Electro-migration is effectively eliminated by providing a buffer zone for reducing an electric field arising between two silver conductors 10, 20 formed on a flat ceramic surface by means of an upward vertical barrier 16 formed on the surface of a substrate or a groove formed on the surface to reduce the speed of particle migration such as silver electro-migration to almost zero. 平坦なセラミック表面上に形成された2つの銀導体10,20の導体間で、基板表面上に形成された上方に垂直な障壁16、または表面内に形成された溝によって、導体間に生じる電界を低減させるバッファ・ゾーンを設けて、銀エレクトロマイグレーションなどの粒子マイグレーション速度をほぼゼロとすることにより、エレクトロマイグレーションを効果的に抑制する。 - 特許庁