「substrate specific」を含む例文一覧(930)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 18 19 次へ＞- To provide a substrate detection apparatus capable of detecting whether a substrate exists at a specific location in a transfer path in a noncontact manner using a photoelectric sensor, and of minimizing heat generation to reduce the occurrence of errors in pattern drawing.
搬送経路の特定箇所に基板が有るか否かを光電式センサによって非接触で検知することができ、且つセンサの発熱を極力抑えてパターン描画誤差の発生を抑制する。 - 特許庁 - The washing is performed while increasing or decreasing the brush to the substrate in a state where a spherical brush 21 rotating around a specific rotation axis serving as the center is in contact with the peripheral part of the rotating substrate.
所定の回転軸線を中心として回転する球形のブラシ２１を回転する基板の周縁部に当てた状態で、基板に対してブラシを上昇または下降させながら洗浄を行う。 - 特許庁 - A liquid crystal shutter 50 is placed at the back of the liquid crystal display panel comprising a TFT substrate 11 and a counter substrate 12, and a specific image 40 is placed at the back of the liquid crystal shutter 50.
ＴＦＴ基板１１と対向基板１２とで構成される液晶表示パネルの背面に液晶シャッター５０が配置され、液晶シャッター５０の背面に特定画像４０が配置されている。 - 特許庁 - In the solder layer 14 free from lead and formed on a substrate 11 or the electronic device bonding substrate 10 having such a solder layer, the solder layer 14 has a specific resistance of not more than 0.4 Ω μm.
基板１１上に形成される鉛を含まない半田層１４又はこの半田層を有する電子デバイス接合用基板１０であって、半田層１４の比抵抗を０．４Ω・μｍ以下とする。 - 特許庁 - To provide an interposer substrate which does not make it difficult to transmit a high speed signal even when an interposer substrate having low specific resistance is used, which deals with miniaturization and narrowing of pitches, which reduces the manufacturing cost.
比抵抗の低いインターポーザ基板を用いる場合であっても、高速信号の伝送を困難にすることなく、微細化・狭ピッチ化に対応し、製造コストを低減できるインターポーザ基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for modifying a silicon carbide single crystal substrate, by which the specific dislocation defect such as basal plane dislocation or spiral dislocation is reduced, and to provide an apparatus for modifying a silicon carbide single crystal substrate.
基底面転位、螺旋転位などの特定の転位欠陥を低減させることができる炭化ケイ素単結晶基板の改質方法、及び炭化ケイ素単結晶基板の改質装置を提供する。 - 特許庁 - A laminate having a high specific surface area has a polymer substrate having fine unevenness in the surface and a water repellent layer formed on the polymer substrate by a vapor phase method.
本発明は、表面に微細な凹凸を有する高分子基材と、前記高分子基材上に気相法により形成された撥水層とを有することを特徴とする、高比表面積積層体。 - 特許庁 - The method for deprotecting 9-fluorenylmethoxycarbonyl group from the substrate comprises bringing the substrate protected with 9-fluorenylmethoxycarbonyl group into contact with hydrogen by wet system in the presence of a palladium-carbon catalyst in which palladium is fixed on carbon particles having ≥1,000 m^2/g specific surface area.
9−フルオレニルメトキシカルボニル基で保護された基質を、比表面積1000m^2/g以上の炭素粒子にパラジウムを固定したパラジウムカーボン触媒の存在下で、水素と湿式で接触させる。 - 特許庁 - Specific signal patterns, in which short cut is caused, are arranged on both ends of a flexible substrate, and multiple short cut parts are provided at the front and the back of a stress concentration part of the flexible substrate.
フレキシブル基板の両端に、それぞれが短絡している特定の信号を配線するとともに、短絡部をフレキシブル基板の応力集中箇所の前後に複数個所設けることを特徴とする。 - 特許庁 - This glass ceramic substrate for an information recording medium has ≥37 Young's modulus (GPa)/specific gravity and O to <10% Al2O3 content (weight percentage based on oxide) The main crystal phase of the glass ceramic substrate is a crystal of lithium disilicate (Li2O.2SiO2)
ヤング率（ＧＰａ）／比重が３７以上であり、Ａｌ_2Ｏ_3含有量（酸化物基準の重量百分率）が０〜１０％未満であることを特徴とする、情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板。 - 特許庁 - A patterning sapphire substrate 1 in which the surface of a sapphire substrate 2 is covered with a mask 3 of a specific pattern is characterized in that the mask 3 is arranged in the shape of dots.
サファイヤ基板２の表面が所定パターンのマスク３で覆われているパターニングサファイヤ基板１において、前記マスク３がドット状に配置されていることを特徴とするパターンニングサファイヤ基板１である。 - 特許庁 - To provide a solid substrate capable of detecting a specific substance at a high speed with high accuracy, without requiring labeling treatment due to a fluorescent substance by merely allowing a specimen to flow on the solid substrate.
その上に検体を流すだけで、蛍光物質による標識処理を必要とせずに高速度で、高精度に特定物質を検出しうる固体基板を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A slit 20a for arranging the end of the slave substrate is formed at a specific interval on the side that a pair of substrate-fixing members 20 for arranging one, two, or all of the slave substrates opposes.
子基板を全て或いは１つ又は２つ配置する一対の基板固定部材２０の対向する側面には子基板の端部を配置するためのスリット２０ａが所定間隔で形成してある。 - 特許庁 - A substrate with a photochromic film has a photochromic film formed on a substrate, the film containing a photochromic pigment of a specific spiro compound and a polyether compound in a silicon oxide matrix.
酸化ケイ素マトリックス中に特定のスピロ化合物からなるフォトクロミック色素とポリエーテル化合物とを有するフォトクロミック膜が基体上に形成されたフォトクロミック膜付き基体とその製造方法。 - 特許庁 - The method of manufacturing the substrate for pattern formation includes forming a coating of ≥1 to <10 nm in film thickness after drying by coating a substrate with a solution containing a surface treating agent having a specific structure.
基板上に、特定の構造を有する表面処理剤を含む溶液を塗布し、乾燥後膜厚が１ｎｍ以上１０ｎｍ未満である塗膜を形成するパターン形成用基板の製造方法。 - 特許庁 - In this enzyme functional electrode equipped with the enzyme 1 for oxidizing a specific substrate Sub-red on the electrode 2, electrons are transferred from the substrate Sub-red to the electrode 2 through the enzyme 1.
酵素機能電極は、電極２上に特定の基質Ｓｕｂ−ｒｅｄを酸化する酵素１を備え、基質Ｓｕｂ−ｒｅｄから酵素１を介して電極２に電子を伝達する。 - 特許庁 - To provide a substrate transfer device capable of reducing an occupied area specific to the transport device and realizing stable high speed transport which will not be effected by size increase/diversification of the substrate size.
搬送装置固有の占有面積を削減し、基板サイズの大型化／多様化の影響を受けないで、安定した高速搬送が実現できる基板搬送装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - In the substrate-treating apparatus 1, the specific resistance of the water where carbon dioxide is dissolved is set to not less than 1×10^2 Ω and not more than 4×10^3 Ωm.
基板処理装置１では、炭酸ガス溶解水の比抵抗が、１×１０^２Ωｍ以上４×１０^３Ωｍ以下とされる。 - 特許庁 - Hereby, the TFTs each including the gate insulating film with a different thickness can be formed on the same substrate without the use of a specific process.
本発明により、特殊な工程を用いず、同一基板上に、ゲート絶縁膜の膜厚の異なるＴＦＴを作製することができる。 - 特許庁 - The specific position is based on an arrangement position to minimize an overlay error or based on an arrangement position to minimize deformation of the substrate.
特定の位置は、オーバレイ誤差が最小になるような配置の位置に基づくか、基板の変形が最小になるような配置の位置に基づく。 - 特許庁 - To provide a means for examining cell migration by controlling cells attached to a substrate in a specific region and making them migrate.
基板上に接着した細胞を特定の領域に制御して遊走させることにより細胞遊走を試験するための手段を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate treatment apparatus preventing the obstruction of the fining of an exposure pattern by a specific component in an atmosphere gas.
雰囲気ガス中の特定成分により露光パターンの微細化が阻害されることが防止された基板処理装置を提供することである。 - 特許庁 - The large array substrate 1 is constituted so as to be dividable into a plurality of panels 2 of a specific size and is provided with a common input terminal 5.
大版のアレイ基板１は、特定のサイズの複数のパネル２に分断可能に構成され、共通入力端子５が設けられている。 - 特許庁 - To irradiate and expose a large substrate and to enable the irradiation and exposure in a specific pixel area even through divisional orientation.
大きな基板の照射露光を可能にすると共に、分割配向においても所定の画素領域で照射露光を行うことを目的とする。 - 特許庁 - A position detecting device comprises first to fourth secondary coils 15a-15d connected in series and provided at intervals of 90° around a specific axis orthogonal to a substrate.
直列に接続される第１〜第４の二次コイル１５ａ〜１５ｄは、基板に直交する特定の軸回りに９０°間隔で設けた。 - 特許庁 - To irradiate a substrate with a laser beam in a stable atmosphere of low oxygen concentration without upsizing the whole device and without making the device specific.
装置全体を大型化及び特殊装置とすることなく、安定した低酸素濃度の雰囲気中で基板に対してレーザ光を照射する。 - 特許庁 - To improve the yield of a superconductive microwave device by simplifying management of a direction presenting a specific dielectric constant of a substrate.
基板の特定の誘電率を呈する向きの管理を簡略化し、超電導マイクロ波デバイスの生産の歩留まりの向上を実現可能とする。 - 特許庁 - DETECTION METHOD OF ASSIMILABLE BACTERIUM, AND METHOD FOR MEASURING LATENT DEGRADATION ACTIVITY ON SPECIFIC SUBSTRATE OF SAMPLE BY USING THE DETECTION METHOD
資化性菌の検出方法および該検出方法を使用してサンプルの特定の基質に対する潜在的な分解活性を計測する方法 - 特許庁 - While a printed circuit board is being positioned at a specific working position in a conveyer, the parts are sucked by a head for mounting for fitting onto the substrate.
コンベヤの所定の作業位置にプリント基板を位置決めした状態で、実装用ヘッドにより部品を吸着して基板上に装着する。 - 特許庁 - To provide a device for substrate-dipping treatment, wherein the specific gravity of a fluid contained in a treating tank can be repeatedly measured, and an automatization of the operation of a measurement of the liquid is also possible.
処理槽内に収容された液体の比重を繰り返し測定でき、測定操作の自動化も可能である装置を提供する。 - 特許庁 - A substrate and a probe molecule (antibody or the like) are bonded using a linker molecule having a region cleaved under a specific condition (light irradiation or the like).
特定の条件（光照射等）により開裂する部位を有するリンカー分子を用いて、基板とプローブ分子（抗体等）とを結合させる。 - 特許庁 - Disclosed is the color filter substrate having the color filter part formed on the base material plate made of a film of polyimide having repetiting units shown by a specific formula.
特定の式で示される繰り返し単位を有するポリイミドのフィルムからなる基材板上にカラーフィルター部が形成されたカラーフィルター基板。 - 特許庁 - To provide an integrated semiconductor device formed on a substrate having different crystal orientations which give optimum performance to specific devices.
特定のデバイスに最適な性能を与える異なる結晶方位を有する１つの基板上に形成された集積半導体デバイスを提供する。 - 特許庁 - A pre-trans-splicing molecule (PTM) is a substrate for a trans-splicing reaction between the pre-trans-splicing molecule and a pre-mRNA, which is uniquely expressed in a specific target cell.
プレトランススプライシング分子（PTM）は、該PTMと、特定の標的細胞で特異に発現されるプレmRNAとの間のトランススプライシング反応の基質となる。 - 特許庁 - The angle limiting filter 15 comprises a glass substrate 26 of a parallel plate and a dielectric multiple film 27 provided on the glass substrate 26, transmits light of a specific wavelength region made incident on a surface almost perpendicularly, and shields light outside the specific wavelength region and light made incident on the surface obliquely even in light of wavelength within the specific wavelength region.
角度制限フィルタ１５は、平行平板のガラス基板２６と、ガラス基板２６上に設けられた誘電体多層膜２７とからなり、表面に対して略垂直に入射する特定波長域の光を透過するとともに、この特定波長域外の光と、この特定波長域内の波長の光であっても表面に対して斜めに入射する光を遮光する。 - 特許庁 - To provide a truck carrying substrate processing system in which the substrates can be taken out in the way of a series of processing steps, and a truck carrying substrate processing system in which the substrate can be carried to a specific processing unit in the way of processing.
一連の処理の途中で基板を取り出すことができるトラック搬送タイプの基板処理装置を提供すること、および処理の途中で特定の処理ユニットへ基板を搬送することが可能なトラック搬送タイプの基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - The intermediate part 14 of a plurality of pieces of bidirectional connectors 10 having electric contact parts 11, 12 at both ends are fixed to the substrate 20 while penetrating the connecting substrate 20 and by this connecting substrate 20 the specific bidirectional connectors 10 are short circuited.
両端に電気接触部１１，１２をもつ複数本の双方向接続端子１０の中間部１４が接続基板２０を貫通する状態で同基板２０に固定され、この接続基板２０によって特定の双方向接続端子１０同士が短絡される。 - 特許庁 - Even when inspection result information of a specific substrate is inquired, input of pieces of information showing outward shapes of places to be encoded is received for the substrate to be inquired and those pieces of input information are encoded to specify the identification code of the substrate.
特定の基板の検査結果情報を照会する場合にも、紹介対象の基板について、各符号化対象部位の外観を示す情報の入力を受け付けて、これらの入力情報を符号化することによって、基板の識別コードを特定する。 - 特許庁 - Instead of this, a specific certification pattern may be formed by moving the substrate 1 at a variable speed by passing through the nozzles 4 or adjusting pressure of the nozzles 4 or an interval of the nozzles 4 from a surface of the substrate while moving the substrate 1 by passing through the nozzles 4.
これに代えて、基板１を可変の速度でノズル４を過ぎて動かすか、ノズル４の圧力または基板の表面からのノズル４の間隔を基板１がノズル４を通過して動く間に調節することにより特定の証明パターンを生成してもよい。 - 特許庁 - The sealing tape is obtained by laminating a pressure-sensitive adhesive layer having a tensile strength, a breaking elongation, and a tear strength which are respectively in specific ranges on one side of a film substrate.
シールテープが、引張強度、破断伸度、引裂強度が特定の範囲にあるフィルム基材の片面に粘着剤層が積層されたものからなる。 - 特許庁 - To provide abrasive particles that can be tailored to polish specific metal and/or dielectric layers at controlled rates while minimizing substrate defectivity.
基体の欠陥を最少化しながら、制御された速度で特定の金属及び／又は誘電体の層を研磨するように調節できる砥粒を提供すること。 - 特許庁 - As deposition is continued, at least one conducting and/or insulating wall structure with a specific pattern is formed on the one substrate.
成膜が続けられる場合、１つの基板上に特定のパターンを有する少なくとも１つの導電壁構造および／または絶縁壁構造が形成される。 - 特許庁 - An optical compensation layer 117 having a specific optical characteristics is disposed between the light emission side polarizing plate 105 and a CF substrate 104.
光出射側の偏光板１０５とＣＦ基板１０４との間には、所定の光学特性を有する光学補償層１１７が配置される。 - 特許庁 - The N+ layer stops a reverse-side depletion layer from spreading, so even when the substrate is made high in specific resistance, the reverse-side depletion layer never comes into contact with a depletion layer of the piezo resistance.
Ｎ＋層が裏面側の空乏層の広がりを抑止するため、基板の比抵抗を高くしてもピエゾ抵抗の空乏層と接触することがない。 - 特許庁 - To form a conductive portion in which an effect of a fluctuation of a specific dielectric constant, etc., of an organic substrate caused from fiberglass can be reduced and has stable characteristics.
ガラス繊維に起因する有機基板の比誘電率等の「ゆらぎ」の影響を低減して安定した特性の導体部が形成されるようにする。 - 特許庁 - A nylon oligomer is synthesized from 6-aminocaproic acid as the substrate, in the presence of a nylon oligomer-synthesizing enzyme having a specific sequence.
６−アミノカプロン酸を基質として、特定な配列のナイロンオリゴマー合成酵素を用いて、有機溶媒/水混合溶媒中でナイロンオリゴマーを合成する。 - 特許庁 - The transparent electrode substrate 11 includes a metal wiring layer 112 which has lower specific resistance than a conductive oxide layer 114.
本発明の一実施形態に係る透明電極基板１１は、導電酸化物層１１４よりも比抵抗の低い金属配線層１１２を有している。 - 特許庁 - The photo-detectors 11 having the longitudinal direction in the specific direction are arranged in an internal space brought into contact with the first surface of the plate-shaped semiconductor substrate at intervals.
平板状の半導体基板の第１面と接する内部空間に特定方向に長手方向を有する受光素子１１を間隔を置いて配置する。 - 特許庁 - To provide an array testing device, a method of measuring substrate one location position of the array testing device, and a method of measuring specific position coordinate imaged by a camera assembly.
本発明は、アレイテスト装置と、アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法を提供する。 - 特許庁 - The sample etched to a predetermined depth in the specific regions of the substrate surface is prepared by using this etching device, and the analysis of the etched surface is carried out.
このエッチング装置を用いて、基板表面の特定領域を所定深さエッチングした試料を作製し、そのエッチング表面の分析を行う。 - 特許庁
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