「surface defects」を含む例文一覧(1484)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 29 30 次へ＞- Thereby, the light rays emitted from the defects C and D illuminate the same position on the imaging surface 16 as shown in the figure.
よって、図に示すように、欠陥Ｃ、Ｄから放出された光は、撮像面１６の同じ位置を照明する。 - 特許庁 - To provide an improved high-sensitivity optical inspection system for detecting defects on diffracting plane, including surface pattern.
表面パターンを含む回折面上の欠陥を検出するための改良された高感度光学検査システムの提供 - 特許庁 - To inspect defects, such as a stuck matter, a flaw, color unevenness, and gentle unevenness of thickness, on the surface of a material to be inspected, at high speed.
被検査物表面の付着物、キズ、色ムラ並びに緩やかな凹凸厚みムラ等の欠陥を高速に検査する。 - 特許庁 - To provide an underwater tester for a lining which tests any defects on the lining in water, by remote control from above the water surface.
水中のライニングの欠陥を、水面上からの遠隔操作で検査するライニングの水中検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a new method for producing a semiconductor substrate having a surface metallurgy-feature free from defects as a whole.
全体的に欠陥のない表面メタラジー・フィーチャを有する半導体基板の、新規の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an electrolytic treatment apparatus with which electrolytic treatment of the surface of a substrate can be uniformly carried out without generating defects.
被処理基板表面の電解処理を欠陥なく均一に行うことができる電解処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for growing group III nitride semiconductor capable of reducing the number of surface defects of the group III nitride semiconductor.
III族窒化物の表面欠陥の数を低減可能な、III族窒化物半導体を成長する方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING WAFER WITH FEW SURFACE DEFECTS, WAFER OBTAINED BY SAID METHOD, AND ELECTRONIC COMPONENT MADE OF THE WAFER
表面欠陥の少ないウェハーの製造方法、同方法により得られるウェハー、及び同ウェハーから成る電子部品 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an embedded diffusion silicon epitaxial wafer with no defects on the main back surface of a silicon monocrystalline substrate.
シリコン単結晶基板の主裏面に欠陥がない埋込拡散シリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pretreatment method or the like to deposit a plating film without defects on a surface of a nickel-phosphor plating film.
ニッケル−リンメッキ膜表面上に欠陥のないメッキ膜を成膜するための前処理方法等を提供すること。 - 特許庁 - To use a simply constituted apparatus and discriminate defects on a surface and a back face and in the interior of a glass plate, such as a liquid crystal panel.
簡単な構成の装置で液晶パネル等のガラス板の表面、裏面及び内部の欠陥を判別する。 - 特許庁 - To provide a method for determining defects being present in the surface and the inside of a foam roller by an inspection, and a device therefor.
発泡体ローラーの表面部と内部に存在する欠陥を１度の検査で得る方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - By longitudinally traveling the light projector and receiver 5a and 5b in synchronization with their rotation, surface defects 6 such as recessions, protrusions in the outer circumferential surface of the work 2 are detected as light leakage from a gap at the contact part 4 by the light receiver 5b in the case of the presence of surface defects 6.
上記回転に同期して投，受光器５ａ，５ｂを長手方向に走行移動させることにより、ワーク２の外周面に凹凸等の表面欠陥６がある場合に、これを接触部４の隙間からの光の漏洩として受光器５ｂにて検出する。 - 特許庁 - To provide a device inspecting cathode-ray tubes which accurately detects defects on a panel inner surface, and then informs a worker of the fact by discriminating defects on the inner surface and dirt on the outer surface of a panel with higher accuracy, and also to provide a method for manufacturing cathode-ray tubes using the same.
パネル内面側の欠陥とパネル外面側の汚れとを高精度に判別することができ、パネル内面側の欠陥を正確に検出して作業者に通知することが可能な陰極線管の検査装置、及びこれを用いた陰極線管の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device, where defects occur on the surface of a wafer before and after the water is subjected to processing are compared with each other, in a manner in which defects are assorted by kind, and the defects of the same kind are compared with each other so as enable precise discrimination of one from the other, in a process of manufacturing an LSI wafer.
ＬＳＩウェハの製造工程において、ウェハを処理する前と後とでウエハ上に発生した欠陥を種類毎に比較することにより、欠陥を的確に判別することができる半導体デバイスの製造方法を提供する - 特許庁 - A method for reducing crystal defects of a SIMOX wafer includes: a first process to destroy crystal defects by making ion injected into a silicon layer 13 from the surface of a wafer collide with crystal defects (14, 15); and a second process to recrystalize the silicon layer 13 by heating the wafer obtained in the first process.
ウェーハの表面からシリコン層１３に注入したイオンを結晶欠陥（１４，１５）に衝突させて結晶欠陥を壊す第１の工程と、第１の工程で得られたウェーハを加熱してシリコン層１３を再結晶させる第２の工程とを含む。 - 特許庁 - To provide a method for inspecting defects in formation of a spacer for liquid crystal cell, wherein the decision of the defects can be automatically and accurately performed and the decision of the defects of the shape can be promptly and accurately performed about the spacer for the liquid crystal cell formed on the surface of a substrate.
基板表面に形成された液晶セル用スペーサについて、その欠落の判定を自動的に精度よく行い、かつ、形状不良の判定を迅速に精度よく行うことのできる液晶セル用スペーサの形成不良の検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an evaluation method of a silicon substrate where surface defect observation due to etching after device film peeling is facilitated, by creating a clear surface for observing crystal defects on a semiconductor substrate and surface defects due to a device process, and it can be made clear that defects on the surface are caused by crystal itself or stress and contamination due to the process.
半導体基板上の結晶欠陥やデバイスプロセス起因の表面欠陥を観察するための綺麗な表面を作成することによってデバイス膜剥離後のエッチングによる表面欠陥観察がし易くなり、表面にある欠陥が結晶起因の欠陥か、又はプロセス起因のストレスや汚染による欠陥なのかを明らかにすることができるようにしたシリコン基板の評価方法を提供する。 - 特許庁 - Cu metallization is treated to reduce defects and effect passivation, and to reduce leakage between lines, by removing surface defects subsequent to CMP and barrier layer removal.
欠陥を減少させ、パッシベーションを行うために、またライン間の漏洩を減少させるため、Ｃｕメタライゼーションは、ＣＭＰおよび障壁層の除去に続いて表面の欠陥を除去することにより処理される。 - 特許庁 - The surface of the SiC substrate 4 manufactured by this method has a defect density of ≥1.1×10^2 defects/cm^2 and ≤1.0×10^9 defects/cm^2.
また、上記製造方法により得られたＳｉＣ基板４であって、その表面の欠陥密度が１．１×１０^2個／ｃｍ^2以上１．０×１０^9個／ｃｍ^2以下であるＳｉＣ基板４である。 - 特許庁 - To provide a cellulose acylate film having little yellowish color when being formed by melt formation, and also having extremely reduced defects of surface die line, and optical defects by fine foreign matter; and to provide a method for producing the film.
溶融製膜したセルロースアシレートフィルムの黄色味が小さく、表面ダイラインの欠陥および微細異物の光学欠点を大幅に低減するセルロースアシレートフィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a film deposition method in which a defect repair process for structures by which both of projecting defects and recessed defects can flatly be repaired in accordance with the surface of a base board can be utilized.
凸状欠陥或いは凹状欠陥のいずれであっても基板表面に合わせて平坦に修正することのできる構造体の欠陥修正プロセスで利用可能な成膜方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a continuous casting method by which the defects on the below the surface in the vicinity of the center in the width direction of a cast slab are reduced without lowering the service life of a nozzle or increasing the defects on and below the surface in the vicinity of the edge parts in the width direction of the cast slab.
ノズル耐用回数の低下や鋳片幅方向端部付近の表面ないし表皮下欠陥の増加を伴わずに鋳片幅方向中央付近の表面ないし表皮下欠陥を低減しうる連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface inspection apparatus making highly accurate surface defect inspections without being affected by white defects constantly generating prescribed luminance or greater or white defects having variable luminance and gradually increasing luminance.
恒常的に所定以上の輝度を発生する白傷ばかりでなく、輝度が変動したり、徐々に輝度が大きくなったりする白傷の影響を受けることなく、精度の高い表面欠陥検査を行うことができるような表面検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and device for defect inspection, capable of detecting the defects of an inspection member that has large surface roughness and irregularities on surface, without having to maintain the surface of the inspection member.
被検査材の表面を手入れすることなく、表面粗さが大きく、表面に凹凸をもつ被検査材の欠陥を検出する欠陥検査方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a polyphenylene sulfide film which can reduce the surface defects of a high function film by reducing surface coarse projections and improving surface smoothness and is suitable for a release film.
表面粗大突起を低減し表面平滑性を改良することにより、高機能膜の表面欠陥を減少させることのできる離型用フィルムとして好適なポリフェニレンスルフィドフィルムを提供する。 - 特許庁 - This power transmission shaft 1 is manufactured by performing drawing work to a pipe stock in which the surface layer where surface defects such as flaws and micro projecting and recessing parts are present and the surface decarburized layer are removed.
この動力伝達シャフト１は、キズや微小凹凸等の形状欠陥が存在している表面層や、表面の脱炭層を除去したパイプ素材に絞り加工を施して製造される。 - 特許庁 - The surface of the silicon wafer 10 is irradiated with an electron beam to melt a surface layer 11 of the silicon wafer 10, and a melted surface layer 11A is solidified, thereby extinguishing crystal defects (a) of the surface layer 11A.
シリコンウェーハ１０の表面に電子線を照射することによりシリコンウェーハ１０の表層部１１を溶融させた後、溶融させた表層部１１Ａを固化させることによって表層部１１Ａの結晶欠陥ａを消滅させる。 - 特許庁 - To provide an evaluation apparatus for surface checkup apparatuses and an evaluation method for surface checkup apparatuses that can reliably evaluate performances of surface checkup apparatuses for checking minute surface defects to make possible appropriate calibration.
微小な表面欠陥を検査する表面検査装置に対して適切な校正を行うべく、信頼性の高い性能評価を行うことができる表面検査装置の評価装置及び表面検査装置の評価方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain an inspection method in which surface defects of a metal band conveyed on a production line containing a hot rolling process is detected with high accuracy.
熱間圧延工程を含む製造ライン上を搬送される金属帯の表面欠陥を高い精度で検出する。 - 特許庁 - After atmosphere breaking is once performed (b), the p-type a-Si layer 3 is subjected to plasma treatment, and defects on the surface are increase (c).
一旦大気ブレイクさせた後（ｂ）、ｐ型ａ−Ｓｉ層３にプラズマ処理を施して表面の欠陥を増加させる（ｃ）。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a silicon wafer capable of extinguishing Grown-in defects on a surface layer on which devices are formed.
デバイスが形成される表層のＧｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥を低減可能なシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a silicon wafer capable of extinguishing Grown-in defects on a surface layer on which devices are formed.
デバイスが形成される表層のＧｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥を消滅可能なシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for detecting surface defects, in which dead zone existing around the tail tip end of a material being tested, such as, plate is minimized.
厚板等被検材の先尾端付近に存在する不感帯を最小にした表面欠陥検出方法を提案する。 - 特許庁 - With this structure, developing defects can be prevented that causes "rainfall state" on account of the toner remaining on the peripheral surface of the developing roll 35.
このように構成することにより、現像ロール３５の周面にトナーが残り“雨降り状態”の現像不良を防止する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an epitaxial wafer, in which occurrence of surface defects or slipping formed in an epitaxial layer can be reduced.
エピタキシャル層に形成される表面欠陥やスリップの発生を低減し得るエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The defects on the sample 26 are detected by using the 2-dimensional map of the sample 26 created from a surface voltage measured.
試料２６上の欠陥は、測定された表面電圧から生成された試料２６の二次元マップを使用して検出する。 - 特許庁 - To provide a surface inspection device capable of detecting with high accuracy defects in the surfaces of spherical or cylindrical inspected objects.
球状または円柱状の被検査物体の表面の欠陥を高精度に検出し得る表面検査装置を提供する。 - 特許庁 - To detect the locations of the microscopic defects of insulating films formed on the side walls and bottom of a trench groove over the whole surface of a chip or wafer.
トレンチ溝の側壁や底部にできた絶縁膜の微細な欠陥の部位をチップやウエハ全面に亘って、検知する。 - 特許庁 - An inspection control part 17 discriminates defects on the surface of the inspection object 1, based on the detected signal from the light-receiving part 16.
検査制御部１７は、受光部１６からの検出信号に基づいて、被検査物１の表面の欠陥を判別する。 - 特許庁 - To dissolve molding defects due to a back surface cloth in a pad for a seat constituted so as to embed an air bag device.
エアバッグ装置が埋設されるように構成されたシート用パッドにおいて、裏面布に起因する成形不良を解消する。 - 特許庁 - To suppress the appearance of defects on the surface due to falling and also improve the working efficiency during manufacturing.
落下により生じる欠損が表面に表れにくく、また製造時の作業効率の向上を図ることができるようにする。 - 特許庁 - To provide a method for producing a cast slab without causing surface defects on the hot-rolled steel slab by a continuous casting process.
熱間圧延後の鋼片に表面疵が発生しない鋳片を連続鋳造により製造する方法を提供する。 - 特許庁 - Before a forming press lens is ground and polished for machining, the depth of surface defects is measured, thus eliminating the forming press lenses exceeding a tolerance.
成形プレスレンズを研削・研磨加工する前に表面欠陥の深さを測定して許容値を超えるものを排除する。 - 特許庁 - To provide a polyester film almost free from coarse projection and defects, and excellent in surface properties, oligomer deposition-inhibiting properties and productivity.
粗大突起・欠点が少なく、表面性に優れ、オリゴマー析出抑制性、生産性に優れたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk which suppresses defects of a principal surface due to a shear mark.
シアマークに起因する主表面の欠陥を抑制した磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method capable of efficiently and surely removing surface defects such as scabs generated on a steel plate.
鋼板上に発生したヘゲ疵等の表面疵を効率よくかつ確実に除去することができる方法を提供する。 - 特許庁 - To automatically smooth the outside surface of a non-circular bottle shaped work without giving defects thereto.
非真円形状のボトル形状ワークの外表面を欠陥を生じることなく自動的に平滑化することができるようにする。 - 特許庁 - To provide a lens which is made of high refractive index and low-dispersion glass and does not occur defects such as haze or burn marks on an optical-functional surface.
高屈折率低分散ガラスからなる、光学機能面にクモリやヤケなどの欠陥のないレンズを提供すること。 - 特許庁 - To provide a silicon wafer which, when annealed, reduces in the density of defects on its surface layer and uniformly and sufficiently forms a BMD in the surface and to provide its manufacture method.
アニール処理により表面層の欠陥密度が低減し、ＢＭＤが面内に均一かつ十分に形成されるシリコンウェーハとその製造方法の提供。 - 特許庁
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