「step」を含む例文一覧(49991)

<前へ 1 2 .... 990 991 992 993 994 995 996 997 998 999 1000
  • The input device of the electronic device operates to be set to user input settings provided by input elements or by the combination of the input elements of the input device (step 304).
    電子装置の入力装置は、入力要素または入力装置の入力要素の複合によって提供されるユーザ入力設定に設定するために動作する(ステップ304)。 - 特許庁
  • A step of a surface of the first n-type semiconductor spacer layer 23 results from the heavily doped p-type semiconductor mesa 19, so a curvature of an interface between the second DBR 25 and the first n-type semiconductor spacer layer 23 is small.
    第1のn型半導体スペーサ層23の表面の段差は、高濃度p型半導体メサ19に起因するので、第2のDBR25と第1のn型半導体スペーサ層23との界面の曲がりは小さい。 - 特許庁
  • To provide a processing liquid which prevents generation of deposits of rollers and slime in a processing step after development processing without degrading ink acceptability by lapse of time and a plate making method for the same.
    経時によってインキ受理性を低下させることなく、かつ現像処理後の処理工程でローラーの付着物やスライムの発生を防止する処理液とその製版方法を提供する。 - 特許庁
  • The method for producing the hydrophobic silica particle includes a step of: preparing a hydrophilic silica particle; and hydrophobizing a surface of the hydrophilic silica particle by a hydrophobizing agent in supercritical carbon dioxide.
    親水性シリカ粒子を準備する工程と、超臨界二酸化炭素中で、疎水化処理剤により前記親水性シリカ粒子の表面を疎水化処理する工程と、を有する疎水性シリカ粒子の製造方法である。 - 特許庁
  • If the determination is made that the developing motor has been driven, there is the possibility of the execution of toner supply control, therefore an amount of accumulating toner is calculated (step S4).
    現像モータを駆動していると判断した場合には、トナー補給制御を実行する可能性があるためトナー滞留量を算出する(ステップS4)。 - 特許庁
  • In a step S10, an overshoot amount ΔP in the common rail, which is caused by decrease in the fuel injection amount and the leakage amount followed by the fuel injection, is calculated.
    ステップS10では、燃料噴射量や燃料の噴射に伴うリーク量が減少することに起因した、コモンレール内の燃圧のオーバーシュート量ΔPを算出する。 - 特許庁
  • While a voltage of a fuel cell is set to a voltage V1, an air supply system is deactivated and a hydrogen gas supply system is activated (step S250).
    燃料電池の電圧を電圧V1に設定しつつ、空気供給系の稼働を停止する一方で水素ガス供給系を稼働する(ステップS250)。 - 特許庁
  • In a user authentication step, the user terminal 100 works a code string for authentication input by the user by the stored working rule, and transmits it to a server 13.
    ユーザ認証段階において、ユーザ端末100は、ユーザから入力された認証用コード列を、記憶している加工規則で加工してからサーバ13に送る。 - 特許庁
  • To provide a recycling method of a synthetic resin member wherein a degreasing step can be eliminated, and to provide a synthetic resin molding molded by the recycling method.
    グリスの洗浄工程を省略可能な合成樹脂部材のリサイクル方法及びそのリサイクル方法により成型された合成樹脂成型品を提供する。 - 特許庁
  • When it is detected by an ink detection part that anyone of color cartridges of the ink cartridge wherein the ink remains is present, a nozzle cleaning is performed only for the remaining color ink (step S13).
    インクエンド検出部によってインクカートリッジのカラーカートリッジのうち、インクが残存しているものが1つでもある場合は、その残存している色のインクについてのみノズルクリーニングを行う。 - 特許庁
  • A terminal apparatus which has acquired a shop document from a server carries out return destination URI setting processing in a step S3, and stores information of designating a return destination URI described in the shop document to a browser cache.
    サーバよりショップ文書を取得した端末装置は、ステップS3において戻り先URI設定処理を行い、ショップ文書中に記述されている戻り先URIの指定情報をブラウザキャッシュに記憶する。 - 特許庁
  • The microcalcification candidate that has a difference between the respective featured values smaller than a preset threshold value in the comparison of the left and right image data is eliminated as a false positive candidate or a benign candidate (step S7).
    微小石灰化候補のうち、左右の画像データの比較において、各特徴量の差が予め設定されている閾値より小さいものについては、偽陽性候補又は良性候補として削除される(ステップS7)。 - 特許庁
  • The process for forming a color filter array layer on a transparent surface comprises the step of applying a water-borne solid-particle dispersion of randomly disposed colored beads of a water-immiscible synthetic polymer to the surface.
    水不混和性合成ポリマーのランダム配置された着色粒子の水性固体粒子分散物を、透明表面に適用する工程を含んでなる、透明表面上にカラーフィルターアレイ層を形成する方法。 - 特許庁
  • Upon determining whether the pattern formed on the photomask has a defect in an inspection step 6, the defect determination reference is varied according to the attribute information.
    検査工程6において、フォトマスク上に形成されたパターンが欠陥を有するか否かを判定するときにはこの属性情報に応じて欠陥判定基準が変更される。 - 特許庁
  • To provide a wet etching solution capable of removing a silicon oxide film without forming a large step between a metal silicide region and a silicon region.
    金属シリサイド領域とシリコン領域との間に大きな段差を形成することなくシリコン酸化膜を除去することのできる湿式エッチング溶液を提供する。 - 特許庁
  • Semiconductor chips 1 divided in a semiconductor wafer cutting step, while being pasted to a dicing tape 315, are placed on a top face of a ring stage 335 of a tape drawing device (Fig. 7(a)).
    半導体ウエハ切断工程により分割された半導体チップ1がダイシングテープ315に貼り付けられた状態で、テープ延伸装置のリングステージ335の上面に設置される(図7(a))。 - 特許庁
  • When covering the metallic sheet with the metallic particles in the above step, it is preferable to spout the metallic particles onto the metallic sheet by using a nozzle, or to electrify the metallic particles and spray them with an electrostatic spraying method.
    この時、金属めっき微粒子を金属板に被覆させるに際し、ノズルを用いて前記金属めっき微粒子を金属板に噴射する、もしくは、金属めっき微粒子を帯電させ、静電スプレー法を用いることが好ましい。 - 特許庁
  • A bank leaf cell is generated, by continuously placing Y bank control circuit leaf cells and cell array leaf cells, using a first lower placement template (step ST1).
    第1の下位配置テンプレートを用いてバンク制御回路リーフセル及びセルアレイリーフセルをY個連続して配置して、バンクリーフセルを生成する(ステップST1)。 - 特許庁
  • In detection, fuel is injected two times by an injector 20 to weaken the degree of the stratification of the mixture in the cylinder 2 (Step S7, S8).
    その検出時には、気筒2内の混合気の成層度合いが弱まるように、インジェクタ20により燃料を2回に分けて噴射させる(ステップS7,S8)。 - 特許庁
  • A client computer calculates the amount of driving the ink corresponding to respective partitioned regions in which page data are partitioned by a specified reference based on the pixel value of respective page data included in printing data (step S302).
    クライアントコンピュータは、印刷データに含まれる各ページデータの画素値に基づいて、所定の基準でページデータを区分した各区分領域に対応するインク打ち込み量を算出する(ステップS302)。 - 特許庁
  • A POA entity and a DOA entity are compared with each other (step 120), and if the POA entity completely matches the DOA entity (POA =DOA), processing is ended without any further processing.
    POAエンティティとDOAエンティティとを比較し(ステップ120)、POAエンティティとDOAエンティティが完全一致の場合は(POA=DOA)、そのまま処理を終了する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device which dispenses with tape material for fixing an antenna, and consequently facilitates securing of the positional accuracy of the antenna in a wire bond step.
    アンテナを固定するテープ材が不要となり、ワイヤーボンド工程におけるアンテナの位置精度の確保が容易となる半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • The automatic focusing control method which is carried out by the information processing device connected to the imaging apparatus by radio or by cable includes an image acquiring step of acquiring an image for performing the automatic focusing control from the imaging apparatus.
    撮像装置と無線または有線で接続する情報処理装置によって実行される自動焦点制御方法は、撮像装置から自動焦点制御を行うための画像を取得する画像取得ステップを備える。 - 特許庁
  • To provide a piezoelectric transformer capable of providing a high step-up ratio by extracting a wire without influencing ultrasonic vibration, and driving it at a frequency of λ/2.
    本発明は、超音波振動に影響を及ぼさない配線の取り出しを行い、λ/2の周波数で駆動し、高い昇圧比を得ることができる圧電トランスを提供する。 - 特許庁
  • To reduce a manufacturing time of an optical fluoride crystal and to increase a throughput of a furnace about each manufacturing step in a method for manufacturing the optical fluoride crystal.
    光学フッ化物結晶を製造する方法において、光学フッ化物結晶の製造時間を減少させ、各生産工程についての炉のスループットを増大させる。 - 特許庁
  • Filling in a cavity can be performed at a comparative low temperature in the degree of not curing a thermoplastic resin by performing the injection step under such temperature condition.
    射出工程を以上のような温度条件下で行うことにより、熱硬化性樹脂の硬化が起きない程度の比較的低温でキャビティの充填が可能になる。 - 特許庁
  • In the method for manufacturing the semiconductor device, a cool-down step is performed for the plasma etching device whenever the working process is performed for a specified number of sheets of wafer.
    この半導体装置の製造方法は、所定枚数のウエハに加工処理を施す毎に、上記プラズマエッチング装置にクールダウンステップを行なうものである。 - 特許庁
  • An inputted text document is subjected to morpheme analysis to specify a morpheme string and parts of speech of morphemes (step S10), and morphemes of which the part of speech is particle are retrieved with respect to the morpheme string (steps S20 to S40).
    入力されるテキスト文書を形態素解析して形態素列及び形態素の品詞を特定し(ステップS10)、形態素列について品詞が助詞の形態素を検索する(ステップS20〜ステップS40)。 - 特許庁
  • To provide a method for carrying out asymmetric synthesis in an aqueous solution system in high yield with high stereoselectivity while dispensing with a step to dry a solvent and a substrate.
    溶媒や基質の乾燥等の工程を必要としない水溶液系での不斉合成を高い収率と立体選択性で行う方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a detector which can decide accurately whether an wafer placed on a susceptor is contained in a dropping step or not.
    サセプタ上に置かれたウェーハが落し込み用の段差の中に収まっているか否かについて、確実に判定することができる検出装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method and an apparatus for dry etching even a large area wafer or substrate through a convenient arrangement under conditions of atmospheric pressure in the etching step of a semiconductor production process.
    半導体製造工程におけるエッチング工程において、大気圧条件下で処理でき、大面積ウェーハや基板に対応でき、簡便な装置でドライエッチングをする方法及びその装置の提供。 - 特許庁
  • Warning information (warning history) corresponding to a print data identifier and a printing parameter included in print job data received from a computer 12 is retrieved from a print failure table in a step 202.
    ステップ202でコンピュータ12から受信した印刷ジョブデータに含まれている印刷データ識別子及び印刷パラメータに対応する警告情報(警告履歴)を印刷失敗テーブルから検索する。 - 特許庁
  • To provide a hydrogen production method in which the temperature range wherein the free energy of the endothermic reaction that releases oxygen from a metal oxide is made negative is shifted to a low temperature range in a two-step water decomposition method for production of hydrogen.
    水素を製造する二段階水分解方法において、金属酸化物から酸素を放出させる吸熱反応の自由エネルギが負となる温度領域を低温化させる水素製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The mechanical learning unit 20 communicates with he controller 18 and the user input 14 and monitors the preferable route standard 24 selected by the use during the learning step.
    上記機械学習ユニット20は、上記制御器18及び上記ユーザー入力14と通信するとともに、学習段階の間にユーザーが選択した上記好みの経路基準24を監視する。 - 特許庁
  • Subsequently, the control part releases the connection of the output line to the feed line or the grounding line when a prescribed time (a first prescribed time) passes after this connection (step 102).
    その後、制御部は、出力ラインの給電線又は接地線に対する接続から所定時間(第1の所定時間)経過後、この接続の解除を行う(ステップ102)。 - 特許庁
  • The virus infection prevention program executes a step S102 for receiving update start information of a security file for preventing virus infection.
    本発明のウィルス感染防止プログラムは、ウィルスに感染するのを防止するセキュリティファイルの更新開始情報を受信するステップS102を実行する。 - 特許庁
  • A method for manufacturing a semiconductor device includes a metal film depositing step (S1) of depositing a metal film on a semiconductor element having a gate insulating film and a gate electrode by sputtering through a collimating plate having a plurality of through-holes formed therein.
    複数の貫通孔が形成されているコリメート板を介してスパッタを行うことにより、ゲート絶縁膜及びゲート電極を有する半導体素子上に金属膜を形成する金属膜形成工程(ステップS1)を備える。 - 特許庁
  • Next, in step S240, the behavior of the recording medium conveyed inside the conveyance path is numerically simulated on the basis of the formed shape of the nip.
    次に、ステップS240では、作成されたニップの形状に基づいて搬送経路内を搬送される記録媒体の挙動を数値シミュレーションする。 - 特許庁
  • An insulating film 15 of silicon dioxide containing carbon is then formed entirely on the rear surface of the substrate including the rear surface of the protrusion by CVD (step for forming an insulating film).
    その後、CVD法により、凸部裏面を含む基板裏面の全体に、炭素を含有する二酸化ケイ素からなる絶縁膜15を形成する(絶縁膜形成工程)。 - 特許庁
  • In a step S_3, an exposure simulation for using the first and second exposing methods is performed for all pattern of the mask patterns, to check the degree of a process margin (process tolerance).
    ステップS_3 では、第1及び第2の露光方法を使ったときの古老シミュレーションをマスクパターンの全パターンに対してそれぞれ行い、プロセスマージン(プロセス裕度)の大小を確認する。 - 特許庁
<前へ 1 2 .... 990 991 992 993 994 995 996 997 998 999 1000

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.