by a rotational speed of a spin chuck 1.
    エッチング液Ｅの回り込み量は、スピンチャック１の回転速度によって制御される。 - 特許庁
  • An air path 7, communicating with an exhaust duct 8 is provided around a substrate chuck 3 of a spin 15.
    スピン部15の基板チャック３の周囲に、排気ダクト８に連通する風路部７を設ける。 - 特許庁
  • A holding means is provided around the rotation center of the spin rotary shaft 82 for holding the cassette.
    このスピン回転軸82の回転中心の周囲にカセット１を保持する保持手段100を設ける。 - 特許庁
  • A pin chuck includes the spin base 31 rotated around a rotary axial line 1a, and a clamp pin 32 provided to the upper face of the spin base 31.
    スピンチャック１は、回転軸線１ａまわりに回転されるスピンベース３１と、スピンベース３１の上面に設けられた挟持ピン３２とを有する。 - 特許庁
  • A wafer W is rotated around a vertical rotation axis in a state where the wafer W is held by a spin chuck.
    ウエハＷは、スピンチャックに保持されて鉛直方向に沿う回転軸線まわりに回転される。 - 特許庁
  • A spin chuck 1 rotates around a rotating shaft 25 while the chuck 1 pinches a wafer W by means of a pinching member F1.
    スピンチャック１は、ウエハＷを挟持部材Ｆ１により挟持して回転軸２５まわりに回転する。 - 特許庁
  • To provide a spin coater by which the wrap-around of liquid to be applied toward the underside of a substrate can be prevented by a simple structure.
    簡単な構造で塗布対象液体の基板裏面への廻り込みを防ぐことができるスピンコータを提供する。 - 特許庁
  • A plurality of guide members 25 are arranged radially on the spin base 13 centered around the rotary center A0 at a circumferential side the spin base 13 with respect to the supporting pins FF1 to FF6, and SS1 to SS6.
    複数個のガイド部材２５が支持ピンＦＦ１〜ＦＦ６，ＳＳ１〜ＳＳ６に対しスピンベース１３の周縁側で回転中心Ａ０を中心として放射状にスピンベース１３に設けられている。 - 特許庁
  • To surely remove the coating solvent wrapping around the rear surface of a substrate held by a spin chuck through suction, while the front surface of the substrate is coated with the solvent without forming the trace of the spin chuck on the rear surface.
    スピンチャックに吸着保持された基板表面のコーティング中に基板裏面に廻り込んだコーティング溶剤を、スピンチャック形状の痕を形成することなく確実に除去することができる基板回転処理装置を提供する。 - 特許庁
  • In one embodiment, rotation around an axis is limited by a spin stopper which can be moved to make assembling easier.
    一実施形態では、組立てを容易にするために移動可能とすることができるスピンストッパーによって１つの軸を中心とした回動が制限されている。 - 特許庁
  • To provide a spin coating apparatus capable of preventing a coating solution from turning around to the rear face of a rectangular substrate at the time of applying the coating solution to the rectangular substrate.
    矩形基板に塗布液を塗布する際に、矩形基板の裏面への塗布液の回り込みを防止することのできる回転塗布装置を提供すること。 - 特許庁
  • A wafer W is rotated around a vertical axial line by a spin chuck, and treatment liquid is supplied from a lower face nozzle 15 to the lower face of the wafer W.
    スピンチャックによってウエハＷを鉛直軸線まわりに回転させる一方で、ウエハＷの下面に向けて、下面ノズル１５から処理液を供給する。 - 特許庁
  • Treatment parts 21-24 in the wafer treatment device are each provided with a spin chuck 31 to be spun around a perpendicular axial line while approximately horizontally holding a wafer W.
    この基板処理装置の処理部２１〜２４には、ウエハＷをほぼ水平に保持して鉛直軸線回りに回転するスピンチャック３１が備えられている。 - 特許庁
  • The rotary shaft 5 of the spin table 4 is supported so that the inner circumferential surface is rotatable around a supporting shaft 3 provided on a main body frame 2 through a pair of the bearings 6, 7.
    スピンテーブル４の円筒状の回転軸５は、その内周面が本体フレーム２に設けた支持軸３に一対の軸受６,７を介して回転可能に支持されている。 - 特許庁
  • The spinner is arranged to spin around both a first axis of rotation and a second axis of rotation so as to form substantially hemispherical scan space.
    スピナーは、ほぼ半球形の走査空間を形成するために、第１の回転軸および第２の回転軸両方を中心にして回転するように配置されている。 - 特許庁
  • To prevent a plating layer from peeling off around a substrate, without deteriorating chips in yield, in a method of forming an embedded wiring layer and a jet-type spin-etching device.
    埋込配線層の形成方法及び噴流式スピンエッチング装置に関し、チップ収率を低下させることなく、基板周辺でのメッキ層の膜剥がれを防止する。 - 特許庁
  • The preparation pulse sequence saturates the spin magnetization of the region around a slice 204 including the coronary artery at one time point in each heart-beat cycle.
    準備用パルス・シーケンスは、各々の心拍周期中の１つの時間点において冠状動脈を含んでいるスライス（２０４）の周囲の領域のスピン磁化を飽和させる。 - 特許庁
  • A resist layer 75 controlled in thickness by spin coating is formed on a substrate and a spacer 70 is formed by a photolithography technique around a region 23 where the manufacture of a chip is planned.
    基板上にスピンコートにより厚みが管理されたレジスト層７５を形成し、チップを製造する予定の領域２３の周囲にフォトリソグラフィ技術によりスペーサ７０を形成する。 - 特許庁
  • Time that normally would be wasted waiting for the read/write head to spin around for another try to correct an off track error is used to complete other nearby operations.
    オフトラックエラーを修正するための別の試行のために、読み出し／書き込みヘッドが回転するのを待って通常無駄にされる時間が、別の手近なオペレーションを完了させるために用いられる。 - 特許庁
  • A cassette is held around the rotation center of the cassette with the holding means 100, and centrifugal force is produced on the cassette by rotating the spin rotary shaft 82 to blow off an adhered cleaning solution.
    保持手段100によりカセット１を回転中心の周囲に保持し、スピン回転軸82を回転駆動することにより、カセット１に遠心力が発生し、付着した洗浄液などを吹き飛す。 - 特許庁
  • A substrate treatment has a spin chuck 21 that retains the substrate W horizontally and rotates the substrate W around a vertical rotating shaft passing through the center of the substrate W.
    基板処理部は、基板Ｗを水平に保持するとともに基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Ｗを回転させるためのスピンチャック２１を備える。 - 特許庁
  • A substrate processing apparatus 100 is provided with a spin chuck 21 for horizontally holding a substrate W and for rotating the substrate W around a rotation center line P in a perpendicular direction.
    基板処理装置１００は、基板Ｗを水平に保持するとともに鉛直方向の回転中心線Ｐ周りで基板Ｗを回転させるためのスピンチャック２１を備える。 - 特許庁
  • Moreover, noted in the same book on July 29, 719 is mention of an a predecessor of a 'sumo organization' and mention of establishment of a spin-off organization is seen around this time.
    更に同書養老3年7月辛卯（4日）（719年）条に相撲司の前身であるとされる抜出司設置の記事が見られることからこの前後の成立であると考えられている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To prevent stains in the rear outer peripheral portion of a semiconductor substrate in giving spin etching thereto, which is caused by a surface treatment chemical that has gone around the rear of the substrate.
    半導体基板のスピンエッチングにおいて、表面処理薬液の基板裏面への回り込みに起因して発生する基板裏面外周部の薬液残留による汚染を防止する。 - 特許庁
  • Mist and particles can be prevented from flowing out of the outer cup from between the outer cup and a base body as air in the exhaust space flows around to the lower edge of the outer cup when a spin chuck is rotating.
    スピンチャックが回転しているときに前記排気空間の気体が外カップの下縁部に回り込んでベース体との間から外カップの外にミストやパーティクルが流出することが抑えられる。 - 特許庁
  • Each of rotary processors 5a to 5d is provided with a spin chuck 11 for horizontally holding a substrate W and rotating the substrate W around a vertical rotation axis passing the center of the substrate W.
    回転処理部５ａ〜５ｄは、基板Ｗを水平に保持するとともに基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Ｗを回転させるためのスピンチャック１１を備える。 - 特許庁
  • To provide an electron spin utilization element for embodying a configuration to attain facility concerning an around nanometer-size ultra-thin film where the setting of a manufacture condition, etc., is very difficult only with an inorganic material and to prevent the generation of a pinhole.
    無機材料だけでは作製条件等の設定が非常に困難であるナノメートル前後の超薄膜に関して、容易で、且つピンホールの発生を防止する構成を実現する電子スピン利用素子を提供する。 - 特許庁
  • The cleaning treatment portions MPC1, MPC2 have a spin chuck 21 for keeping the substrate W after ashing to be horizontal and for rotating the substrate W around a vertical rotating axis passing through the center of the substrate W.
    洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２は、アッシング処理後の基板Ｗを水平に保持するとともに基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Ｗを回転させるためのスピンチャック２１を備える。 - 特許庁
  • The gimbal controller for feedback-controlling a gimbal motor 7 in the gyro mechanism 10 from a control calculation result based on a detection result of the rotation speed around a gimbal axis is provided with a control section 9 for changing a feedback control gain for controlling a rotation angular speed or a rotation angle around the gimbal axis according to the rotation speed of the rotor 1 around the spin axis.
    ジンバル軸回りの回転角度の検出結果に基づく制御演算結果から、ジャイロ機構１０のジンバル・モータ７をフィードバック制御するジンバル制御装置であって、ロータ１のスピン軸回りの回転速度に応じて、ジンバル軸回りの回転角速度あるいは回転角度を制御するためのフィードバック制御ゲインを変化させる制御部９を備える。 - 特許庁
  • Air is sent to a washing-cum-spin-drying tub 30 storing laundry and rotatable around a vertical axis, by an air blower 92 of a hot air blowing means 90 as hot air heated by a heater 94.
    洗濯物が収容され且つ縦軸の回り回転可能な洗濯兼脱水槽３０内には温風吹き込み手段９０の送風機９２によって空気がヒータ９４によって加温された温風として送り込まれる。 - 特許庁
  • A substrate processing device includes a spin chuck 1 holding a substrate W at a horizontal posture and rotating around a perpendicular rotation shaft line C, processing liquid nozzles 2, 3 for supplying the processing liquid to an upper face of the substrate W, and a ring member 10.
    基板処理装置は、基板Ｗを水平姿勢で保持して鉛直な回転軸線Ｃまわりに回転するスピンチャック１と、基板Ｗの上面に処理液を供給する処理液ノズル２，３と、リング部材１０とを含む。 - 特許庁
  • In the single-wafer cleaning apparatus for feeding the surface of the wafer on a spin table surrounded with a cleaning chamber, a feeding means of the cleaning solution has a plurality of nozzles for spouting the cleaning solution to the wafer surface, and each nozzle located around the spin table is adjustable in its cleaning-solution spouting direction and its angle.
    周囲を洗浄チャンバで囲まれたスピンテーブル上のウエハの表面へ洗浄液を供給する枚葉式の半導体ウエハ用洗浄装置において、洗浄液を供給手段は、洗浄液をウエハ表面に向けて吐出するための複数個のノズルを含み、各ノズルはそれぞれ洗浄液吐出方向および角度を変更調節可能にスピンテーブル周りに設置されているものとした。 - 特許庁
  • This washing machine is provided with a spin basket 4 storing laundry and rotating around the axis of a rotating shaft A, a lifter 23 radially movably projecting from the inner circumferential face of the spin basket 4, a washing condition setting part 66 setting the washing conditions of the laundry, and an energization control part adjusting the projecting distance of the lifter 23 based on set washing conditions.
    洗濯物を収容し、回転軸Ａの軸回りで回転するスピンバスケット４と、該スピンバスケット４の内周面から半径方向に移動可能に突出するリフタ２３と、前記洗濯物の洗濯条件を設定する洗濯条件設定部６６と、前記設定された洗濯条件に基づいてリフタ２３の突出量を調整する通電制御部とを備える。 - 特許庁
  • A plurality of screw pins 13 are arranged on a periphery corresponding to the outer shape of a wafer W at almost equal intervals in the upper face peripheral edge of a spin base 12, and they are disposed so that they can rotate around center axes along a vertical direction.
    複数のスクリューピン１３は、スピンベース１２の上面周縁部において、ウエハＷの外形に対応する円周上にほぼ等間隔に配置されて、それぞれ鉛直方向に沿う中心軸線まわりに回転可能に設けられている。 - 特許庁
  • To obtain a gimbal controller for maintaining or improving the control performance of a gyro mechanism even if a rotation speed of a rotor around a spin axis is variable when the gyro mechanism is applied as an attitude controller of an artificial satellite or an airplane.
    人工衛星、航空機等の姿勢制御装置としてジャイロ機構を適用する際に、ロータのスピン軸回り回転速度を可変とした場合でも、ジャイロ機構の制御性能を維持もしくは向上させることのできるジンバル制御装置を得る。 - 特許庁
  • The washing machine has a spin basket 4 for storing the laundry inside and rotating around a rotation axis, a microphone 15 for detecting vibration acoustic signals generated by the spin basket 4, a comparison part for comparing a result detected by the microphone 15 with reference data indicating preset washing states, and a basket rotation control part for controlling the washing state of the laundry from the compared result of the comparison part.
    内部に洗濯物を入れて回転軸の軸回りで回転するスピンバスケット４と、前記スピンバスケット４が発生する振動音響信号を検出するマイク１５と、マイク１５による検出結果とあらかじめ設定されている洗濯状態を示す基準データとを比較する比較部と、前記比較部の比較結果に基づいて前記洗濯物の洗濯状態を制御するバスケット回転制御部とを備える。 - 特許庁
  • A swing unit 100 that comprises a series of sample vessel recesses and can be inserted and placed within a centrifuge rotor head 1 so that it can spin around on the swing out axis, wherein the axes of the at least two sample vessel recesses are arranged in a skewed manner (are not parallel) with respect to one another.
    この揺動ユニット１００は一連の試料容器収容孔を有すると共に揺動軸を中心に旋回し得るようにして遠心分離機ロータヘッド１に挿設可能であって、少なくとも２個の上記試料容器収容孔の軸は互いにずらして配置されている。 - 特許庁
  • The mist near the jetting nozzle 11 is discharged instantaneously by the exhaust duct 12, and mist scattering around the cleaning target substrate B spinning on the spin 15 is discharged instantaneously by using the air path 7, and thus, readhesion of the mist on the cleaning target substrate B can be positively prevented.
    吐出ノズル11の近傍のミストを、ノズル用排気ダクト12によって瞬時に排出し、スピン部15にてスピンする被洗浄基板Ｂの周囲へと飛散するミストは、風路部７によって瞬時に排出することで、被洗浄基板Ｂへのミストの再付着を確実に防止できる。 - 特許庁
  • Furthermore, when the behavior of turning around of the vehicle in a center of gravity moving direction is detected (S5), the braking force of all the wheels is reduced gradually (S6), and by the rotation of all the wheels, the vehicle is allowed to move forward to the center of gravity moving direction so as to be returned from the spin state.
    また、車両が重心移動方向に回頭する挙動が検出された際には（Ｓ５）、全輪のブレーキ力が徐々に低減され（Ｓ６）、全輪の回転により車両は重心移動方向に向かって前進可能となり、スピン状態から復帰可能となる。 - 特許庁
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