「surface pattern」を含む例文一覧(10306)
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基板１１の表面側に配列された複数の光電変換部２１のうちの一部の光電変換部２１上に、各色フィルタＲ，Ｂ，Ｇとして独立した島状の第１パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a laminated ceramic semiconductor in which the sheet attack does not occur when forming an electrode pattern layer in the surface of a green sheet, with low rate of short-circuiting defect of an electronic component.
グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する際に、シートアタックが発生せず、電子部品のショート不良率が少ない積層型セラミック電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - This woven fabric comprises a surface texture A textured a processed untwisted yarn 1 to have a pattern design and a backside texture B comprising regular yarns 3 and 4, wherein the processed untwisted yarn is obtained by covering a fiber bundle with a fusible fiber.
加工無撚糸１を織込んだ柄組織の表織地Ａと、普通糸３、４からなる裏織地Ｂとからなり、前記加工無撚糸１は、繊維束を溶解糸でカバリングして形成したのである。 - 特許庁 - To plate a seed layer having an opened resist pattern or the surface of a metallic structure after the irradiation treatment including activated oxygen with uniform deposition thickness under excellent regulation.
活性化された酸素を含む照射処理をした後でも、レジストパターンが開口しているシード層、あるいは、金属構造体の表面に対し、メッキの堆積が均一で、且つ、制御性よく行えるようにする。 - 特許庁 - A photographing camera 32 acquires information of an interference pattern image having phase information of the test body 7 at the instantaneous photographing period, by using interference light received by the photographing surface 33 in the instantaneous photographing period.
撮像カメラ３２は、瞬間的撮像期間に撮像面３３で受光した干渉光により、該瞬間的撮像期間における被検体７の位相情報を担持した干渉縞画像情報を得る。 - 特許庁 - To easily adjust an exposure amount for each area finely set within a substrate surface, improve uniformity of a resist residual film after a development processing and suppress fluctuation in a line width and a pitch of a wiring pattern.
基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁 - To increase the forming speed of recesses and projections when information is recorded by irradiating a thin film of a polymer compound containing an azobenzene structure with light to form a pattern of recesses and projections on the surface.
アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に光照射して、表面に凹凸パターンを形成させて情報記録を行う際に、凹凸の形成速度を高速化することを目的とする。 - 特許庁 - Further, the surface acoustic wave element 11 is provided with reflectors 15, 16 and the insulation protection films 17 are also formed at upper sides of the reflectors 15, 16 with pattern nearly equal to the reflectors.
また、この弾性表面波素子１１には、反射器１５、１６が設けられ、これらの反射器１５、１６の上面にも、これらとほぼ等しいパターンで絶縁保護膜１７が設けられている。 - 特許庁 - Then, the entire surface is exposed and, after the electrodes 5, 6 are formed, an unnecessary portion of the electrodes 5, 6 is lifted off by the alkali developing solution together with the photoresist 9 to hereby pattern the electrodes 5, 6.
次いで、全面が露光され、電極５，６が形成された後、アルカリ現像液によって、フォトレジスト９と共に電極５，６の不要部分がリフトオフされることにより、電極５，６がパターン化される。 - 特許庁 - A resist layer 4 having an opening 4a is formed on a substrate 11 on which a wiring pattern 2 having a land portion 3 on its surface is formed, the land portion 3 is exposed from the opening 4a.
表面にランド部３を有する配線パターン２が形成された基板１１上には開口部４ａを有するレジスト層４が形成され、前記開口部４ａから前記ランド部３が露出している。 - 特許庁 - The basic or acidic aqueous solution 70 for pH adjustment penetrates into the deformed part of the surface of the resist 10 and improves the shape of a resist pattern.
これによりレジスト１０の表面の形状が劣化した部分にＰＨ濃度の調整のための塩基性又は酸性の水溶液７０が混入して、レジストパターン形状を改善することができる。 - 特許庁 - Such a slit nozzle 2221 injects the inert gas to the substrate W under pattern formation process from the downstream side in the conveyance direction of the substrate W toward the surface vicinity of the substrate W.
このようなスリットノズル２２２１が、パターン形成処理が行われている基板Ｗに対して、基板Ｗの搬送方向の下流側から基板Ｗの表面近傍に向けて不活性ガスを噴射する。 - 特許庁 - A photoresist layer 15 is formed on the surface of a metal reflecting layer 13 conforming with the shape of the diffraction structure, a mask layer 15b is formed, and the metal reflecting layer is formed in a pattern shape 13b by etching.
回折構造の形状に追従した金属反射層１３面にフォトレジスト層１５を形成し、マスク層１５ｂを形成し、金属反射層をエッチングによりパターン状１３ｂに形成すること。 - 特許庁 - There is provided an exposure apparatus which exposes a substrate with a pattern formed on a reticle, and includes a projection optical system including an optical element and a reflecting surface which reflects light toward the projection optical system.
本発明は、レチクルに形成されたパターンで基板を露光する露光装置であって、光学素子を含む投影光学系と、投影光学系に向けた光を反射する反射面とを備える。 - 特許庁 - Constituents bound to the sensor array are directly determined by measuring the mass increase on the surface, and data analysis of the method is performed using neutral network or statistics based pattern recognition techniques.
センサーアレイに結合した成分をその表面上の質量の増加を測定することによって直接決定し、データ解析を神経回路網または統計学に基づいたパターン認識法を用いて行う。 - 特許庁 - To control an exposing head through adjustment to draw a pattern with higher accuracy on a recording surface in scanning and exposing with a multi-beam emitted from a means for selectively turning ON/OFF a plurality of pixels.
複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から出射されたマルチビームで走査露光する際に、記録面上に高精度で描画をするように露光ヘッドを調整して制御可能とする。 - 特許庁 - Then a chromium film 44 is formed as a light shielding film on the pattern 41a as shown in (f), and the chromium film 44 is polished as shown in (g) to flatten the surface of the chromium film 44.
(f)に示すように、パターン４１ａ上に遮光膜としてクロム膜４４を成膜し、(g)に示すようにこのクロム膜４４の表面を研磨することにより、クロム膜４４の表面を平坦化する。 - 特許庁 - The image of the contact surface is recorded by the image sensor having many more image elements (pixels) than those required for a desired resolution in the final image 71 of the output-side intensity pattern.
出力側の強度パターンの最終画像（７１）内で望まれる解像度のために必要であるよりも遥かに多くの画像要素（画素）を有する画像センサにより、接触面の結像を記録する。 - 特許庁 - Accordingly, the colored part 4 partially formed only on the inner surfaces of the plurality of grooves 2 uniformly formed at predetermined intervals on the pavement surface 1 is macroscopically recognized as the corresponding pattern 3.
これにより、舗装路面１に所定間隔で一様に形成された複数のグルービング２の内面のみに部分的に施された着色部４が、巨視的に対応する図柄３として認識される。 - 特許庁 - The filter for display device comprises a substrate including a transparent polymer resin and a color correction pigment; an external light shielding pattern formed on one surface of the substrate; and an electromagnetic wave shielding layer formed on the substrate.
ディスプレイ装置用フィルターは、透明高分子樹脂及び色補正色素を含む基材、該基材の一面に形成された外光遮蔽パターン、及び基材上に形成された電磁波遮蔽層を含む。 - 特許庁 - A controlling means scans the droplets Fb landed on the pattern forming surface 4Sa along the scanning direction to make the laser beam Le incident on the end part of the droplets Fb positioned at an irradiation position Pe.
また、制御装置が、パターン形成面４Ｓａに着弾した液滴Ｆｂを走査方向に沿って走査し、照射位置Ｐｅに位置する液滴Ｆｂの端部にレーザ光Ｌｅを入射する。 - 特許庁 - To ensure migration resistance among wiring patterns by preventing partial peeling or wrinkling from being produced sporadically on the polyimide surface of an exposed film substrate that is not covered with the wiring pattern, and to eliminate complicated process management.
配線パターンで覆われておらず露出している部分のフィルム基材のポリイミド表面に、部分的な剥れやシワが散発的に発生することを防いで、配線パターン間の耐マイグレーション性を確保する。 - 特許庁 - A semiconductor chip 3 is provided in a manner that a drain formed on its bottom is in contact with the conductor pattern 2a and a source formed on its upper surface is in contact with a heat spreader 5.
半導体チップ３は、その底面に形成されているドレインが導体パターン２ａに接触し、その上面に形成されているソースがヒートスプレッダ５に接触するように設けられている。 - 特許庁 - A diffusion surface DF is formed on a condensing lens 65k,l corresponding to a specified pattern 67k,l for measurement lighted by illumination light with the illuminance distribution thereof uneven as compared with other patterns.
また、他のパターンに比べて照度分布が不均一な照明光によって照明される特定の計測用パターン６７_k,lに対応する集光レンズ６５_k,lに拡散面ＤＦが形成されている。 - 特許庁 - The photonic crystal region 21 is formed as a first pattern along one front surface of the active layer 14 and includes a plurality of grooves 23 arranged in parallel keeping an interval in accordance with the wavelength of the excited laser beam.
フォトニック結晶領域２１は、第１のパターンとして、活性層１４の一表面沿いに形成され、励起光の波長に応じた間隔で平行に配列された複数の溝２３を含む。 - 特許庁 - With a resist 7 pattern-formed in advance on a synthetic resin layer 2 above an electrode pad 3, an antireflection film 8 is removed together with the resist 7 so that a surface of the synthetic resin layer 2 is exposed.
電極パッド３の上方の合成樹脂層２上にレジスト７を予めパターン形成し、レジスト７とともに反射防止膜８を除去することにより、合成樹脂層２の表面を露出させる。 - 特許庁 - To form an excellent circuit pattern on an insulating inorganic substrate by an electrophotography method by coating the surface of conductive powder with resin.
導電性粉末の表面を樹脂被覆してなり、電子写真法により絶縁性無機質基体上に良好な回路パターンを形成することができるカプセル化粒子、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the substrate for pattern formation includes forming a coating of ≥1 to <10 nm in film thickness after drying by coating a substrate with a solution containing a surface treating agent having a specific structure.
基板上に、特定の構造を有する表面処理剤を含む溶液を塗布し、乾燥後膜厚が１ｎｍ以上１０ｎｍ未満である塗膜を形成するパターン形成用基板の製造方法。 - 特許庁 - The circuit board comprises an insulation film 2 of a metal compound silicon nitride and an aluminum wiring pattern 3 formed on the surface of a magnesium alloy-made and arbitrary three-dimensional-structured metal base 1.
マグネシウム合金からなる任意の３次元構造の金属ベース１の表面に、金属化合物たるチッ化ケイ素の絶縁皮膜２とアルミニウム配線パターン３とが形成された金属製回路基板とする。 - 特許庁 - A polyamide acid solution containing metal ions is applied to the mold having an uneven pattern and is dried to form a polyamide acid layer, which in turn is released from the mold to obtain a polyamide acid film having an uneven surface.
凹凸パターンを有する鋳型に、金属イオン含有ポリアミド酸溶液を塗布し、乾燥させてポリアミド酸層を形成した後、これを鋳型から剥離して凹凸面を有するポリアミド酸フィルムとする。 - 特許庁 - This semiconductor photoelectric cathode C is further has a backward mesa inclined surface area MA where the width of the other direction [01-1] of the pattern of the semiconductor layer 14 is decreased toward the electron emission layer 13.
この半導体光電陰極Ｃは、電子放出層１３に向かうに従って半導体層１４のパターンの他方向［０１−１］の幅が狭くなる逆メサ斜面領域ＭＡを更に備えている。 - 特許庁 - Next, a plasma treatment is carried out using a treatment gas containing either hydrogen, nitrogen, or oxygen to delaminate the resist pattern 208 and remove impurities mixed in a surface layer of Cu.
続いて、水素、窒素または酸素のいずれかの元素を含む処理ガスを用いプラズマ処理を行ない、レジストパターン２０８を剥離すると同時に、Ｃｕの表層に混入している不純物を除去する。 - 特許庁 - The object lens 10 a single lens made of resin with aspheric surfaces on both sides, and a diffraction lens structure of a concentric ring belt pattern is formed centering the optical axis on one lens surface 11.
対物レンズ１０は、両面が非球面である樹脂製単レンズであり、一方のレンズ面１１に光軸を中心とした輪帯状のパターンとして回折レンズ構造が形成されている。 - 特許庁 - The semiconductor device is provided, on the rear surface thereof, with insular land electrodes connected electrically with the semiconductor device, and a frame-like connection pattern surrounding the outer circumference of the insular land electrodes.
半導体装置の裏面を、半導体装置と電気的に接続する島状のランド電極と、その島状のランド電極の外周を取り囲む枠状の接続パターンを設けた構成とする。 - 特許庁 - To provide a container to be heated by microwaves capable of making a heating pattern corresponding to a different food material for heating or not heating by selectively browning its surface or the like.
異なる食材に応じた加熱パターンとすることができ、その表面に選択的に焦げ目等をつけて加熱、或いは非加熱処理を行うことができるマイクロ波加熱用容器を提供する。 - 特許庁 - A plurality of projected electrodes 5 are formed on a wiring pattern formed on the surface 1a of a substrate 1 so that their centers may become coincident with the cutting lines 6 of the substrate 1 (electrode forming step).
基板１の表面１ａに形成された配線パターン上には、複数の突起電極５が、その中心が基板１の切断ライン６に一致するように形成される（電極形成工程）。 - 特許庁 - The surface treatment method comprises bringing a resist pattern formed from a resin containing a specific lactone structure and a compound having two or more nucleophilic functional groups per molecule into a solid phase-gas phase reaction.
特定のラクトン構造を含有する樹脂によって形成されたレジストパターンと、一分子中に二個以上の求核性官能基を有する化合物とを固相−気相反応させる表面処理方法。 - 特許庁 - Growth of at least one zinc oxide nanostructure is induced on the catalyst metal substantially over the pattern on the surface of the substrate based on a vapor-liquid-solid technique.
気相−液相−固相法に基づいて、実質的に、基板の表面上のパターンの上において、触媒金属上に少なくとも１つの亜鉛酸化物のナノ構造の成長が引き起こされる。 - 特許庁 - Regardless of the conductivity of the adhesive 33, a grounding electrode of a back surface 11c of the slider 11 is surely grounded and connected through the pattern 32 and the flexure.
接着剤３３が導電性を有するものか否かにかかわらず、磁気ヘッドスライダ１１の背面１１ｃの接地用電極を、導電パターン３２およびフレクシャー１２Ａを介して、確実に接地接続できる。 - 特許庁 - To provide a transfer film for forming an electrode capable of forming an electrode pattern of good surface smoothness and superior electrical conductivity and the electrode for a plasma display panel provided by using the same.
表面平滑性が良好で優れた導電性を有する電極パターンが形成可能である電極形成用転写フィルムおよびそれを用いて得られるプラズマディスプレイパネル用電極を提供すること - 特許庁 - A step of subjecting a semiconductor device pattern used for performing etching on or impurity injection into a photoresist layer, formed on the surface of a silicon wafer 103 to reduction exposure includes the formation of a reference chip.
シリコンウエハ１０３表面に形成したフォトレジスト層に、エッチングまたは不純物注入を行うための半導体装置パターンを縮小露光する工程が、基準チップ形成処理を含む。 - 特許庁 - To provide a means for easily forming a carbon nanotube pattern by selectively providing chemical bonding power to a desired part, and also to provide a carbon nanotube layer of excellent surface bonding power.
所望の部位に選択的に化学的結合力を有するようにして、より容易にカーボンナノチューブパターンを形成する手段を提供し、また、表面接合力に優れたカーボンナノチューブ層を提供する。 - 特許庁 - To prevent head crash due to the abnormal peeling and swelling of a lubricative layer on the surface of a magnetic disk in the production of the magnetic disk adaptable to high density recording and reproduction and having a previously formed magnetic recording pattern.
高密度記録再生に対応した予め磁気記録パターンを形成した磁気ディスクの製造において、磁気ディスク表面の異常な潤滑層の剥がれ、盛り上がりによるヘッドクラッシュを防止する。 - 特許庁 - And the mounting surface 6 is provided with package forbidden regions 51a-51d, in which a circuit pattern is not formed, in four corners, and a chip mounting region 50, in which a semiconductor chip is mounted, in a center portion.
そして半導体実装面６は、４隅に配線パターンの形成されないパッケージ禁止領域５１ａ〜５１ｄを備え、中央部に半導体チップが実装されるチップ実装領域５０を備える。 - 特許庁 - The number of moire pattern is then expressed in terms of a dimensional gap due to the characteristics of an image output unit or a sheet and representative of the gap in size between the images on the surface and rear at the time of printing on both sides.
続いて、そのモアレ縞の本数を、画像出力装置や用紙の特性による、両面印刷時における表裏の画像の大きさのずれを表わす寸法ずれ量に換算する。 - 特許庁 - Since the tip 20f of an upper holder piece 20 has the same shape as the tip 30f of a lower holder piece 30, the pattern on the backside as well as the surface of a wafer 50 is not damaged.
上部保持片２０の先端部２０ｆと下部保持片３０の先端部３０ｆとが同形状であるため、ウェハ５０の表面のみでなく裏面側のパターンをも損傷させることがない。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified positive resist composition which ensures small surface roughness and line edge roughness during etching and has excellent resolution and a wide focal-depth range, and to provide a method for forming a resist pattern.
エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide high-performance activated carbon using cocoons, capable of being worked in a plate shape, a cylinder shape, a rod shape or another arbitrary shape according to the usage pattern of activated carbon, and having a large specific surface area.
繭を用い、板状、筒状、棒状のほか、活性炭の使用形態に合わせて任意の形状に加工することができる、高比表面積をもつ高性能活性炭等を提供する。 - 特許庁 - When the push button is pushed down at the time of use, the liquid is injected from the outlet and the injection range of the liquid to be injected is regulated by the regulating surface of the injection guides, by which the injection pattern of a rectangular shape is formed.
使用時に押し釦を押し下げると、吐出口から噴射し、その噴射する液体の噴射範囲を噴射ガイドの規制面で規制して長方形状の噴射パターンを形成する。 - 特許庁 - A concave groove 5 along the pattern of a thin film wiring is formed on the surface of the insulation substrate 1 and banks 2 having side walls opposed to each other on the both sides of the thin film wiring and extending along the both edges of the concave groove 5 are provided.
絶縁基板１の表面に、薄膜配線のパターンに沿った凹溝５を設け、この凹溝５の両縁に沿って薄膜配線の両側に対向する側壁を有して延びるバンク２を備える。 - 特許庁
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